「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 次へ＞- To provide a radiation-sensitive resin composition capable of improving hydrophilicity during alkali development while securing hydrophobicity in immersion exposure, suppressing a development defect of a non-exposure part, and providing a resist coating film excelling in a pattern shape after development.
液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition for treating a photoresist pattern to be used in a double patterning process in photolithographic patterning techniques such as lithography-lithography-etching and self-alignment spacer double patterning, and for a reduction process useful to form a contact hole and a groove.
フォトリソグラフィパターニング技術、例えば、リソ−リソ−エッチおよび自己整合スペーサーダブルパターニングのようなダブルパターニングプロセスなどに、並びに、コンタクトホールおよび溝形成において有用な縮小プロセスに使用されうるフォトレジストパターンを処理するための組成物およびこの組成物を使用する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive inorganic paste composition capable of improving pattern accuracy to such a degree that it can be adapted to fine patterning required by a plasma display; a sheetlike unfired body for production of a plasma display front panel using the same; and a method for producing a plasma display front panel.
プラズマディスプレイの要求する微細パターニングに十分に適合できる程度にまでパターン精度を向上させることのできる感光性無機ペースト組成物、これを用いたプラズマディスプレイ前面板製造用シート状未焼成体、および、プラズマディスプレイ前面板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.
（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁 - To provide an inorganic powder-containing resin composition which is capable of forming a component of a FPD excellent in pattern form (e.g., a dielectric layer, a partition, an electrode, a resistor, a phosphor, a color filter, or a black matrix) without deteriorating flammability or development speed.
燃焼性や現像速度を低下させることなく、パターン形状に優れたＦＰＤの構成要素（例えば誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin that even if developing time exceeds the optimum time in a development step, a good pattern profile can be formed, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - A color filter (1) is manufactured by applying the coloring photosensitive resin composition after preservation on a substrate (3), forming a coloring photosensitive layer (4) by removing the solvent, exposing and subsequently developing the coloring photosensitive layer (4) so as to form a coloring pattern (2).
保存後の着色感光性樹脂組成物を基板(３)の上に塗布し、溶剤を除去して着色感光性層(４)を形成し、該着色感光性層(４)を露光したのち、現像することで着色パターン(２)を形成することができ、カラーフィルター(１)を製造することができる。 - 特許庁 - To provide a monomer for producing a resin for a resist, the resin being used in a photosensitive composition which can form a resist pattern having high dry etching resistance and excellent transparency to short wavelength light, good resolving properties with an alkaline development, and high adhesiveness.
短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂を製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁 - To provide a composition for a resist lower layer film excellent in storage stability for obtaining a resist lower layer film which suppresses resist peeling, improves reproducibility of a pattern, and has alkali resistance and resistance to oxygen ashing in resist removal, by disposal under a resist.
レジストの下層に設けることにより、レジストはがれがなくパターンの再現性を向上させ、アルカリおよびレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を得るための、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant.
露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition for a lift-off process which facilitates resist stripping by ozone water without using an organic solvent and facilitates formation of a wiring pattern with high processability and reliability by a lift-off process, for example, on a semiconductor substrate or a liquid crystal substrate.
有機溶媒を使用することなくオゾン水によりレジスト剥離を容易に行うことができ、例えば半導体用基板や液晶用基板上に、リフトオフ法により加工性および信頼性の高い配線パターンを形成することを可能とするリフトオフ用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern by photolithography and forming an insulating film without performing heat treatment at >200°C and having no problem that a carrier is trapped and the degree of charge transfer is reduced when used as a gate insulating film of an organic thin film transistor.
フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a black curable composition for a wafer-level lens that forms a cured film with excellent light shielding properties and exhibiting excellent sensitiveness necessary for curing in pattern formation, and an easy-to-produce wafer-level lens with light quantity properly adjusted by the presence of a light shielding film.
遮光性に優れた硬化膜を形成することができ、パターン形成時の硬化に必要な感度に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供し、遮光膜の存在により光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of improving electric performance by reducing a surface resistivity of a conductive composition pattern-formed on a base material and containing a silver particle and a resin binder after formation, and to provide a method of manufacturing an electromagnetic shielding material utilizing the same.
