METHOD FOR PROMOTING SELF-FORMATION OF BLOCK COPOLYMER AND METHOD FOR FORMING SELF-FORMATION PATTERN OF BLOCK COPOLYMER USING THE METHOD FOR PROMOTING SELF-FORMATION ブロックコポリマーの自己組織化促進方法及びそれを用いたブロックコポリマーの自己組織化パターン形成方法 - 特許庁
To easily prepare a mask pattern accurately in a short time, the mask pattern allowing formation of a desired pattern on a substrate. 所望の基板上パターンを形成できるマスクパターンを正確且つ短時間で容易に作成すること。 - 特許庁
The method of manufacturing a semiconductor device includes a patternformation step and an opening formation step. 半導体装置の製造方法は、パターン形成工程と、開口部形成工程とを含む。 - 特許庁
PATTERN EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, FORMATION OF NUCLEIC ACID ARRAY, AND FORMATION OF PEPTIDE ARRAY パタ—ン露光方法、露光装置、核酸アレイの形成方法及びペプチドアレイの形成方法 - 特許庁
FORMATION METHOD OF WATER-SOLUBLE RESIN FILM AND FORMATION METHOD OF FINE PATTERN USING THE SAME 水溶性樹脂被覆の形成方法およびこれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
To enable a stable application of a pattern even for patternformation of microscopic lines in the patternformation by the application of a liquid formulation onto a substrate. 基板上への液剤の塗布によるパターン形成において、微細線のパターン形成であっても安定してパターンを塗布することを可能にする。 - 特許庁
By this density difference, the pattern is formed by creating a thickness and thinness, and an unevenness, to the patternformation material even if the single patternformation material is used. この密度差によって、単一の模様形成材料を用いても模様形成材料に濃淡や凹凸が生じ、図柄が形成される。 - 特許庁
To provide a patternformation method and a patternformation device which can form a desired pattern in a processing substrate by using F_2 laser beam. F_2レーザ光を用いて、被加工基板に所望のパターンを形成することのできるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
To remove a warpage which occurs in a substrate W including a patternformation surface having a thin film containing a pattern and a pattern non-formation surface having a thin film not containing the pattern. パターンを含む薄膜を有するパターン形成面と、パターンを含まない薄膜を有するパターン非形成面とを有する基板Wに生じる反りを除去する。 - 特許庁
SURFACE TREATING AGENT FOR PATTERNFORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR RESIN PATTERNFORMATION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERNFORMATION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁
EMBOSSED PATTERNFORMATION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRODUCT HAVING EMBOSSED PATTERN 浮き出し模様形成方法並びに、浮き出し模様を有する製品の製造方法 - 特許庁
FUNCTIONAL MEMBRANE PATTERNFORMATION APPARATUS, METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL MEMBRANE PATTERN AND ELECTRONIC INSTRUMENT 機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターンの形成方法及び電子機器 - 特許庁
COVERING FORMATION AGENT FOR PATTERN MINUTENESS, AND METHOD OF FORMING MINUTE PATTERN USING THE AGENT パターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMATION OF CONJUGATE POLYMER PATTERN AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME コンジュゲートポリマーパターン形成用組成物およびこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁
SURFACE TREATING AGENT FOR PATTERNFORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE TREATING AGENT パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION FOR INSULATING PATTERNFORMATION AND INSULATING PATTERN FORMING METHOD 絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法 - 特許庁
SUBSTRATE FOR PATTERNFORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF NANOCRYSTAL USING THE SAME パターン形成用基板およびこれを用いたナノ結晶パターンを形成する方法 - 特許庁
To provide a method for patternformation that can form a pattern which renders the dimension of a trench pattern or a hole pattern, effectively fine, without producing any scum. トレンチパターンやホールパターンの寸法を実効的に微細化したパターンをスカムを発生させずに形成する方法の提供。 - 特許庁
RESIN COMPOSITION, RESIST COMPOSITION, AND FORMATION METHOD FOR RESIST PATTERN 樹脂組成物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
FORMATION OF PATTERN, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE パターン形成方法とカラーフィルタおよび液晶表示装置 - 特許庁
PATTERNFORMATION METHOD AND IMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD パターン形成方法およびインプリント用モールドの製造方法 - 特許庁
IRREGULAR PATTERNFORMATION SHEET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR DUPLICATING THE IRREGULAR PATTERNFORMATION SHEET AND OPTICAL ELEMENT 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、凹凸パターン形成シート複製用工程シート原版、光学素子 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL, AND PATTERNFORMATION METHOD レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
DROPLET EJECTION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN MEMBRANE FORMATION MEMBER 液滴吐出装置、パターン膜形成部材の製造方法 - 特許庁
The method for resist patternformation comprises utilization of the positive resist composition. 該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, FORMATION OF PATTERN, AND ELECTRONIC PART 感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁
PATTERNFORMATION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE パターン形成方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERNFORMATION METHOD 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL, AND PATTERNFORMATION METHOD UTILIZING THE SAME ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD AND PRODUCT FOR PREPARING PATTERN BY USING CIRCUIT FORMATION COMPONENT 回路形成部材による図柄作成方法及び製品 - 特許庁
PRINTED WIRING BOARD AND PATTERNFORMATION METHOD THEREOF プリント配線板およびプリント配線板のパターン形成方法 - 特許庁
PATTERNFORMATION METHOD AND CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE RESIST MATERIAL パターン形成方法及び化学増幅ポジ型レジスト材料 - 特許庁
PATTERNFORMATION METHOD, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, AND DRAWING METHOD パターン形成方法、デバイス製造方法及び描画方法 - 特許庁
PATTERNFORMATION METHOD, DROP JETTING DEVICE, AND CIRCUIT MODULE パターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュール - 特許庁
POSITION CONTROLLABLE PATTERNFORMATION EQUIPMENT AND POSITION CONTROLLING METHOD 位置制御可能なパターン形成装置及び位置制御方法 - 特許庁
PATTERNFORMATION SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE パターン形成基板及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁
HAND ROLLER AND FORMATION METHOD OF JOINT PATTERN USING THE SAME ハンドローラおよびそれを用いた目地模様の形成方法 - 特許庁
PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF IRREGULAR PATTERN 光硬化性樹脂組成物及び凹凸パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTORESIST-COMPOSITION AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY-PATTERN FORMATION フォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 - 特許庁
PATTERNFORMATION METHOD AND SYSTEM USING ELECTROSTATIC FORCE 静電気力を利用したパターン形成方法及びその装置 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST FILM, FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN AND FORMATION METHOD OF CONDUCTOR PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION 感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法及び導体パターンの形成方法 - 特許庁
To provide a planarization pattern automatic formation method which enables the control of timing information variations after pattern information formation. パターン情報生成後のタイミング情報変動を抑制できるような平坦化パターン自動生成方法に関する。 - 特許庁
MOVABLE BODY DRIVE METHOD, MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERNFORMATION METHOD, PATTERNFORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
LIQUID EJECTOR AND FORMATION METHOD OF PATTERN FOR ADJUSTMENT 液体吐出装置および調整用パターンの形成方法 - 特許庁
PUPIL FILTER, PATTERNFORMATION METHOD AND PROJECTION ALIGNER 瞳フィルタ及びパターン形成方法並びに投影露光装置 - 特許庁
RECESSED PATTERNFORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF TRENCH CAPACITOR 凹パターン形成方法及びトレンチ型コンデンサの製造方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR HEAT TREATMENT, AND PATTERNFORMATION METHOD 熱処理装置及びその方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