「pattern formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 .... 57 58 次へ＞- RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM AND NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁 - MOVABLE BODY APPARATUS, PATTERN FORMATION APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
移動体装置、パターン形成装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, MASK REPAIR METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING THEM
パターン形成方法、マスクリペア方法およびこれらを用いたデバイス製造方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BURNED MATERIAL PATTERN FORMATION METHOD USING IT
感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁 - To provide a layer formation method which forms a good solid pattern using a droplet discharging apparatus.
液滴吐出装置を用いて良好なべた状パターンを形成すること。 - 特許庁 - After the formation of the fine pattern, the auxiliary material 12 is separated from the material 14.
微細パターンの形成後、被加工材１４から補助材１２を分離させる。 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF PATTERN FORMATION WITH THE SAME
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - LITHOGRAPHY IMAGE FORMATION OF STRUCTURAL PATTERN TO ONE OR PLURAL FIELDS ON SUBSTRATE
基板上の１つまたは複数のフィ—ルドへの構造パタ—ンのリトグラフィ—結像 - 特許庁 - EJECTION AMOUNT MEASUREMENT METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT
吐出量測定方法、パターン形成方法、デバイス、電気光学装置、電子機器 - 特許庁 - DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE, METHOD FOR FORMATION OF POLYIMIDE FILM PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS
感光性ポリイミド用現像液、ポリイミド膜パターン形成方法、及び電子部品 - 特許庁 - THICK FILM SUBSTRATE PRINTING PATTERN FORMATION METHOD FOR MOUNTING CHIP HAVING RECESSED FILM LEVEL DIFFERENCE
凹膜段差を有するチップ実装用厚膜基板印刷パターン形成方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF WIRING BOARD, INK SET FOR CONDUCTOR PATTERN FORMATION AND WIRING BOARD
配線基板の製造方法、導体パターン形成用インクセットおよび配線基板 - 特許庁 - CYCLIC ACETAL COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD
環状アセタール化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - A projection system projects the beam subjected to pattern formation on the target portion of a substrate.
投影システムは、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁 - IMPRINTING TEMPLATE, MANUFACTURING METHOD OF IMPRINTING TEMPLATE, AND PATTERN FORMATION METHOD
インプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT AGENT FOR FORMING RESIST PATTERN, RESIST COMPOSITION, AND SURFACE TREATMENT PROCESS FOR RESIST PATTERN AND FORMATION PROCESS FOR RESIST PATTERN BY USE OF THEM
レジストパターン形成用表面処理剤、レジスト組成物、それらを用いたレジストパターンの表面処理方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a pattern formation method which efficiently forms a pattern in an imperfect shot region, improves throughput, and accurately forms the pattern.
効率良く欠けショット領域にパターンを形成し、スループットの向上及び精度良くパターンを形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To improve design efficiency of a pattern by individually defining a basic pattern and a correction rule on pattern formation, in pattern forming data to be used on forming a geometric pattern on a substrate.
基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データにおいて、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上する。 - 特許庁 - A pattern most approximate to the design pattern is selected from the finely processed test resist patterns, and the test pattern used for the formation of the selected pattern is adopted as a correction pattern (S4, S8).
微細化されたテスト用レジストパターンの中から前記設計パターンに最も近いパターンを選択し、選択されたパターンの形成に用いたテスト用パターンを補正パターンとして採用する（Ｓ４，Ｓ８）。 - 特許庁 - To provide a mask pattern formation support apparatus, a mask pattern formation support method, a program, a storage medium, and an exposure mask, which facilitate the formation of a mask pattern for the manufacture of a semiconductor device having a circuit pattern with the figure and dimensions both in high fidelity to the aimed circuit pattern designed by a designer.
設計時に設計者が意図した回路パターンに対して、形状および寸法がともに忠実な回路パターンを有する半導体デバイスを製造するマスクパターンの作成を容易化することができるマスクパターン作成支援装置、マスクパターン作成支援方法、プログラム、記憶媒体および露光用マスクを提供する。 - 特許庁 - The dummy conductor pattern 12 is caused to prevent the formation region of the lead-out conductor pattern 7 from falling from the formation region of the main conductor pattern 5, and damages of the lead-out conductor pattern 7 caused by the falling can be avoided.
ダミー導体パターン１２によって、メイン導体パターン５の形成領域に対する引き出し導体パターン７の形成領域の落ち込みが防止されて、その落ち込みに起因した引き出し導体パターン７の損傷を回避できる。 - 特許庁 - To provide a pattern formation substrate with improved uniformity of a pattern shape formed by drying droplets, and to provide an electrooptical device, a method for manufacturing the pattern formation substrate and a method for manufacturing the electrooptical device.
液滴を乾燥して形成するパターン形状の均一性を向上したパターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for inspecting a pattern formation member, which can inspect a pattern in a shorter period of time compared to a single-beam scanning method and a single-tip scanning method, and to provide a pattern formation member.
単一ビームや単針を走査する方法と比べて短時間にパターンを検査することができるパターン形成部材の検査方法及び装置、並びにパターン形成部材を提供する。 - 特許庁 - To provide an image formation device for balancing a design pattern effect with a recognition rate of a dot pattern with respect to code information-embedding data with a design pattern function; and an image processing method of an image formation device.
