「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 次へ＞- To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.
放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.
安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁 - The microcup array is manufactured by (a) coating a male mold where a pattern is preformed with a thermosetting or thermoplastic precursor composition to form a contiguous precursor layer on the male mold; (b) bringing the precursor layer into contact with a transfer sheet; (c) curing the precursor to form a cured microcapsule array; and (d) releasing the microcup array from the mold.
マイクロカップアレイを製造するために、ａ）予めパターン形成した雄型上に熱硬化性または熱可塑性前駆体組成物を被覆して、隣接する前駆体層を雄型上に形成し、ｂ）前駆体層をトランスファーシートと接触させ、ｃ）前駆体を硬化させて、硬化したマイクロカップアレイを形成し、およびｄ）マイクロカップアレイから型をリリースする。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.
ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁 - To provide a composition for resist underlay film which is excellent in adhesiveness with a resist film, can improve the reproducibility of a resist pattern, has durability against an alkali solution used for development or the like and against oxygen ashing upon removing the resist, can form a resist underlay film less in permeation amount of a resist material, and is excellent in storage stability.
レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an illumination ornament structured to receive light from illumination arranged in the inside through stained glass by emphasizing the surface and unique composition and pattern of fieldstone on its surface to utilize its aesthetic property, provided with an air purifying effect by supporting a photocatalyst to the surface of the fieldstone, creating a sick and fairy tale-like atmosphere, and having a healing effect.
自然石の地肌や独特の組成・紋様を表面に強調してその風合いを生かし、内部に設けた照明からの灯りをステンドグラス越しに受けるようにし、かつ自然石表面には光触媒を担持させて空気の清浄化効果を併せ持たせた、シックでかつメルヘンチックな雰囲気を醸しだし、癒し効果も持つ照明置物を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat resistant photosensitive resin composition ensuring little impairment of sensitivity and the rate of a residual film, excellent in elongation percentage, excellent in workability of a relief pattern and excellent also in mechanical properties after curing by using a photosensitive polymer which is a relatively low molecular weight body in a fabrication process to improve suitability to a fabrication process and becomes a high molecular weight body during curing.
加工プロセス時には比較的低分子量体で加工プロセス性を向上させ、硬化過程で高分子量化することにより、感度及び残膜率を殆ど損なうことがなく、伸び率等に優れ、レリーフパターンの加工性に優れ、かつ硬化後の機械特性にも優れた感光性樹脂組成物及びその用途を提供する。 - 特許庁 - Industrial Design shall mean a creation on the shape, configuration, or the composition of lines or colors, or lines and colors, or the combination thereof in a three or two dimensional form which gives aesthetic values and can be realized in a three or two dimensional pattern and can be used to produce a product, good or an industrial commodity and a handy craft.
工業意匠(以下「意匠」という)とは，形状，輪郭又は立体若しくは平面形状における線又は色彩からなる構図若しくは線及び色彩又はそれらの組合せに関する創作であって，美的価値を有し，立体又は平面図形に実現可能で，製品，物品，工業製品又は手工芸品の生産に使用されるものである。 - 特許庁 - The group III nitride semiconductor epitaxial substrate 10 comprises forming an ELO growth layer 4 of the composition of Al_xGa_1-xN (0≤x≤1) on a group III nitride layer 2 formed on a substrates 1, wherein the ELO (Epitaxial Lateral Overgrowth) growth layer 4 is formed using a mask pattern 3 consisting of carbon formed on the group III nitride layer 2.
基板１上に形成されたＩＩＩ族窒化物層２上にＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮ（０≦ｘ≦１）なる組成のＥＬＯ成長層４が形成されてなり、ＥＬＯ（Epitaxial Lateral Overgrowth）成長層４は、ＩＩＩ族窒化物層２上に形成された炭素からなるマスクパターン３を用いて形成されたＩＩＩ族窒化物半導体エピタキシャル基板１０。 - 特許庁 - To provide a polymer suitable for a positive photosensitive resin composition that includes no halogen atoms in its skeleton, is highly transparent to an i-ray from a mercury lamp and highly sensitive, can be developed with a developing liquid (2.38% TMAH aqueous solution) usually employed in a manufacturing process of a semiconductor device, and gives a thermoset relief pattern when cured at 280°C.
骨格中にハロゲン原子を含まず、水銀ランプのｉ線に対する透明性が高く高感度であり、半導体装置の製造工程で通常使用される現像液（２．３８％ＴＭＡＨ水溶液）による現像が可能であり、２８０℃のキュアで熱硬化レリーフパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物に適したポリマーを提供する。 - 特許庁 - The developing liquid composition for a thick-film resist to be used for forming a thick-film resist pattern on a substrate comprises an organic quaternary ammonium base as the main agent and contains at least one kind of defoaming agent selected from among polyethylene oxide compounds, polypropylene oxide compounds and ethylene oxide/propylene oxide adducts.
