「pattern formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 57 58 次へ＞- In the method for forming a pattern 16 on the pattern formation region of the base 11 by a lift-off method, a dummy pattern 116 is formed by a lift-off method also on the pattern non-formation region of the base except the pattern formation region.
基体１１のパターン形成領域上にリフトオフ法にてパターン１６を形成する本発明の方法は、パターン形成領域以外の基体のパターン非形成領域上にも、リフトオフ法にてダミーパターン１１６を形成する。 - 特許庁 - SPOT PATTERN FORMING TOOL FOR CONCRETE SHUTTERING MARK AND SPOT PATTERN FORMATION USING THE SAME
コンクリ—ト型枠跡の斑点模様形成具及びそれを用いた斑点模様形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION SYSTEM, METHOD FOR FORMING PATTERN ON BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE BOARD
パターン形成システム及び基板へのパターン形成方法並びに基板の製造方法 - 特許庁 - A pattern formation part 13 excludes noise components and leads an attenuation pattern of the fluorescence.
パターン形成部１３は、ノイズ成分を排除して、蛍光の減衰パターンを導き出す。 - 特許庁 - In the pattern formation process, a support part 2 is pattern-formed on the principal plane of a support substrate 3.
パターン形成工程は、支持基板３の主面に支持部２をパターン形成する。 - 特許庁 - PATTERN FORMING APPARATUS, ALIGNMENT APPARATUS, SUBSTRATE HANDLING APPARATUS, PATTERN FORMATION METHOD, AND SUBSTRATE HANDLING METHOD
パターン形成装置、アライメント装置、基板処理装置、パターン形成方法、基板処理方法 - 特許庁 - Thereafter, the pattern formation method includes a step S70 of forming a bus wiring pattern 71 with the second nozzle 57.
その後、第２ノズル５７によってバス配線パターン７１を形成する（ステップＳ７０）。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS OF ELECTROLYTE FILM FOR PATTERN FORMATION USED IN THE METHOD
パターン形成方法及びそれに用いるパターン形成用電解質膜の製造装置 - 特許庁 - BASE MATERIAL FOR PATTERN FORMATION, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
パターン形成用基材、ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、および半導体装置 - 特許庁 - Since the pattern of the screen is formed with a laser printer, the formation of the pattern is easy.
スクリーンのパターンはレーザプリンタにより形成されるからパターンの形成が容易である。 - 特許庁 - To provide a new technology of pattern formation capable of lowering the cost of a pattern forming technique.
パターン形成技術の低コスト化を可能にするパターン形成の新技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of peeling off a mask after forming a minute pattern.
微小パターン形成後にマスクを剥離することのできるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a formation method of a film pattern capable of forming a stripe-like pattern film even without using a stripe-like photo mask.
縞状のフォトマスクを利用せずとも縞状パターン膜を形成できるようにする。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR CURED FILM PATTERN FORMATION AND METHOD FOR PRODUCING CURED FILM PATTERN USING SAME
硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法 - 特許庁 - CURABLE SILICONE COMPOSITION FOR NEGATIVE PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR EVALUATING HYDROPHOBIC TREATMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND FORMATION SYSTEM FOR THE RESIST PATTERN
疎水化処理の評価方法、レジストパターンの形成方法及びレジストパターン形成システム - 特許庁 - To provide a waterless lithographic printing plate original which is excellent in pattern processing with respect to formation of a display pattern and formation of a wiring pattern in a printing method.
印刷法におけるディスプレイのパターン形成や配線パターンの形成において、パターン加工性に優れた水なし平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁 - To provide a photomask capable of performing similar pattern formation processing again, even after pattern formation, and to provide a pattern transfer method which uses the photomask.
パターン形成後であっても再度同様のパターン形成処理を行うことが可能であるフォトマスク及びそれを用いたパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁 - The layer first performed with the pattern formation is a metal electrode pattern layer having an alignment mark to the layer performed with the second and succeeding pattern formation.
また、前記最初にパターン形成される層が、２番目以降にパターン形成される層に対する位置合わせマークを有する金属電極パターン層である。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method, a mold for imprint, and a pattern formed body which are suitable for formation of a fine pattern.
微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming apparatus and a pattern formation method with fewer failures in drawing a pattern due to level difference.
段差によるパターンの描画不良を低減したパターン形成装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the first pattern formation step, the first pattern which is smaller than a design pattern corresponding to the design data is formed.
第１のパターン形成工程では、デザインデータに対応するデザインパターンより小さい第１のパターンを形成する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PATTERN FORMING APPARATUS AND METHOD OF PATTERN FORMATION
感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN
高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a pattern-forming apparatus permitting appropriate formation of patterns.
パターンを適切に形成するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
半導体製造装置及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD USING PROXIMITY FIELD LIGHT, AND ALIGNER
近接場光を用いたパターン形成方法および露光装置 - 特許庁 - IMPRINT MOLD, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD
インプリントモールドおよびその製造方法およびパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, FILM STRUCTURE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
パターン形成方法、膜構造体、電気光学装置、電子機器 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, APPARATUS FOR DISCHARGING DROPLET, AND ELECTRO-OPTICAL APPARATUS
パターン形成方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置 - 特許庁 - POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To improve the dimensional controlability of a resist pattern for trench formation.
トレンチ形成用レジストパターンの寸法制御性を向上させる。 - 特許庁 - PRODUCTION OF METAL OXIDE AND FORMATION OF FINE PATTERN
金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD
電磁波シールド材の製造方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER SILICONE COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PROCESS FOR PATTERN FORMATION
高分子シリコーン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - PLANE DISPLAY LAMP AND FORMATION OF LIGHT SCATTERING BODY PATTERN
平面表示灯および光散乱体パターンの形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, AND MOLD MANUFACTURING METHOD
パタン形成方法、基板製造方法、及びモールド製造方法 - 特許庁 - IMAGE FORMATION DEVICE, DOT PATTERN CALIBRATION METHOD, AND PROGRAM
画像形成装置及びドットパターン較正方法ならびにプログラム - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC HEAD, MAGNETIC HEAD, AND PATTERN FORMATION METHOD
磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッド、パターン形成方法 - 特許庁 - To improve the formation accuracy of a pattern with respect to a target position.
目標位置に対するパターンの形成精度を向上する。 - 特許庁 - RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF FILM PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-EMITTING DEVICE
膜パターンの形成方法及び発光装置の製造方法 - 特許庁 - PHOTOCATALYST-CONTAINING FILM FOR PATTERN FORMATION AND ITS PRODUCTION
パターン形成用の光触媒含有膜およびその製造方法 - 特許庁 - FORMATION OF MASK PATTERN AND MANUFACTURE OF THIN FILM MAGNETIC HEAD
マスクパターンの形成方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - To enable a formation of a good pattern without increasing costs.
コストアップを招くことなく良質なパターンを形成可能とする。 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
珪素含有化合物、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - LONG FILM FOR PATTERN FORMATION AND PATTERNED LONG FILM
パターン形成用の長尺フィルムおよびパターン付き長尺フィルム - 特許庁 - METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, DEVICE FOR FORMATION OF RESIST PATTERN, AND HOT PLATE
レジストパターン形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法並びにレジストパターン形成装置及びホットプレート - 特許庁
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