「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 53 54 55 56 57 58 59 60 61 .... 97 98 次へ＞- HYDROPHILIC GROUP-CONTAINING ORGANOSILOXANE-BASED POLYMER COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION AND COATING FILM FOR SUBSTRATE PROTECTION
親水性基を有するオルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION TO BE USED FOR ORGANIC SUBSTANCE LAYER HAVING RUGGED SURFACE PATTERN OF SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT
液晶表示装置用基板の表面凹凸形状を有する有機物層に用いられる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント - 特許庁 - To provide a composition for forming a porous dielectric film and a method for forming a porous dielectric film or its pattern using the same.
多孔性絶縁膜を形成するための組成物及びこれを用いた多孔性絶縁膜またはそのパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a resin for forming an upper layer antireflection film and a composition for forming an upper layer antireflection film and to provide a method for forming a resist pattern.
上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND FOR PHOTORESIST, MONOMERIC COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC PARTS
フォトレジスト用高分子化合物、単量体化合物、感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法 - 特許庁 - In the method for patterning a semiconductor element, a fine pattern is formed according to a BLR (bi-layer resist) process using the negative resist composition.
本発明の半導体素子のパターン形成方法では、ネガティブ型レジスト組成物を使用してＢＬＲ工程によって微細パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which can be developed with a basic aqueous solution and can form a fine pattern without swelling while having practicable sensitivity.
塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The colored curable composition includes a colorant, inorganic particles, and a curable compound and is used for pattern formation by a dry etching method.
着色剤、無機粒子、及び硬化性化合物を含み、ドライエッチング法によるパターン形成に用いられる着色硬化性組成物である。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, MATERIAL FOR SURFACE METAL FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND MATERIAL FOR METAL PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
被めっき層形成用組成物、表面金属膜材料およびその製造方法、並びに、金属パターン材料およびその製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, PRODUCTION OF RESIST PATTERN, PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD AND PRODUCTION OF LEAD FRAME
感光性樹脂組成物層、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法及びリードフレームの製造法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity, high resolution and excellent edge roughness of a line pattern.
高感度かつ高解像度で、ラインパターンのエッジラフネスが優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition allowing development with an alkaline aqueous solution and excellent in resolution, photosensitivity and pattern form even in the case of a thick film.
アルカリ水溶液で現像でき、厚膜でも解像度、感度、パターン形状に優れるポジ型の感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition which ensures a small viscosity change during storage and enables a pattern and a coating film excellent in solvent resistance to be formed.
保存時の粘度変化が小さく、かつ、耐溶剤性に優れたパターンや塗膜を形成できる着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To solve the problem that a colored pattern formed using the conventional colored photosensitive composition has unsatisfactory solvent resistance.
従来の着色感光性組成物では、これを用いて形成された着色パターンの耐溶剤性が十分ではないという問題を解決する。 - 特許庁 - A pattern forming method is also provided in which a substrate is coated with the radiation sensitive resin composition by the spinless slit coat method.
このスピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物を、スリットスコート法により基板に塗布することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - The metal pattern forming composition includes a conductive metal or a conductive metal compound, and a carboxylic acid-amine salt.
本発明によれば、導電性金属または導電性金属化合物、カルボン酸−アミン塩を含む金属パターン形成用組成物が提供される。 - 特許庁 - When the composition is developed with an alkali developer by utilizing solubility difference between deprotected and un-deprotected parts, a fine pattern can be formed.
脱保護された部分と脱保護されない部分の溶解度差を利用してアルカリ現像液で現像すると微細パターンを作ることができる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a short wavelength radiation and excellent in solubility in a developer, sensitivity, pattern shape and etching resistance.
短波長の放射線に対する透明性が高く、現像液に対する溶解性に優れ、感度、パターン形状、エッチング耐性に優れる。 - 特許庁 - To provide a water-repellent composition with which a thin film having a water-repellent hydrophilic pattern can be easily formed by using light having relatively low energy.
比較的低エネルギーの光を用いて、撥水性親水性パターンを有する薄膜を容易に形成できる撥水性組成物を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING RESIN, RESIN MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a resist composition that can give a resist pattern having an excellent exposure margin and a mask error factor and less generation of defects.
優れた露光マージン及びマスクエラーファクターを有し、且つ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a relief pattern from a photosensitive element containing a composition layer capable of being partially liquefied by heating.