基材上にパターン状に形成された銀粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物層について、形成後にその表面抵抗率を下げて電気的性能を向上させる方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - The positive photosensitive resin composition is applied onto the interlayer insulating film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, dried, irradiated with light through a mask patterned to form windows 6c in predetermined parts, and developed with an aqueous alkali solution to form a pattern.
本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition, obtaining a cured film having superior solvent resistance and heat resisting transparency, having high sensitivity and hardly causing a change in a pattern shape to a change in exposure quantity, and to provide a cured film, a method of manufacturing the same, an organic EL display device and a liquid crystal display device.
耐溶剤性及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られ、高い感度を有するとともに、露光量の変化に対するパターン形状の変化が小さい感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置、並びに、液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁 - This method includes: a molding step of molding the cement composition with a groove portion with the joint-like pattern in a predetermined range of a surface; a painting step of painting at least an area except the groove portion in the predetermined range; and a filling step of filling the groove portion with a joint material.
表面の所定範囲に目地状模様の溝部を有したセメント組成体を成形する成形工程と、前記所定範囲の少なくとも前記溝部以外の領域を塗装する塗装工程と、前記溝部に目地材を充填する充填工程と、を有する。 - 特許庁 - To provide such a radiation sensitive composition with a variable dielectric constant that the dielectric constant of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied dielectric constant is sufficiently large, and a stable dielectric pattern or an optical material can be obtained without depending on the use conditions in the succeeding process.
材料の誘電率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した誘電率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な誘電率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、誘電率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation-sensitivity, has a developing margin capable of forming a superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in a developing process and that can easily form a patterned thin film that is superior in adhesiveness.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive siloxane composition having high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, capable of forming a cured film with a pattern having high chemical resistance and good resolution, and being used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or cladding material of an optical waveguide.
高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ耐薬品性が高く、良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁 - To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in compatibility of an ink repellent, ensures good surface appearance and pattern shape after film production, exhibits excellent surface ink repellency, and can retain the surface ink repellency even after usual cleaning and after a lapse of time.
撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるアルカリ現像感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a curable composition for imprints that exhibits good patternability in transferring high-aspect patterns or repeatedly transferring patterns and, particularly, repeatedly transferring high-aspect patterns, to provide a patterning method using the same, and to provide a pattern obtained by the patterning method.
高アスペクトパターンを転写する際、または繰り返しパターン転写を行う際、更には高アスペクトパターンを繰り返し転写する際に良好なパターン形成を有するインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンの提供。 - 特許庁 - To provide a photopolymerizable composition forming a cured film that has high sensitivity, excellent curability with respect to the inner part of the film, and excellent adhesion to a supporting body, maintains a patterned shape even during post-heating after development, has good pattern formability, and is suppressed in coloring due to heating or passage of time.
感度が高く、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、現像後の後加熱時においてもパターン形状が保持され、良好なパターン形成性を有し、且つ、加熱経時による着色が抑制された硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁 - The film for forming a resist pattern by ionizing radiation lithography has at least one upper layer on a resist layer formed on a substrate and a composition in the upper layer contains an amphiphilic polymer selected from polyvinyl alcohol, polyvinylamine, polyallylsulfonic acid, cellulose, etc.
電離放射線リソグラフィーよるレジストパターンの形成用膜において、基板上に形成したレジスト層上に少なくとも一層の上層を有し、上層中の組成物にはポリビニルアルコール、ポリビニルアミン、ポリアリルスルホン酸、セルロースなどから選ばれた両親媒性ポリマーを含有するレジストパターン形成用膜。 - 特許庁 - To provide a colored curable composition having excellent shelf stability and curing properties even when pigment concentration is high and capable of forming a colored film having excellent adhesiveness to a substrate and development properties, to provide a color filter having a satisfactory pattern shape and to provide a method for manufacturing the same.
顔料濃度が高い場合でも、保存安定性、及び硬化性に優れ、且つ、基板との密着性、及び現像性に優れた着色膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供し、良好なパターン形状を有するカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A method includes: providing a semiconductor including a front side, a back side, and a PN junction, the front side including a pattern of conductive tracks including an underlayer and the back side including metal contacts; contacting the semiconductor with a monovalent copper plating composition; and plating a copper layer on the underlayer of the conductive tracks.
