「pattern generation」を含む例文一覧(1518)
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 30 31 次へ＞- To provide a pattern exposure method capable of reducing generation of moire, and to provide a method for producing a conductive film and a conductive film.
モアレの発生を低減することができるパターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an optical waveguide that is free from generation of air bubbles due to ruggedness of a core pattern and that is superior in optical characteristics.
コアパターンの凹凸による気泡の発生がなく、光学特性に優れた光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To achieve the low spatial coherence of laser light and reduce harmful effect on resist pattern formation due to speckle noise generation.
レーザ光の低空間コヒーレンス化をはかり、スペックルノイズの発生によるレジストパターン形成への悪影響を低減化すること。 - 特許庁 - The technique can be fully integrated into flows of design for testability (DFT) and automatic test pattern generation (ATPG).
記載された技術は、テスト容易化設計（ＤＦＴ）及び自動テストパターン生成（ＡＴＰＧ）のフローに完全に組込むことができる。 - 特許庁 - A detecting image generation part 11 uses a pattern of a maker as a registered image and generates detecting images based on the registered image.
検出用画像生成部１１は、マーカの絵柄を登録画像として、その登録画像を元に検出用画像を生成する。 - 特許庁 - To increase accuracy of a cam angle signal/crank angle signal by a frequency multiplying clock output means, and to increase versatility of a pulse generation pattern.
倍周クロック出力手段でカム角信号・クランク角信号の精度を高め、パルス発生パターンの汎用性を高める。 - 特許庁 - To suppress generation of pattern defects in the outermost circumference part of an image display area, in an active matrix type liquid crystal display device.
アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、画面表示領域最外周におけるパターン欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁 - Lines passing the mapping table generation pattern part 100 are made to include segments connecting a series of grid points when segments of the mapping table verification pattern 1110 are extended, thereby the pattern 1110 for mapping table verification and the pattern 1100 for mapping table generation can integrally be handled when evaluating linearity and orthogonality of segments.
そして、マッピングテーブル検証用図柄１１１０の線分を延長したときマッピングテーブル生成用図柄部１００を通過する直線が、一連の格子点を結ぶ線分を含むようにすることによって、線分の直線性、直交性を評価する上で、マッピングテーブル検証用図柄１１１０とマッピングテーブル生成用図柄１１００とを一体的に取り扱うことができるようにする。 - 特許庁 - A CPU 10, measurement pattern data generation parts 2, 3, 4, 5, 6, and 7, design-side data generation parts 12 and 13, a comparison circuit 14 for comparing measurement pattern data with design-side data, a retry requirement-judging means 69, and a repeated inspection instruction means 61 are at least provided.
ＣＰＵ１０と、測定パターンデータ生成部（２，３，４，５，６，７）と、設計側データ生成部（１２，１３）と、測定パターンデータと設計側データとを比較する比較回路１４と、リトライ必要性判定手段６９と、繰り返し検査命令手段６１とを少なくとも有する。 - 特許庁 - The generation method for the mask data comprises a process of resizing a wiring layer pattern 120 and forming a resized pattern 130 so as to make a resize amount positive (+), a process of eliminating the resized pattern having a mutually overlapping part among the resized patterns 130 and a process of forming a stress mitigation layer pattern having a prescribed width on the outer side of the resized pattern.
マスクデータの生成方法は、リサイズ量がプラス（＋）となるように、配線層パターン１２０をリサイズしてリサイズパターン１３０を形成する工程と、前記リサイズパターン１３０のうち相互に重なる部分を有するリサイズパターンを削除する工程と、前記リサイズパターンの外側に、所定の幅を有する応力緩和層パターンを形成する工程と、を有する。 - 特許庁 - The semiconductor testing apparatus 1 has auxiliary pattern generating sections 12a-12d for temporarily storing the test pattern P1 generated by the pattern generation section 11, reading the stored test pattern according to individual test states of the devices to be tested 20a-20d, and outputting it as a test pattern used for the test of the devices to be tested 20a-20d.
この半導体試験装置１は、パターン発生部１１で発生した試験パターンＰ１を一時的に記憶し、被試験デバイス２０ａ〜２０ｄの個別の試験状況に応じて、記憶した試験パターンを読み出して被試験デバイス２０ａ〜２０ｄの試験に用いる試験パターンとして出力する補助パターン発生部１２ａ〜１２ｄを備えている。 - 特許庁 - To provide a waveform generator, a signal generation apparatus therewith, a waveform generation method and a signal generation method that keep phase continuity at connection parts of a waveform pattern sequence while reducing a frequency offset of each bit data.