地紋機能付きのコード情報埋め込みデータに対して地紋効果とドットパターンの認識率の両立を可能とする画像形成装置及び画像形成装置の画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image formation method by which a high definition and high flatness image pattern is formed on a base material to be printed, an image formation device for enforcing the image formation method, and an image pattern manufactured by the image formation method.
被印刷基材に、高精細かつ平坦性の高い画像パターンが形成される画像形成方法、その画像形成方法を実施するための画像形成装置およびその画像形成方法により製造される画像パターン、を提供する。 - 特許庁 - To provide an extremely easy method of manufacturing a substrate for pattern formation, which does not contaminate a processing apparatus, the substrate for pattern formation which is manufactured by the manufacturing method, has superior adhesion to a photosensitive composition layer, and suppresses pattern collapse, and a pattern formation method which uses the substrate for pattern formation and forms a fine photosensitive composition pattern of <100 nm.
処理装置を汚染するなどの影響がなく、極めて簡便なパターン形成用基板の製造方法、及び当該製造方法により製造される、感光性組成物層との密着性に優れ、且つパターン倒れを抑制できる新規なパターン形成用基板、並びに、当該パターン形成用基板を用いた、１００ｎｍ未満の微細な感光性組成物パターンを形成し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - ULTRASONIC JUNCTION TOOL, ULTRASONIC JUNCTION DEVICE AND JUNCTION MATERIAL PATTERN FORMATION METHOD
超音波接合ツール及び超音波接合装置及び接合材パターン成形方法 - 特許庁 - POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE NEGATIVE RESIST CONTAINING THE SAME AND FORMATION OF RESIST PATTERN
重合体、これを含有する化学増幅型ネガレジスト及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - The air nozzle and the air supply amount for pattern formation are respectively made adjustable.
そしてエアーノズルとパターン形成用の空気量を各々調整する機構とした。 - 特許庁 - PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIST COMPOSITION AND FORMATION OF RESIST PATTERN
光重合性組成物、ネガ型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMATION OF FLUORESCENT PATTERN, AND PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY BACK PLATE
蛍光体パターン形成用組成物及びプラズマディスプレイ背面板の製造方法 - 特許庁 - A layer first performed with the pattern formation on the transparent base material includes a light shielding property.
透明基材上に最初にパターン形成される層が遮光性を有する。 - 特許庁 - To control the image formation performance of a pattern image by controlling the characteristics of a laser beam.
レーザ光の特性を制御することで、パターン像の結像性能を制御する。 - 特許庁 - To provide a rugged pattern formation body which is clearly differentiated from that in a prior art, and the forgery/imitation of which is difficult; and to provide a method of manufacturing the rugged pattern formation body.
従来の技術とは明確に差別化でき偽造・模造が困難である凹凸パターン形成体及び凹凸パターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, LIGHT CONVERGING PATTERN FORMATION MEMBER, MASK, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
露光方法、露光装置、集光パターン形成部材、マスク、及びデバイス製造方法 - 特許庁 - To provide an element formation method and interconnection formation method, which allows easy and accurate positioning, even if the pattern is a fine pattern or has high aspect ratio.
微細なパターンやアスペクト比の高いパターンであっても、簡便かつ高精度に位置合わせを行うことが可能な素子形成方法および配線形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for nanoimprint and a pattern formation method using it, excellent in mold packing property, in pattern formation by a nanoimprint method.
ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, MANUFACTURING METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD THEREFOR, AND PATTERN FORMATION DEVICE THEREFOR
半導体集積回路装置、半導体集積回路装置用パターンの生成方法、半導体集積回路装置の製造方法、および半導体集積回路装置用パターン生成装置 - 特許庁 - POLYMERIZABLE FLUOROMONOMER, FLUOROPOLYMER, RESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION
含フッ素重合性単量体、含フッ素重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - WIRING PATTERN FORMATION METHOD OF PRINTED WIRING BOARD AND MANUFACTURING METHOD OF PRINTED WIRING BOARD
プリント配線板の配線パターン形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - Similarly, a formation position of a sub-pattern SP(LC) for a light cyan ink (LC) is present at the center side more than a formation position of a sub-pattern SP(C) for a cyan ink (C).
同様に、ライトシアンインク（ＬＣ）についてのサブパターンＳＰ（ＬＣ）の形成位置は、シアンインク（Ｃ）についてのサブパターンＳＰ（Ｃ）の形成位置よりも中央側にある。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF FLUSH MEMORY ELEMENT UTILIZING SELF-ALIGNMENT NON-EXPOSURE PATTERN FORMATION PROCESS
自己整列無露光パターン形成プロセスを利用したフラッシュメモリ素子の製造方法 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND IN-PLANE PRINTING PROCESS METHOD USING THE SAME
パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 - 特許庁 - OPTICAL UNIT, INTERFERENCE DEVICE, STAGE DEVICE, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
光学ユニット、干渉装置、ステージ装置、パターン形成装置およびデバイス製造方法 - 特許庁 - METALLIC THIN FILM FOR PATTERN FORMATION AND PRODUCTION OF PATTERNED METALLIC THIN FILM
パターン形成用の金属薄膜およびパターニングした金属薄膜の製造方法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE
ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR, AND ETCHING SOLUTION
エッチング方法、パターン形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及びエッチング液 - 特許庁
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