前面、裏面およびＰＮ接合を含む半導体を提供し、下層を含む導電トラックのパターンを前記前面が含み、かつ前記裏面が金属接点を含んでおり；前記半導体を一価銅めっき組成物と接触させ；並びに導電トラックの下層上に銅をめっきする。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.
電子線又はＸ線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中ＰＥＤとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにＥＵＶ光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a compound having a sulfonyl structure, giving excellent resist pattern and useful as an acid generating agent sensitive to active radiation such as far ultraviolet radiation, a radiation-sensitive acid generating agent produced by using the compound and a positive-type or negative-type chemical- amplification radiation-sensitive resin composition.
遠紫外線等の活性放射線に感応する酸発生剤として有用で、優れたレジストパターンを可能にするスルホニル構造を有する化合物、それを用いた感放射線性酸発生剤並びに化学増幅型のポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a thermosetting resin composition which can be suitably used as an electronic material, especially as a covering material for covering a conductor circuit pattern, is excellent in low-temperature curability and low stress property, has adhesiveness and flexibility, and is especially excellent in electric insulation reliance.
本発明は、電子材料、特には、導体回路パターンを被覆するための被覆形成材として好適に用いることができる、低温硬化性、低応力性能に優れ、接着性や屈曲性も兼ね備え、電気絶縁信頼に特に優れた熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁 - This substrate 1 with electrodes has a plurality of electrodes 20 formed on a substrate 10 by a predetermined pattern; and, in each electrode 20, side surfaces 21 thereof or the side surfaces 21 and parts in the vicinities thereof have a composition different from that of the other part 23 and are formed into insulation parts 22 having insulating properties.
電極付き基板１は基板１０上に所定のパターンで形成された複数の電極２０を有するもので、電極２０は側面２１若しくは側面２１及びその近傍部分が他部分２３と異なる組成を有し絶縁性を有する絶縁部２２となっている。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.
ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist polymer capable of obtaining a resist composition which excels in a pattern shape, resistance to dry etching, line width stability against the change in heating temperature after exposure and the like and has sufficient sensitivity and an excellent image resolving degree, and a resist monomer for obtaining the polymer.
パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。 - 特許庁 - To obtain a positive type resist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light (193 nm wavelength) and ensuring superior resolving power and pattern profile even if plenty of time passes until post- heating after exposure.
遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにあって、十分な感度及び解像力を有し、露光した後の後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition for a resist underlayer film excellent in storage stability and capable of forming a resist underlayer film excellent in adhesion to a resist film, improving the reproducibility of a resist pattern and having resistance to an alkali solution used for development and to oxygen ashing in resist removal.
レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an active energy ray-curable resin composition capable of easily producing a cured product having high surface hydrophilicity despite having unswelling tendency to water and giving extremely fine structure through active energy ray pattern exposure.
本発明が解決しようとする課題は、水に対して非膨潤性でありながら高い表面親水性を示し、且つ活性エネルギー線のパターン露光によって極めて微細な構造を有する硬化物を容易に形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.
半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The optimum Yes/No type question tree is rapidly prepared by excluding retrieval conditions with no retrieval result existing in a data group to be divided prior to the pattern preparation of the Yes/No type question tree without preparing all the considered question tree composition patterns.
考えられる質問木構成パターンの全てを作成するのではなく、Ｙｅｓ／Ｎｏ型質問木のパターンを作成する前に、分割対象となるデータ群に検索結果が存在しない検索条件を除外し、これによって、最適なＹｅｓ／Ｎｏ型質問木を、高速に作成するシステムである。 - 特許庁 - To provide a negative type resist composition which has superior storage stability for resist liquid and post-exposure temporal stability as well as high sensitivity and high resolving power in pattern formation by irradiation with an electron beam or EUV in microprocessing of a semiconductor element.
半導体素子の微細加工における性能向上及び技術の課題を解決することであり、電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、高い感度及び解像度とともに、レジスト液の保存安定性及び引き置き経時安定性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - On the oriented film, the liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound is applied and is maintained at a temperature exhibiting a liquid crystal phase, and the liquid-crystalline component is aligned in the alignment directions which are different from each other in accordance with the directions of the slow axes 71a, 71b in each region corresponding to the multiple pattern regions.