各ビットデータの周波数オフセットの発生を低減しつつ、波形パターン列の接続部の位相を連続にすることができる波形発生器及びそれを備えた信号発生装置並びに波形発生方法及び信号発生方法を提供する。 - 特許庁 - Generation and propagation of the DMA phenomenon is prevented by providing a wall layer W having the same shape as the peripheral shape of a display pattern in a liquid crystal between glass substrates to a display pattern P constituted by a superposed pattern of a segment electrode and a common electrode.
セグメント電極及びコモン電極の重複パターンにより構成される表示パターンPに対してガラス基板間の液晶中に表示パターンの周囲形状と同一形状の壁層Wを設け、DMA現象の発生及び伝播を阻止する。 - 特許庁 - To enhance the feeling of expectancy of a game player in a game machine provided with a pattern display device which variably displays a recognition pattern to allow the game player to recognize the generation of a benefit by reforming a variable display mode for the recognition pattern.
遊技者に特典の発生を認識させる認識用図柄を変動表示する図柄表示装置を備えた遊技機において、認識用図柄の変動表示態様を今迄にない斬新なものとすることで遊技者の期待感を盛り上げる。 - 特許庁 - To provide a game machine capable of adding an amusement to a picture a pattern game and improving game characteristics by displaying a probability change pattern and changing the probability of a special prize generation in accordance with the displaying status of the probability change pattern.
確率変動図柄を表示するようにして、確率変動図柄の表示態様に応じて、特賞状態発生の確率を変動するようにして、絵柄遊技に面白味を加え、遊技性を高めることができる遊技機を提供する。 - 特許庁 - To increase an yield at which a thermal head having high energy efficiency is obtained by preventing a pattern gap between a hollow thermal insulation layer and a heat generation portion.
中空断熱層と発熱部とのパターンずれを防止し、高いエネルギー効率を持つサーマルヘッドが得られる歩留まりを向上させる。 - 特許庁 - To suppress generation of a false signal caused by a change in wiring capacity during operation depending on a pattern, thereby improving the display quality.
絵柄によって動作中の配線容量が変化することに起因する疑似信号の発生を抑圧し、表示品質を向上させる。 - 特許庁 - A synchronization establishment detecting unit 22 detects the generation of a pulse signal according to the synchronization pattern and the synchronization establishment of the transferred data.
同期確立検出部２２は、同期パターンに対応するパルス信号の生成及び乗り換えデータの同期確立の検出を行う。 - 特許庁 - An answer retrieval apparatus includes a class extraction unit, a word retrieval unit, a syntax pattern storage unit, a template generation unit, and a metaphoric expression retrieval unit.
回答検索装置は、クラス抽出部、単語検索部、構文パターン格納部、テンプレート生成部、及び比喩表現検索部を含む。 - 特許庁 - To provide a stabilized method for compressing solder by splitting an electrode pattern on a ceramic substrate thereby reducing generation of solder bridge.
本発明はセラミック基板の電極パターンを分割し、半田ブリッジの発生を低減させ、安定した半田圧着方法を提供する。 - 特許庁 - To suppress generation of a random pattern signal in long-distance data transmission surpassing the PCIe interface specification, without using a sideband signal.
PCIeインターフェース仕様を超えた長距離のデータ伝送において、サイドバンド信号を用いることなく、ランダムパターン信号の発生を抑制する。 - 特許庁 - A control part 21 of a distribution processing server 20 calculates a detail item prediction number, based on a detail item generation pattern and a result in the past in every customer.
配信処理サーバ２０の制御部２１は、顧客毎の明細発生パターン及び過去実績から明細予測数を算出する。 - 特許庁 - DISPLAY METHOD FOR GENERATION FREQUENCY DISTRIBUTION TABLE OF EVENT LOG, DISCRIMINATING METHOD FOR GENERATED PATTERN AND RECORDING MEDIUM ON WHICH THE SAME PROGRAMS ARE RECORDED
イベントログの発生頻度分布表の表示方法および発生パターンの識別方法、ならびにそれらのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - To prevent a defective resist pattern from being produced by suppressing the generation of bubbles in a resist film coated in a lithography process.
