「pattern formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 57 58 次へ＞- DISPENSER, FORMATION METHOD OF INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PASTE PATTERN, PHOSPHOR PATTERN FORMATION METHOD OF DISPLAY, AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY
ディスペンサー、無機粒子含有ペーストパターンの形成方法、ディスプレイの蛍光体パターン形成方法およびディスプレイの製造方法 - 特許庁 - DETECTION DEVICE, MOVABLE BODY APPARATUS, PATTERN FORMATION APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
検出装置、移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - FILM PATTERN FORMATION METHOD, FILM PATTERN FORMATION APPARATUS, CONDUCTING FILM WIRING, ELECTROOPTICAL APPARATUS, ELECTRONIC COMPONENT, AND NONCONTACT CARD MEDIUM
膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器並びに非接触型カード媒体 - 特許庁 - POWDER COATING FOR UNEVEN PATTERN FORMATION, PRODUCTION THEREOF, FORMATION OF COATING FILM AND COATED ARTICLE
凹凸模様形成性粉体塗料、その製造方法、塗膜の形成方法および塗装物 - 特許庁 - MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME
液浸露光プロセス用保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SURFACE GRAFT FORMATION, FORMATION METHOD FOR CONDUCTIVE FILM, METALLIC PATTERN FORMATION, FORMATION METHOD FOR MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD, SURFACE GRAFTING MATERIAL AND ELECTROCONDUCTIVE MATERIAL
表面グラフト形成方法、導電性膜の形成方法、金属パターン形成方法、多層配線板の形成方法、表面グラフト材料、及び導電性材料 - 特許庁 - An electron beam irradiating pattern mask 10 is stuck close to an electron beam hardening type pattern formation layer 2, and the pattern formation layer 2 is irradiated with electron beams to form a prescribed conductive pattern.
電子線硬化型のパターン形成層２に電子線照射用パターンマスク１０を密着させ、パターン形成層２に電子線を照射し、所定の導電パターンを形成する。 - 特許庁 - A pattern of a lower wiring layer Ma in a monitor mark formation region includes a part having the same pattern width and pattern pitch as a pattern of a lower wiring layer Ma of a function element formation region.
モニター用マーク形成領域の下層配線層Ｍａのパターンは、機能素子形成領域の下層配線層Ｍａのパターンと同じパターン幅およびパターンピッチを有する部分を含む。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method that reduces roughness produced on a resist pattern to make the pattern have a good shape.
レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。 - 特許庁 - To improve the shape precision a chemical amplification resist pattern used in the formation of a mask pattern and to enhance the resolution of the resist pattern.
マスクパタン形成の際に使用される化学増幅レジストパタンの形状精度を良くし、解像性を向上させる。 - 特許庁 - In the pattern formation step, a pattern 111 for measuring shift in position and a first pattern 101 are formed in a first layer.
パターン形成工程では、第１層に位置ズレ計測用のパターン１１１と第１パターン１０１とを形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of suppressing the generation of pattern defects when forming a pattern on a substrate.
基板上にパターンを形成する際におけるパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method which facilitates formation of minute ejection ports that eject liquid droplets, and formation of a fine pattern composed of liquid droplets, and to provide a liquid droplet ejector.
液滴を吐出する吐出口の微細化を容易にして、液滴からなるパターンの微細化を容易にさせたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a water-soluble pattern forming material not dissolving a base resist for achieving formation of a fine separation resist pattern allowing formation of a pattern beyond wavelength limit in micronization of a separation pattern and a hole pattern.
分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。 - 特許庁 - Since the pattern formation data 91 include a basic pattern part 911 and the correction rule part 913, the basic pattern and the correction rule on pattern formation are defined individually, which easily improves design efficiency of a pattern.
パターン形成用データ９１は、基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上を容易に行うことができる。 - 特許庁 - The pattern formation layer 2a can be cured by irradiating an ionization radiation to the pattern formation layer 2a which is formed on the irregular pattern of the mold 5 by using a PTFE dispersant to the pattern formation layer 2a being a transfer part 2.
転写部２となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド５の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。 - 特許庁 - After the formation of a first resist pattern, the surface of the first resist pattern is silanized.