支持体上に厚膜レジストパターンを形成するために用いられる現像液組成物であって、有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも１種の消泡剤とを含有することを特徴とする、厚膜レジスト用現像液組成物。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition or a transfer material being developable with a low alkaline developing solution even in the case of any of positive type and negative type photosensitive resin compositions or a photosensitive resin layer transfer material, having high resolution giving a pattern having excellent removing solution resistance after heat curing and exhibiting excellent aging stability of a photosensitive material.
ポジ型、ネガ型の何れの感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂層転写材料においても弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度が高く、熱硬化処理後の剥離液耐性に優れたパターンが得られ、かつ感材の経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物或いは転写材料を提供する。 - 特許庁 - An FRP molded object is obtained by laminating a sheet molding compound or bulk molding compound on a prepreg sheet, which is formed by impregnating an organic fiber nonwoven fabric, containing no cellulose component, to which a predetermined pattern is preliminarily applied, with a thermosetting composition through a heat-resistance fiber reinforcing material and heating the formed laminate under pressure.
所定の模様が予め施されたセルロース成分を含まない有機繊維系不織布に熱硬化性組成物を含浸してプリプレグシートを形成し、該プリプレグシート上に耐熱繊維補強材を介してシートモールディングコンパウンドもしくはバルクモールディングコンパウンドを積層し、該積層体を加圧加熱することによって形成したことを特徴とする。 - 特許庁 - A resist pattern swelling material is provided which contains at least any one of a non-ionic interfacial active agent and an organic solvent selected from a group of the alcohol based, chain or cyclic ester based, ketone based, chain or cyclic ether based organic solvents in a water-soluble or alkali- soluble composition comprising a resin and a cross linking agent.
樹脂と架橋剤からなる水溶性，またはアルカリ可溶性組成物において，非イオン性界面活性剤，または，アルコール系，鎖状または環状エステル系，ケトン系，鎖状または環状エーテル系からなる有機溶剤群から選ばれた有機溶剤のうち少なくともどちらか一方を含むことを特徴とするレジストパターン膨潤化材料。 - 特許庁 - The resist pattern forming method includes exposing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing polymer (A), an ethylenically unsaturated compound (B), a photopolymerization initiator (C) and at least one compound (D) selected from perylene, naphtho[2,3-a]pyrene, benzopyrene, dibenzo[b,def]chrysene and 9,10-diphenylanthracene with a laser exposer having an exposure wavelength of 390-420 nm.
カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び、ペリレン、ナフト〔２，３−ａ〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔ｂ，ｄｅｆ〕クリセン、９，１０−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が３９０〜４２０ｎｍのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a lead-free precipitation type solder composition of tin and silver or copper in which the liberation precipitation of silver and/or copper is suppressed, and the reduction precipitation of silver or copper is prevented, and which can form suitable lead-free solder on the surface of a conductor of a circuit pattern.
錫と銀又は銅との鉛フリーの析出型はんだ組成物において、銀及び／又は銅の遊離析出を抑制すると共に、銀又は銅が還元析出するのを防止し、回路パターンの導体表面に適切な鉛フリーはんだを形成することのできる析出型の鉛フリーはんだ組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which, as a chemically amplified resist, is high in transparency to radiation and superior in resolution and is not only superior in dry-etching resistance, sensitivity, and pattern shape or the like, but also remarkably improves the yield of semiconductor elements by suppressing the occurrence of development defects during microfabrication.
化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The pattern is obtained by bringing a composition containing a hydrophobic compound having a photoactive group into contact with a support having the surface where a hydrophilic graft chain is present, imparting imagewise energy to fix the hydrophobic compound to form a hydrophilic/ hydrophobic region, and adsorbing a conductive material to the hydrophilic region.
親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親／疎水性領域を形成し、該親水性領域に導電性材料を吸着させてなることを特徴とする。 - 特許庁 - To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.
活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive siloxane composition which is used in formation of a planarizing film for a thin film transistor (TFT) substrate having such properties as high transmittance, heat resistance and insulation, an interlayer insulation film of a semiconductor device, or a core or cladding material of an optical waveguide, and which has high sensitivity, shortens developing time, and gives a pattern film readily soluble in an alkaline aqueous solution.