リソグラフィ工程にて塗布したレジスト膜中における気泡などの発生を抑えることによってレジストパターン不良を未然に防ぐ。 - 特許庁 - To provide a photomask which suppresses generation of incremental defects on its surface, and a pattern forming method using the photomask.
フォトマスクの表面に成長性欠陥が発生することを抑制するフォトマスク及びフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The item, to be obtained when such a pattern as a watermelon whose probability of generation is low is won, can do extensive damage to the monster when used in the battle.
発生確率が低いスイカなどが入賞したときに得られるアイテムは、使用したときにモンスターに大ダメージを与えられる。 - 特許庁 - The device 1 grasps a changing tendency in the present acoustic data having a generation frequency of the same pattern as the candidate, by using the discrimination function (s406).
識別関数を用いて候補と同一パターンの発生頻度の、現在音響データにおける変化傾向を把握する（Ｓ４０６）。 - 特許庁 - A test recording is carried out by the generation of a test pattern utilizing a control judgment device (CPU) 1, and the signal processing selection at the test recording time.
制御判断装置（ＣＰＵ）１を利用したテストパターン発生とテスト記録時の信号処理選択によりテスト記録をおこなう。 - 特許庁 - A mask generation part 40 specifies an area unfit for stereoscopic processing in a reference image 24 of the object and prepares a mask pattern 28.
マスク生成部４０は、対象物の基準画像２４においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン２８を作成する。 - 特許庁 - The ultrasonic therapy apparatus can inhibit generation of eddy currents tracing a large loop because the apparatus has a "tree diagram" pattern as indicated in the figure (c).
図８（ｃ）に示す「樹形図」のパターンを有することにより、大きなループを描く渦電流の発生を抑制することが可能となる。 - 特許庁 - To make securable the generation of key data different from each other without arranging a device for eliminating a specific pattern input, and to improve the security.
特定パターンの入力の除去装置を設けずに、互いに異なる鍵データの生成を保証でき、安全性を向上させる。 - 特許庁 - To suppress generation of any folding pattern in a payoff reel in a metal strip passing facility using an elastic sleeve for the payoff reel.
ペイオフリールに弾性体スリーブを用いた金属帯板の通板設備において、ペイオフリールにおける折れ模様の発生を抑止する。 - 特許庁 - To provide a transfer film capable of preventing the generation of a pattern flaw due to bad photosensitivity by preventing adhesion of dust to a support film.
支持フィルムへの塵の付着を防止して感光不良によるパターン欠陥の発生を防ぐことができる転写フィルムを提供する。 - 特許庁 - An action generation/execution part 516 executes an action shown by the rule information stored so as to be associated with the rule pattern information.
アクション生成／実行部５１６は、ルールパタン情報に対応付けて格納されているルール情報によって示されるアクションを実行する。 - 特許庁 - Thus, even in the case that the right generation state disappears early, the establishing timing of a right generation state ending condition is made later than the timing of ending the variation of the probability variation judging pattern.
よって、権利発生状態が早く消滅してしまう場合にも、権利発生状態終了条件の成立タイミングを、確変判定図柄の変動終了のタイミングよりも遅くすることができる。 - 特許庁 - To provide an information generation device, an object detection device, an information generation method, an object detection method and a program for more improving the accuracy of the detection of an object using a local binary pattern.
ローカルバイナリパターンを用いた物体の検出の精度をより向上させることが可能な、情報生成装置、物体検出装置、情報生成方法、物体検出方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide a mask data generation method enabling shortening of mask drawing time and creation of high-quality mask with a fine pattern, and a mask manufacturing method using the mask data generation method.
マスク描画時間を短縮して、微細パターンを有する高品質のマスクを作製することができるマスクデータ生成方法及びこのマスクデータ生成方法によるマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A watermark pattern generation part 3 generates an image by specific image generation algorithm, on the basis of added information 1, such as a URL and stores the generated image in a frame buffer 5 for watermark patterns.
透かしパターン生成部３は、ＵＲＬなどの付加情報１に基づいて特定の画像生成アルゴリズムで画像を生成し、生成された画像を透かしパターン用フレームバッファ５に格納する。 - 特許庁 - Thus, even in the case that the right generation state disappears early, the establishing timing of a right generation state ending condition is made later than the timing of ending the variation of the probability variation judging pattern.