１回目のレジストパターンが形成された後、当該１回目のレジストパターンの表面がシリル化される。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE FILM FOR PERMANENT PATTERN FORMATION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD
永久パターン形成用感光性フィルム、その製造方法、及び永久パターンの形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, AND PATTERN FORMING MATERIAL, APPARATUS, AND METHOD
パターン形成用組成物、パターン形成材料、及びパターン形成装置並びにパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a pattern formation method that forms a desired pattern using imprint lithography.
インプリントリソグラフィを用いて所望のパターン形成を行うパターン生成方法を提供すること。 - 特許庁 - The formation of the grid pattern 52 is carried out, by printing paint on the front surface of the pattern sheet 56.
格子パターン５２の形成は、パターンシート５６の表面に塗料を印刷することでなされる。 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT AGENT FOR FORMING RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SURFACE TREATING AGENT FOR RESIST PATTERN FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR FORMATION OF THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN BY USING THE SAME
三次元パターン形成用感光性組成物、及びそれを用いた三次元パターン形成方法 - 特許庁 - The imprint method imprints an imprint pattern of a mold on a pattern formation layer of a substrate.
基板上のパターン形成層に、モールドが有するインプリントパターンをインプリントするインプリント方法である。 - 特許庁 - INSULATING LAYER, INSULATING LAYER PATTERN, THIN FILM TRANSISTOR, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND LIQUID PATTERN FORMATION DEVICE
絶縁膜、絶縁膜パターン、薄膜トランジスタ、液晶表示装置、及び、液体パターン形成装置 - 特許庁 - An opening 17 is formed in a resist pattern 16 adaptively to a wiring pattern formation area.
レジストパターン１６には配線パターン形成領域に合わせて開口１７が形成されている。 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PRINTED WIRING BOARD AND CONDUCTOR PATTERN FORMATION METHOD FOR IT
プリント配線板の導体パタ—ン形成方法およびプリント配線板 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD OF RESIST LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY DEVICE
レジスト層のパターン形成方法、及び表示装置の製造方法 - 特許庁 - TEMPLATE FOR IMPRINT, MANUFACTURING METHOD OF THE TEMPLATE, AND PATTERN FORMATION METHOD OF THE TEMPLATE
インプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PATTERN FORMATION AND LIQUID MATERIAL DRIER
パターン形成方法、パターン形成装置及び液状体乾燥装置 - 特許庁 - WALKING PATTERN FORMATION EQUIPMENT, BIPED WALKING ROBOT, WALKING PATTERN FORMATION METHOD, AND CONTROLLING METHOD, PROGRAM AND RECORDING MEDIUM FOR BIPED WALKING ROBOT
歩行パターン作成装置、２足歩行ロボット装置、歩行パターン作成方法、２足歩行ロボット装置の制御方法、プログラムおよび記録媒体 - 特許庁 - NANOIMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
ナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a fine pattern formation method for semiconductor elements.
本発明は半導体素子の微細パターン形成方法を開示する。 - 特許庁 - RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION USING SAME
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - An object layer 430 for pattern formation is formed on a substrate 400; and a mask layer 432 is formed on the object layer 430 for pattern formation.
基板４００上にパターン形成対象層４３０を形成し、パターン形成対象層４３０上に、マスク層４３２を形成する。 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN USING THE SAME
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION PROCESS
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT-BLOCKING PATTERN FORMATION OF PLASMA DISPLAY
プラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, ELECTRONIC ELEMENT, OPTICAL ELEMENT, AND CIRCUIT SUBSTRATE
パターン形成方法、並びに電子素子、光学素子及び回路基板 - 特許庁 - INFORMATION STORAGE APPARATUS, SERVO PATTERN FORMATION CONTROL APPARATUS, AND RECORDING MEDIUM
情報記憶装置、サーボパターン形成制御装置及び記録媒体 - 特許庁 - EXPOSURE DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD
露光装置、半導体装置の製造方法、及び、パターン形成方法 - 特許庁 - OPTICAL PEN AND PATTERN FORMATION PAPER SHEET FOR COORDINATE INPUT SYSTEM
座標入力システムにおける光学ペンおよびパターン形成用紙 - 特許庁 - CONDUCTIVE PATTERN FORMATION SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND INPUT DEVICE
導電パターン形成基板およびその製造方法、入力装置 - 特許庁 - EXPOSURE MASK, PATTERN FORMATION METHOD, AND EXPOSURE MASK FABRICATION METHOD
露光用マスク、パターン形成方法及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN
レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
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