配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し液晶相を示す温度に保持して、複数のパターン領域に対応する領域毎に、液晶性成分を互いに異なる配向方向７１ａ，７１ｂに配列させる。 - 特許庁 - The multicolor pattern coating composition of this invention is composed by dispersing a coloring paint into an aqueous dispersion medium in particles, wherein the aqueous dispersion medium has the viscosity of 0.1-5.0 Pa s and the specific gravity of 0.95-1.10, and the specific gravity difference of the aqueous dispersion medium and the coloring paint is not more than 0.05.
本発明の多彩模様塗料組成物は、水性分散媒に、着色塗料が粒状に分散されてなり、水性分散媒の粘度が０．１〜５．０Ｐａ・ｓ、比重が０．９５〜１．１０であり、水性分散媒と着色塗料の比重差が０．０５以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a photosetting-thermosetting resin composition from which a cured coating pattern excellent in electroless tin plating resistance is formed without causing problems such as deterioration in tack-free property, its cured material, and a printed circuit board of which the solder resist is formed of the cured material.
指触乾燥性の悪化等の問題を生じることなく、無電解すずめっき耐性に優れる硬化皮膜のパターンを形成できる光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び該硬化物によりソルダーレジストが形成されてなるプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative photosensitive thermosetting coloring resin composition which is excellent in storage stability, can be developed by weak alkalinity developer and generate an image with high resolution, and obtain a thin film pattern with high transparency and sufficient heat-resistance, solvent resistance and insulation after processing a heat curing.
保存安定性に優れ、また弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度の高い画像の形成が可能で、熱硬化処理後に、透明性が高く、耐熱性、耐溶剤性、絶縁性も十分な薄膜パターンが得られるネガ型感光性熱硬化性着色樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an active energy ray-curing color composition developable with an alkali and having improved aggregation force and water proof property by crosslinking of carboxyl groups and hydroxyl groups during post baking without influencing the developing property or pattern adaptability so much, and having excellent adhesion property and PCT (pressure cooker test) durability.
現像性やパターング適性に大きな影響を与えることなく、ポストベーク時のカルボキシル基およびヒドロキシル基の架橋により凝集力と耐水性を向上でき、密着性とＰＣＴ耐性に優れた、アルカリ現像可能な活性エネルギー線硬化性着色組成物の提供。 - 特許庁 - A thermochromic coating composition comprising a silica flake pigment coated with a thermoreversible metal oxide and a vehicle is applied on a heatable base material to give a coating film thereby forming a pattern exhibiting colors reversibly changing depending on whether it is heated or not.
熱可逆性を有する金属酸化物被覆シリカフレーク顔料と、ビヒクルとを含有する組成とした熱変色性塗料組成物を加温可能基材に塗布し、塗膜を形成することにより、加温時、非加温時で可逆性の色を有する模様を形成することができる。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition suitable for the formation of an interlayer insulating film having high heat resistance, high solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant, and having a large development margin that allows formation of a favorable pattern even when a developing time exceeds the optimal developing time in a developing process.
高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率及び低誘電率の層間絶縁膜の形成に好適であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できる大きな現像マージンを有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a resist composition for immersion exposure which inhibits elution into an immersion medium and does not impair the function of resist in an immersion exposure technique, has a high contact angle to the immersion medium, and is capable of forming a fine resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.
液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁 - The nip roller is used for an exposing device for exposing a pattern to a sheet formed by laminating a photosensitive resin composition for forming a color filter on a transparent continuous sheet-like base material, in which the nip roller holding the sheet is formed of a ceramic-metal matrix composite.
透明な連続シート状基材上にカラーフィルター形成用の感光性樹脂組成物を積層したシートにパターンを露光する露光装置に用いられるニップローラであって、該シートを保持する前記ニップローラがセラミックス−金属複合材料で形成されていることを特徴とするニップローラ。 - 特許庁 - To provide a new compound suitable for preparing a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape, and gives good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.
優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.
化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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