よって、権利発生状態が早く消滅してしまう場合にも、権利発生状態終了条件の成立タイミングを確変判定図柄の変動終了のタイミングよりも遅くすることができる。 - 特許庁 - To provide a pachinko game machine which can inform the players of the expected defining time in the figure generation process before the figure generation process for defining the figures is started in the win figure pattern.
当り図柄態様で図柄確定する図柄生成行程が開始される前に、遊技者に該図柄生成行程の確定予定時間を報知し得るパチンコ遊技機を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To restrain generation of delay variation between the respective cells which is caused by generation of variation of device profile under impact of diffracted light at the time of exposure, imprint, etc., depending on a layout pattern of each standard cell.
各スタンダードセルのレイアウトパターンに依存して、例えば露光、転写時の回折光などの影響によりデバイス形状にばらつきが生じ、各セル間で遅延ばらつきが生じることを抑制する。 - 特許庁 - The generation of each effect sound is controlled in various kinds of procedures corresponding to the accelerating state, low speed state and decelerating state of the variable pattern display and the generation of a ready-to-win state during the variable display.
各効果音の発生は、図柄の変動表示の加速状態、低速状態、減速状態および、変動表示中のリーチの発生などに対応させてさまざまな種類の手順で制御する。 - 特許庁 - The generation of each effect sound is controlled in various kinds of procedures corresponding to the accelerating state, low speed state and decelerating state of variable pattern display and the generation of a ready-to-win state during the variable display.
各効果音の発生は、図柄の変動表示の加速状態、低速状態、減速状態および、変動表示中のリーチの発生などに対応させてさまざまな種類の手順で制御する。 - 特許庁 - This pulse generator 100 is structured such that a control part 150 inputs a digital value 11 of a digital pattern from a digital pattern generation part 110, and controls the opening and closing of a switch means 132 based on it.
パルス発生装置１００は、制御部１５０がデジタルパターン生成部１１０からデジタルパターンのデジタル値１１を入力し、これをもとにスイッチ手段１３２を開閉制御するように構成されている。 - 特許庁 - The pattern data generation part (10) generates pattern data (6) where a plurality of bright parts (for example, white data W) and dark parts (for example, black data B) are distributed in units of a single dot or units of a plurality of dots.
前記パターンデータ生成部（１０）は、単一ドット又は複数ドットを単位として複数の明部（例えば、白データＷ）と暗部（例えば、黒データＢ）とを分布させたパターンデータ（６）を生成する。 - 特許庁 - To provided a patterning method and a pattern generation program which can generate a wiring pattern of a conductive film which can solve the problems of spreading of diffraction image, disconnection, and visibility of wiring.
回折像の広がり、断線、配線視認性の問題を解消することができる導電性フイルムの配線パターンを生成することができるパターン生成方法及びパターン生成プログラムを提供する。 - 特許庁 - To reduce generation of mask distortions due to side wall oxidization of an X-ray absorber pattern, without making a membrane region coincide with an exposure pattern region.
Ｘ線露光用マスク及びその製造方法に関し、メンブレン領域と露光パターン領域とを一致させることなく、Ｘ線吸収体パターンの側壁酸化にともなうマスク歪みの発生を抑制する。 - 特許庁 - The first pattern generation part 114 inputs a first pattern in a first semiconductor chip D (ST152), and a first determination part 116 determines a failure and propriety of the first semiconductor chip D (ST154).
第１パターン発生部１１４が第１パターンを第１半導体チップＤに入力し（ＳＴ１５２）、第１判定部１１６が第１半導体チップＤの不良可否を判断する（ＳＴ１５４）。 - 特許庁 - To provide a photomask which can prevent the generation of static electricity to hardly cause the electrostatic damage of the photomask or the damage of a light shielding film pattern and does not impair the accuracy of the light shielding pattern, and to provide its manufacturing method.
静電気の発生を防止して、フォトマスクの静電破壊や遮光膜パターンの破損が生じにくく、かつ遮光膜パターンの精度を損なわないフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The thrust dynamic pressure generation groove G2 of herringbone pattern is formed so that the depth of the groove on its inner periphery may become smaller than a return point R of the pattern, and the depth of the groove on its outer periphery may become larger.
また、スラスト動圧発生溝Ｇ２は、ヘリングボーンパターンの場合は、その溝深さはパターンの折り返し点Ｒより内周面側で浅く、且つ外周面側で深くなるように形成されている。 - 特許庁
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