「pattern formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 57 58 次へ＞- SELF ALIGNMENT MULTIPLE PATTERN FORMATION FOR ADVANCED MICROSCOPIC SIZE CONTACT
高度な微小寸法コンタクトのための自己整合多重パターン形成 - 特許庁 - PATTERN FORMATION DEVICE, PATTERN FORMATION METHOD, PRODUCTION METHOD FOR COLOR FILTER, COLOR FILTER, PRODUCTION METHOD FOR ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE
パターン形成装置、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - 特許庁 - BARRIER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ILLUMINATING DEVICE, PATTERN CHECKUP DEVICE AND METHOD FOR ILLUMINATING LIGHT FORMATION
照明装置、パターン検査装置及び照明光の形成方法 - 特許庁 - To prevent the formation of a reflection prevention film on a diffraction pattern side face.
回折パターン側面への反射防止膜の成膜を防止する。 - 特許庁 - To facilitate the formation of a multilayer structure where an inner layer pattern is exposed.
内層パターンを露出させた多層構造を容易に形成する。 - 特許庁 - VARIABLE RECTANGULAR ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS AND PATTERN EXPOSURE FORMATION METHOD
可変矩形型電子ビーム露光装置及びパターン露光・形成方法 - 特許庁 - AQUEOUS ZINC INK PASTE COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION OF TIN OXIDE FILM
酸化錫膜のパタ−ン形成用水性亜鉛インクペ−スト組成物 - 特許庁 - CIRCUIT-PATTERN FORMATION METHOD AND WIRING BOARD FORMED THEREBY
回路パターン形成方法及びそれによって形成された配線基板 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - LIGHT EMITTING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND FLUORESCENT PATTERN FORMATION
発光装置及びその製造方法、並びに蛍光パターン形成物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN USING SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - BARRIER FILM FORMING MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - IMAGE PATTERN FORMATION MEDIUM, VARIABLE DISPLAY STRUCTURE, AND VARIABLE DISPLAY MEDIUM
像パターン形成媒体、可変表示構造および可変表示媒体 - 特許庁 - A light-shielding pattern 15 is provided in a pattern formation inhibition region 19 and its circumference, the region where formation of an opening pattern is inhibited to prevent exposure light from intruding.
遮光パターン１５は、露光光の回り込みを防止するために開口パターンの形成が禁止されたパターン形成禁止領域１９、及びその周囲に設けられている。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming apparatus which enables an inexpensive and highly efficient pattern formation and also the formation of a high aspect ratio pattern or the like.
パターンの形成を低コスト化、高効率化することができ、またアスペクト比の高いパターン等も形成することのできるパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A semiconductor is manufactured by using a template 1 formed with a pattern 11 for circuit pattern formation in a pattern formation region, and formed with a convex section 15 in a peripheral region.
パターン形成領域に回路パターン形成用のパターン１１が形成され、周辺領域に凸部１５が形成されたテンプレート１を使用して半導体装置を製造する。 - 特許庁 - A band-shaped dummy patter 23 is made around each wiring pattern formation block 2 by electrolytic copper plating at the same time with the wiring pattern within the wiring pattern formation block 22.
各配線パターン形成ブロック２２の周辺には、帯状のダミーパターン２３を配線パターン形成ブロック２２内の配線パターンと同時に電解銅メッキにより形成する。 - 特許庁 - The arrangement of a formation area of the circuit pattern is determined avoiding a detected defect to remove a continuous pattern formed outside the formation area of the circuit pattern.
検出された欠陥を避けるように回路パターンの形成領域の配置を決定し、回路パターンの形成領域外に形成された連続パターンを除去する。 - 特許庁 - To provide a metal pattern formation method by which a metal pattern non-formation portion can be easily removed by etching when forming a metal pattern by etching and a good adhesiveness of the formed metal pattern can be achieved.
