「pattern formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 57 58 次へ＞- To achieve high-accuracy pattern formation by preliminarily measuring warpage of a substrate and forming a pattern complying with the amount of warpage in the process of manufacturing a photomask.
フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。 - 特許庁 - To provide a formation method of a fine pattern capable of forming a line pattern having a narrower line width than a resolution limit of an exposure device.
露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The photomask to be used for pattern formation includes a main pattern 101 to be transferred by exposure on a transmissive substrate.
パターン形成に用いられるフォトマスクにおいて、透過性基板の上に、露光により転写される主パターン１０１が設けられている。 - 特許庁 - LAMINATED METALLIC FILM PATTERN STRUCTURE AND PATTERN FORMATION METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE OR SEMICONDUCTOR DEVICE WITH LAMINATED METALLIC WIRING
積層金属膜のパターン構造及びパターン形成方法並びに該積層金属配線を備える液晶表示装置又は半導体装置 - 特許庁 - To inspect a formation defect of a resist pattern formed on an antireflection film by diffracted light of light with which the resist pattern is irradiated.
反射防止膜上に形成されたレジスト・パターンの形成不良を、レジスト・パターンに照射した光の回折光によって検査する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method, a droplet jetting device, and a circuit substrate capable of forming a high-precision pattern for a short time.
高精度のパターンを短時間に形成することができるパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路基板を提供する。 - 特許庁 - To distinguish a transfer material with a pattern formed therein from other pieces of transfer material even when image formation is made with any arbitrary test pattern.
任意にテストパターンを画像形成した場合でも、テストパターンが形成された転写材とその他の転写材とを容易に区別すること。 - 特許庁 - DECORATED BODY PRODUCTION METHOD, PANEL PRODUCTION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMED BODY PRODUCTION METHOD, DECORATED BODY PRODUCTION APPARATUS, AND DECORATION BODY
装飾体の製造方法、パネルの製造方法、パターン形成方法、パターン形成物の製造方法、装飾体の製造装置、装飾体 - 特許庁 - The material pattern formation method by an ink-jet method gives a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.
本発明のインクジェット方式による材料パターン形成方法は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られる。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition causing little pattern collapse for the formation of a fine pattern and having low dependence on the mask covering rate.
微細パターンの形成においても、パターン倒れの発生が少ない、マスク被覆率依存性が小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation process and a liquid droplet discharge apparatus with improved pattern productivity by stabilizing the liquid droplet discharge operation.
液滴吐出動作の安定化を図り、パターンの生産性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming an organic semiconductor pattern which allows the formation of a fine pattern without damaging an organic semiconductor layer.
有機半導体層にダメージを与えることなく微細なパターン形成が可能な有機半導体パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - GENERATION METHOD OF PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM DRAWING, PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD USED FOR THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE DATA
電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a rinse liquid for lithography which can simultaneously improve pattern collapse and melting, and to provide a pattern formation method utilizing the same.
パターン倒れとメルティングとを同時に改良することができる、リソグラフィー用リンス液とそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The formation of the electron channeling pattern by backscattered electrons is related to that of the electron backscatter diffraction pattern by the reciprocal theorem.
後方散乱電子による電子チャンネリングパターンの形成は、相反定理により後方散乱電子回折パターンの形成と関係している。 - 科学技術論文動詞集 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、及び電子部品 - 特許庁 - To provide a positive resist composition and a method for formation of a resist pattern using the positive resist composition.
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - PRODUCTION OF RESIST PATTERN, FORMATION OF BARRIER RIB OF PLASMA DISPLAY PANEL AND PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY PANEL
レジストパターンの製造法、プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの製造法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COATING LIQUID FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMATION, TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
透明導電膜形成用感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法 - 特許庁 - When the pattern formation has been completed, the processes is finished by removing the substrate 50 from the stage 5.
また、パターンが完成した場合は、ステージ５から基板５０を取り外して作業が終了する。 - 特許庁 - REFLOW METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF TFT ELEMENT FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY
リフロー方法、パターン形成方法および液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造方法 - 特許庁 - TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME
上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁 - To efficiently perform image quality adjustment by a test pattern formed in parallel with image formation.