高い透過率、耐熱性、絶縁性の特性を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材などの形成に用いられる、高感度で現像時間を短縮でき、パターン膜がアルカリ水溶液に容易に溶解する感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when F_2 excimer laser light (157nm) is used and ensuring improved line edge roughness, few development defects and improved heat resistance of a resist pattern formed on a substrate.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及び基板上に形成されたレジストパターンの耐熱性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - To provide an antireflection film which has a high antireflection effect, with which a photoresist pattern having no large footing in the lower part can be formed without causing to intermix with a photoresist, and which can be used for lithographic processes using irradiation light such as an ArF excimer laser and a F2 excimer laser, and to provide a composition for forming the antireflection film.
反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、下部に大きなすそ引き形状を有さないフォトレジストパターンを形成することができ、ＡｒＦエキシマレーザー及びＦ２エキシマレーザー等の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜、及び該反射防止膜を形成するための反射防止膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁 - The resist pattern forming method includes: at least a resist film forming step of forming a resist film by applying and heating the resist composition on a surface to be processed; an irradiation step of selectively irradiating the resist film with ionizing radiation; a heating step of hating the resist film irradiated with the ionizing radiation; and a development step of developing the resist film.
本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工面上に、本発明の前記レジスト組成物を塗布し加熱してレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対して、電離放射線を選択的に照射する電離放射線照射工程と、電離放射線が照射された該レジスト膜を加熱する加熱工程と、現像する現像工程とを少なくとも含む。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition suitably used for a surface protective film, an interlayer insulating film, and an insulating film for high-density mounting board, which has high solubility to general solvents and satisfactory sensitivity to g-ray and h-ray, can respond to highly thick application and alkali development, form a pattern of high resolution, and provide a cured product with high film remaining rate.
一般的な溶剤に対する溶解性が高く、ｇ線、ｈ線に対する感度が良好で、高膜厚塗布及びアルカリ現像が可能であるとともに、解像度の高いパターンを形成することができ、残膜率が高い硬化物を得ることが可能な、表面保護膜、層間絶縁膜、及び高密度実装基板用絶縁膜用途に適した感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, excellent in adhesion to a substrate, capable of obtaining a satisfactory spacer shape and film thickness under an exposure energy of ≤1,500 J/m^2, excellent also in strength and heat resistance, and excellent in controllability of spacer shape and film thickness in a low exposure energy region.
高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、１，５００Ｊ/ｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、また強度、耐熱性等にも優れ、低露光量領域におけるスペーサーの形状、膜厚の制御性に優れている感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - In the optical waveguide, which includes a substrate 1, a cladding layer 2 formed on the substrate 1, and a core 3 formed in a predetermined pattern in the cladding layer 2 for transmission of an optical signal, at least one of the cladding layer 2 and the core 3 is formed of the resin composition for the optical waveguide, including a special epoxy compound [(A) component] and a photoacid generator [(B) component].
基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路において、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方を、特殊なエポキシ化合物〔（Ａ）成分〕および光酸発生剤〔（Ｂ）成分〕を含有する光導波路用樹脂組成物で形成する。 - 特許庁 - A semiconductor device comprises a polyorganosiloxane-cured relief pattern obtained by a method comprising a step of applying a certain polyorganosiloxane composition to obtain a coating film on a substrate; a step of irradiating the coating film with an active ray through a patterning mask to photo-cure an exposure part; a step of removing an uncured part of the coating film by using a developer; and a step of heating each of the substrates.
基材上に、特定のポリオルガノシロキサン組成物を塗布して塗布膜を得る工程、 パターニングマスクを介して該塗布膜に活性光線を照射し露光部を光硬化させる工程、現像液を用いて該塗布膜の未硬化の部分を除去する工程該基材ごと加熱する工程からなる方法によって得られるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンを含む半導体装置。 - 特許庁 - The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上０．００５〜１．０Ｊ／ｃｍ^２照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁 - A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.
（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁 - The pattern forming method uses the composition.
（Ａ）フッ素原子及び脂環構造を有する特定の基を側鎖に有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）酸の作用により水を発生する化合物、（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a colored curing composition for a solid image pickup device capable of forming a cured film of high chroma saturation which is restrained in the precipitation of needle crystal of the cured film even if it contains polyhalogenated zinc phthalocyanine as a coloring agent, a color filter for a solid image pickup device restrained in the generation of needle-like foreign matter and equipped with a good rectangle color pattern, and a method of manufacturing the same.