加熱によって部分的に液化することができる組成物層を含む感光要素からレリーフパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST COPOLYMER, PRODUCTION OF PHOTORESIST COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト共重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION COMPRISING ORGANIC MOLECULE REVERSIBLY COLORED/DECOLORED BY QUANTUM BEAM IRRADIATION AND PHOTOIRRADIATION OR HEATING, AND NANO-PATTERN FORMATION METHOD
量子ビーム照射と光照射又は加熱により可逆的に着色／脱色する有機分子を含んだ樹脂組成物とナノパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER, MANUFACTURING METHOD OF PHOTORESIST POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体、フォトレジスト重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER, PRODUCTION METHOD OF PHOTORESIST POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMING METHOD OF PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体、フォトレジスト重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁 - ALKALI-SOLUBLE SILOXANE POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, ELECTRONIC CIRCUIT DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法 - 特許庁 - CROSSLINKER POLYMER FOR ORGANIC ANTIREFLECTION FILM, ORGANIC ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN UTILIZING THE SAME
有機反射防止膜用架橋剤重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST STRIPPING LIQUID COMPOSITION FOR SUBSTRATE CONTAINING SILVER AND/OR SILVER ALLOY, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING THE SAME, AND DISPLAY APPARATUS CONTAINING THE SUBSTRATE
銀及び／又は銀合金を含む基板のフォトレジスト剥離液組成物、それを用いたパターンの製造方法ならびにそれを含む表示装置 - 特許庁 - Then, the conductive paste 50 is sintered by heating and pressurizing, and a conductive composition 50 integrated with the conductor pattern 22a is formed.
そして、加熱及び加圧により、その導電ペースト５０を焼結し、導体パターン２２ａと一体化した導電性組成物５０を形成する。 - 特許庁 - A molding that is improved in generation of a spot of a shapeless pattern on the surface of it is obtained through molding by the use of the polycarbonate resin composition.
前記記載のポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形品の表面の無定形模様の汚れが改善された成形品。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive composition which suppresses pattern peeling in development even if exposure energy in exposure is small.
露光時の露光量が少ない場合であっても、現像時におけるパターン剥離の発生が抑制された着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - When the colored photosensitive resin composition is patterned, a colored pattern is formed and a color filter can easily be produced.
この着色感光性樹脂組成物をパターンニングして着色パターンを形成することができ、カラーフィルターを容易に製造することができる。 - 特許庁 - To provide an adhesive photosensitive resin composition excellent in adhesion to a substrate and yellowing resistance and capable of forming a high definition pattern.
基板への密着性や耐黄変性に優れ高精細のパターン形成が可能な、粘着性を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition capable of forming a fine pattern without swellings having practical sensitivy by developing it using a basic aqueous solution.
塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - A pattern forming method is characterized in that a substrate is coated with the radiation sensitive resin composition for the slit spin coat by the slit spin coat method.
このスリットスピンコート用感放射線性樹脂組成物を、スリットスコート法により基板に塗布することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution and a high aspect ratio is formed and which has high sensitivity, and is excellent in storage stability of the liquid.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で液保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and enables to form a thin-film, high-definition pattern with a low resistance value on a glass substrate.
安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which can facilitate pattern formation of an interlayer insulation film having small leake current for a capaditor by photolithography.
リーク電流が小さくフォトリソグラフィーによりキャパシタ用の層間絶縁膜を容易にパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFYING POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, THICK FILM PHOTORESIST LAYERED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL
厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR COLOR FILTER, PHOTOSPACER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PROTECTIVE FILM, COLORED PATTERN, SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE AND DISPLAY DEVICE
カラーフィルター用感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 - 特許庁 - Even when the photosensitive composition also contains a light shielding material, the pattern which has excellent linearity and which is not accompanied with the peeling or the residue, is easily formed.
この感光性組成物が遮光材料を含有する場合でも、直線性が良く、剥がれや残さのないパターンを容易に形成できる。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition which is improved in exposure latitude and line edge roughness performance, and to provide a pattern forming method using the same.
露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能が改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a photoresist composition which prevents the formation of a pattern inclined by an acid in the upper part of a photoresist and the increase of I/D bias.
フォトレジスト上部の酸により傾斜したパターンが形成され、I/Dバイアスが大きくなる点を解決できるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The present invention includes a step for forming a resist pattern by discharging a composition containing photosensitizer on a work under a depressurized atmosphere.
本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁 - The composition for forming a conductive pattern contains a metal colloidal particle, a polymer pigment dispersing agent and a photosensitive resin binder.
金属コロイド粒子、高分子顔料分散剤、及び、感光性樹脂バインダーを含むことを特徴とする導電性パターン形成用組成物。 - 特許庁 - To provide a solvent composition for pattern printing of a plasma display, in which solubility of a resin additive, such as a binder resin, is high and hygroscopicity is low.
バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低いプラズマディスプレイパターン印刷用溶剤組成物を提供する。 - 特許庁 - The lotion coating is applied to the liquid permeable top sheet in a specific pattern, while a plurality of sections of the top sheet does not have lotion composition on them.
ローションコーティングがあるパターンで液体透過性トップシートに適用され、トップシートの複数部分がそれらの上にローション組成物を有しない。 - 特許庁 - COLORED CURABLE COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY INCLUDING THE SAME
紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、それを備えた表示装置。 - 特許庁 - To provide a photosensitive adhesive composition being excellent in pattern forming ability with an alkali developing solution, and having sufficient re-adhesiveness after an exposure.
アルカリ現像液によるパターン形成性に優れ、露光後の十分な再接着性を有する感光性接着剤組成物を提供すること。 - 特許庁
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