エッチングにより金属パターンを形成する際、金属パターン非形成部のエッチングによる除去性に優れ、且つ、形成された金属パターンの密着性が良好な金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation substrate where a fine pattern with a desired aspect ratio, especially, a fine pattern with a large aspect ratio is formed, and a pattern forming method.
所要のアスペクト比の微細なパターン、特にアスペクト比が大きい微細なパターンを形成を有するパターン形成基板及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A formation method of a resist pattern includes a step of forming a resist pattern before applying the resist pattern improving material so as to cover a surface of the resist pattern.
レジストパターンを形成後に、該レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン改善化材料を塗布する工程を含むレジストパターンの形成方法である。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for forming a pattern having an interval narrower than the pattern interval obtainable by the conventional photolithography technique by a single photolithography.
従来のホトリソグラフィ技術で得られるパターン間隔よりも狭い間隔を持つパターンを、１回のホトリソグラフィで形成する。 - 特許庁 - To provide a mask capable of preventing the contact thereof with a pattern and a pattern forming method in a pattern formation using the mask.
マスクを用いたパターン形成において、パターンとマスクとの接触を防止したマスクおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method, wherein a pattern interval is shortened while maintaining a contact hole to a minimum pattern size.
コンタクトホールを最小のパターンサイズとしながらパターン間隔を縮小することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT AGENT FOR RESIST PATTERN, RESIST COMPOSITION, AND SURFACE TREATMENT METHOD FOR RESIST PATTERN AND FORMATION METHOD FOR RESIST PATTERN BY USE OF THEM
レジストパターン表面処理剤、レジスト組成物、それらを用いたレジストパターンの表面処理方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a conductive pattern formation substrate in which the conductive pattern formation substrate which is unlikely to have a conductive pattern viewed and has stable electric characteristics is easily manufactured using a general laser beam machine, and the conductive pattern formation substrate.
導電パターンが視認されにくく、かつ、安定した電気的特性を有する導電パターン形成基板を、一般のレーザ加工機を用いて容易に製造できる導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。 - 特許庁 - NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION USED IN THE SAME AND RESIST FILM
ネガ型パターン形成方法、これに用いられる組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - DETERMINATION METHOD, CONTROL METHOD, DETERMINATION DEVICE, PATTERN FORMATION SYSTEM, AND PROGRAM
判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラム - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - LETTERPRESS FOR PATTERN FORMATION AND ORGANIC EL ELEMENT MANUFACTURED USING SAME
パターン形成用凸版及びそれを用いて製造した有機ＥＬ素子 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD, AND CIRCUIT BOARD
レジストパターンの形成方法、回路基板の製造方法及び回路基板 - 特許庁 - Upon completing formation of the first layer coil pattern 11, the wiring head 5 finishes formation of the coil pattern 11 and stops operation in the horizontal direction.
１層目のコイルパターン１１の形成が完了すると、布線ヘッド５はコイルパターン１１の形成を終了して水平方向の動作を止める。 - 特許庁 - To provide a circuit pattern formation method capable of effectively preventing exfoliation of film at the film interface, and to provide a circuit pattern formation device.
膜の界面における膜剥がれの発生が効果的に防止できる、回路パターン形成方法及び回路パターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND PATTERN FORMATION METHOD THEREOF
半導体集積回路のパターン生成方法および半導体集積回路 - 特許庁 - INK FOR ETCHING RESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING THE SAME
エッチングレジスト用インクおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - MASK DATA GENERATION METHOD, EXPOSURE MASK PREPARATION METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD
マスクデータ生成方法、露光マスク作成方法およびパターン形成方法 - 特許庁 - Next, after the formation of the seed film, a resist for wiring pattern is peeled off.
次いで、シード膜の形成後、配線パターン用レジストの剥離を行う。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a semiconductor device where costs are low and a pattern formation process is simplified in a dummy gate pattern formation process.
ダミーゲートパターン形成工程において、低コストであり、かつ、パターン形成工程を簡略化した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - RESIST DEVELOPER, FORMATION METHOD FOR RESIST PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR MOLD
レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
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