着色剤としてポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含有する場合であっても、硬化膜の針状結晶の析出が抑制された高彩度の硬化膜を形成しうる固体撮像素子用着色硬化性組成物、針状異物の発生が抑制され、良好な矩形状の着色パターンを備える固体撮像素子用カラーフィルタ、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a polyimide having a hydroxyamide group, and high transmissivity of h-ray (405 nm) or g-ray (435 nm), a precursor thereof, a positive-type photosensitive resin composition containing a diazonaphthoquinone-based photosensitizer, and a polybenzoxazole-imide obtained through an alkali development, washing and thermal dehydration cyclization reaction steps after pattern exposure thereof, and useful as a protective membrane of a semiconductor element.
ｈ線（４０５ｎｍ）またはｇ線（４３５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有ポリイミドまたはその前駆体およびジアゾナフトキノン系感光剤を含有して成るポジ型感光性樹脂組成物、およびこれをパターン露光後、アルカリ現像・洗浄・加熱脱水環化反応工程を経て得られる、半導体素子の保護膜として有用なポリベンゾオキサゾールイミドの提供。 - 特許庁 - To provide an imprint mold structure which efficiently and uniformly transfers a pattern by enhancing flow of a composition of an imprint resist layer when the imprint mold structure is pressed against the imprint resist layer, an imprint method which is improved in transfer accuracy by using the imprint mold structure, and a magnetic recording medium which is improved in recording and reproduction properties.
インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁 - In this method for producing a liquid crystal display device which holds a liquid crystal composition 300 between an array substrate 100 and a counter substrate 200, a colored photoresist is disposed on the array substrate 100 and is exposed with illuminance of ≥200 mW/cm2 via a mask, the exposed colored photoresist is developed and a columnar spacer 180 of a prescribed pattern is formed.
アレイ基板１００と対向基板２００との間に液晶組成物３００を挟持した液晶表示装置の製造方法において、アレイ基板１００上に着色されたフォトレジストを設け、マスクを介して着色フォトレジストを２００ｍＷ／ｃｍ^２以上の照度で露光し、露光された着色フォトレジストを現像することにより、所定のパターンの柱状スペーサ１８０を形成する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing a semiconductor device, a resist film is formed on a substrate whose surface has steps and has a sticking or penetrated organic removing liquid using the chemically amplified photoresist composition to which a basic compound has been added by 1-100 mmol per 100 g base resin and a resist pattern is formed by exposing a prescribed region of the resist film.
半導体装置の製造方法において、表面に段差を有するとともに有機剥離液が付着若しくは染み込んだ基板上に、ベース樹脂１００ｇ当たり塩基性化合物を１〜１００ｍｍｏｌ添加した化学増幅型フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を成膜し、前記レジスト膜の所定の領域を露光することによってレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.
特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - The pattern forming method is characterized in that a thin film of 20 to 150 nm in film thickness consisting of a radiation-sensitive resin composition which comprises (A) an alkali-insoluble or alkali-hardly soluble resin having specified repetitive units and (B) a radiation-sensitive acid producing agent which produces acids by irradiation with radiation is formed on a substrate and then irradiated with radiation to perform development.
（Ａ）特定の繰り返し単位とを有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、並びに（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物からなる膜厚２０〜１５０ｎｍの薄膜を基板上に形成し、放射線を照射し、現像することを特徴とする、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device with a polyimide film formed from a photosensitive resin composition which can simplify part of pattern forming steps, shortens the steps, does not swell in development, can be developed with an aqueous alkali solution which is safe in operation, can be cured at a lower temperature, has a high film leaving property after curing and is excellent in dimensional stability.
パターン作成工程の一部が簡略化でき、工程短縮が可能となるのみならず、現像時の膨潤がなく、作業上安全なアルカリ水溶液で現像が可能であり、またより低温でのキュアーが可能であり、かつキュアー後の残膜性が高く寸法安定性に優れることを特徴とする感光性樹脂組成物から形成されるポリイミド膜を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution of a resist pattern after development, generating little scum in a developing stage, having excellent contrast after exposure, forming peeled pieces having small sizes, giving a cured film having excellent softness and useful as a DFR for the preparation of a substrate for an alkali-developing printed circuit board, a lead frame and a semiconductor package.
感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、露光後のコントラスト性に優れ、剥離片サイズが微小であり、硬化膜柔軟性に優れ、アルカリ現像型プリント配線板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat sterilization packaging laminated material of extremely superior heat sterilization adaptability in which a phenomenon such as interlaminar delamination is not recognized when the retort heat sterilization treatment, the boiling heat sterilization treatment or the like is applied to a packaged product filling and packaging a content by using a laminated material with a printed pattern layer formed of an aqueous ink composition.