画像形成と並行して形成されたテストパターンによる画質調整をより効率的に行う。 - 特許庁 - FORMATION OF RESIST, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PRODUCTION OF MASK FOR X-RAY EXPOSURE
レジストの成膜方法、レジストパターンの形成方法、およびＸ線露光用マスクの製造方法 - 特許庁 - To provide a pattern formation method which does not need any special mask plate in a light exposure step.
露光工程時において専用のマスク板を必要としないパターン形成方法を提案する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMATION METHOD AND PRINTED SUBSTRATE
感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - To maintain a desired transfer pattern formation accuracy, having almost no adverse effect on throughput.
スループットにほとんど影響を及ぼすことなく、所期の転写パターン形成精度を維持すること。 - 特許庁 - ULTRAVIOLET-CURABLE RESIN COMPOSITION, ULTRAVIOLET- CURABLE SHEET, AND FORMATION OF PATTERN BY USING SAID SHEET
紫外線硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性シート及び該シートを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS, IMAGE FORMATION PROCESSING PROGRAM, AND BINARIZING DITHER MATRIX PATTERN
画像形成方法、画像形成装置、及び画像形成処理プログラム、並びに２値化ディザマトリクスパターン - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of correctly forming a plurality of sparsely and densely arranged patterns.
疎密に配置された複数のパターンを正確に形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, THIN FILM TRANSISTOR, DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THESE DEVICE, AND TELEVISION SET
パターン形成方法、薄膜トランジスタ、表示装置及びそれらの作製方法、並びにテレビジョン装置 - 特許庁 - The synthetic resin emulsion can be put on the part of the curtain base material 11 for the formation of a pattern.
カーテン基材１１に、合成樹脂エマルジョンを部分的に塗布し模様を形成してもよい。 - 特許庁 - Therefore, this process is repeatedly executed at least one time until the pattern formation is completed.
従って、パターンが完成するまで少なくとも１回以上繰り返してこの処理を実行する。 - 特許庁 - To provide a reticle capable of suppressing formation of a large island-like pattern in scribe lines.
スクライブラインに大きな島状パターンが形成されることを抑制できるレチクルを提供する。 - 特許庁 - The indexes are previously determined resting on pattern data formed at the formation of a reticle and given to the exposure system.
指標はレチクル作成時のパターンデータから予め決定して露光装置に与えられる。 - 特許庁 - NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
ネガ型パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - To provide a resist composition suitable for use in fine pattern formation with an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.
電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for performing highly precise treatment to a substrate to be treated.
被処理基板に対して高精度な処理を施すことができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - REFLOW METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF TFT ELEMENT FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
リフロー方法、パターン形成方法および液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造方法 - 特許庁 - (METH)ACRYLATE DERIVATIVE HAVING LACTONE STRUCTURE, POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND FORMATION OF PATTERN
ラクトン構造を有する（メタ）アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - NEW (METH)ACRYLATE COMPOUND HAVING LACTONE STRUCTURE, POLYMER, PHOTORESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION
ラクトン構造を有する新規（メタ）アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法 - 特許庁 - The multilayered films for pattern formation has the first lower layer film, the second lower layer film and the resist film.
パターン形成用多層膜は、第一下層膜、第二下層膜およびレジスト被膜を有する。 - 特許庁 - ESTER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, MACROMOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION
エステル化合物とその製造方法、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - HARDENING RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF PHOTOSENSITIVE PATTERN, SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL AND LIQUID CRYSTAL PANEL
感光性パターン形成用硬化性樹脂組成物、液晶パネル用基板、及び、液晶パネル - 特許庁 - POLYMERIZABLE MONOMER, POLYMER, RESIST MATERIAL USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD THEREFOR
重合性単量体、重合体およびそれを用いたレジスト材料およびそのパターン形成方法 - 特許庁 - Thereafter, a circuit pattern formation by thin film forming or printing or laminating can be performed.
その後、薄膜形成や印刷により回路パターン形成や、ラミネート積層化することも可能とする。 - 特許庁 - NOVEL POLYIMIDE SILICONE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
新規ポリイミドシリコーン及びこれを含有する感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁 - ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, ANTIREFLECTION FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMATION
反射防止膜材料、及びこれの製造方法、これを用いた反射防止膜、パターン形成 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR SEMICONDUCTORS, AND METHOD FOR RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION USING THIS COMPOSITION
半導体用レジスト組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
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