水性インキ組成物による印刷模様層を設けた積層材を使用して内容物を充填包装した包装製品をレトルト加熱殺菌処理あるいはボイル加熱殺菌処理等を施しても、層間剥離（デラミネ−ション）等の現象が認められず、極めて優れた加熱殺菌処理適性を有する加熱殺菌包装用積層材を提供することである。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified positive resist composition which is suitable for excimer laser lithography with KrF, ArF, etc. is good in various resist performances such as sensitivity and resolution, and suppresses lowering of the smoothness of a pattern wall surface by a stationary wave effect caused particularly in application to a highly reflective substrate or by reduction in the thickness of a resist film.
ＫｒＦやＡｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に高反射基板への適用時に生じる又はレジスト膜厚の薄膜化によって生じる、定在波効果によるパターン壁面の平滑性の低下を改善したポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.
活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - The resist pattern forming method includes steps of applying a chemically amplified resist composition on a base 1 to form a resist film 2 and selectively exposing the resist film 2 through a photo mask 5 a plurality of times, wherein a total of transmissivity of a light-shielding part of the photo mask 5 used for each of selective exposures is 0 to less than 12%.
支持体１上に、化学増幅型レジスト組成物を塗布してレジスト膜２を形成し、当該レジスト膜２に対して、フォトマスク５を介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎に用いられるフォトマスク５の遮光部の透過率の総和を０〜１２％未満とすることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - Further, an optical waveguide comprising a substrate plate 1 and a cladding layer 2 formed on the substrate plate 1, and formed with a core part 3 having a prescribed pattern and transmitting light signals, in the cladding layer 2 is provided with that at least one of the cladding layer 2 and core part 3 is formed by a resin composition containing the tetrakis-oxetane ether compound having the fluorene structure.
さらに、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁 - To provide a solvent composition for manufacturing a laminated ceramic component, capable of allowing binder resins such as ethyl cellulose to sufficiently exert binder performance, capable of accurately forming a fine pattern or a thin film without causing erosion to a member having a surface to be coated, and easy in performing evaporative drying, so that production efficiency of a laminated ceramic component can be remarkably increased.
エチルセルロース等のバインダー樹脂のバインダー性能を十分に発揮させることができ、被塗布面部材への侵食を生じることなく微細パターン又は薄膜を精度良く形成することができ、且つ、蒸発乾燥が容易で積層セラミック部品の生産効率を著しく向上させることができる積層セラミック部品製造用溶剤組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosetting-thermosetting resin composition for an optical waveguide material for easily forming a pattern with the existing alkali developing equipment, usable also as a solder resist because of excellence in shock and heat resistances, adhesion, cracking resistance, etc., ensuring a small optical loss, and usable for various optical integrated circuits or optical wiring boards, and to provide a cured material thereof and a optoelectronic packaging substrate.
既存のアルカリ現像設備で容易にパターン形成でき、耐衝撃性、耐熱性、密着性、クラック耐性等に優れることらソルダーレジストとしても利用可能であり、かつ光損失が少なく種々の光集積回路または光配線板に利用できる光導波路材料用の光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化物並びに光・電気混載基板を提供する。 - 特許庁 - In a stamper 3 for minute pattern transfer having a minute structure layer 2 on a support base 1, the minute structure layer 2 is a polymer of a resin composition including a silsesquioxane derivative having a plurality of polymerizable functional groups (functional groups selected from among a vinyl group, an epoxy group, an oxetanyl group, a vinyl ether group and a (meta)acrylic group) as a primary component.
本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基（ビニル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基及び（メタ）アクリル基から選ばれる官能基）を有するシルセスキオキサン誘導体を主成分とする樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 - 特許庁 - The thermoplastic elastomer layer 12 is formed in a convex-concave shape by a substrate part 121 which is formed in a mesh pattern by a thermoplastic polyurethane composition comprising a mixture of thermoplastic polyurethane and thermoplastic polyurethane vulcanized dynamically by silicone and a plural of penetrating hole parts 122 formed in holes penetrating the rugged substrate part 121, which is installed in almost same interval in the rugged substrate part 121.
熱可塑性エラストマー層１２は、熱可塑性ポリウレタンとシリコン動的加硫熱可塑性ポリウレタンとの混合物からなる熱可塑性ポリウレタン組成物によりメッシュ形状に形成された凹凸基部１２１と、この凹凸基部１２１に略等間隔で設けられ凹凸基部１２１を貫通する孔状に形成された複数の貫通孔部１２２と、により、凹凸状に形成されている。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁 - To solve the technical problem in microfabrication of a photomask and semiconductor element, especially providing a chemically amplified positive resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution (for instance, high resolution power), excellent exposure latitude (EL) and excellent line edge roughness (LER) simultaneously, and a resist film, a resist-coated mask blank and a resist pattern forming method using the same.
フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
