PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN 感光性フィルム及び永久パターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING JACKET PROVIDED WITH NET-LIKE PATTERN 網状パターンを設けたジャケットの製造方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING PERIODIC OPENING PATTERN 周期性開口パタ—ンの検査方法及び装置 - 特許庁
PHOTO MASK AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
INORGANIC RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING INORGANIC RESIST PATTERN, OPTICAL MASTER DISK, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL MASTER DISK, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK SUBSTRATE 無機レジスト・パターン、無機レジスト・パターンの形成方法、光ディスク原盤、光ディスク原盤の製造方法、光ディスク・スタンパの製造方法及び光ディスク基板の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING LSI パターン形成方法、磁気記録媒体の製造方法、LSIの製造方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD, METHOD FOR FORMING IRREGULAR PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT 露光方法、凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER レジストパターン形成方法、エッチング方法およびマスター情報担体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁
EVALUATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM 評価方法、マスクパターン補正方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST MARK, METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN, AND GRAVURE PRINTING METHOD レジストマスクの形成方法、配線パターンの形成方法、及びグラビア印刷方法 - 特許庁
FORMING METHOD OF RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE METHOD レジストパターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁
METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE METHOD レジストパターン形成方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which freedom of a formed pattern is high and a novel pattern face can be obtained. 形成される模様の自由度が高く、斬新な模様面が得られる模様形成方法を提供する。 - 特許庁
SPECIFIC PATTERN DETECTION SYSTEM, MODEL LEARNING DEVICE, SPECIFIC PATTERN DETECTOR, SPECIFIC PATTERN DETECTION METHOD AND COMPUTER PROGRAM 特異パターン検出システム、モデル学習装置、特異パターン検出装置、特異パターン検出方法、及び、コンピュータプログラム - 特許庁
METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT HAVING CONDUCTIVE PATTERN 導電性パターンの形成方法、導電性パターン形成用組成物および導電性パターンを有する電子部品 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which a chemically active group pattern is formed on a substrate surface only by pattern exposure. パターン露光のみで基板表面に化学活性基パターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming device, pattern forming method, etc., capable of preventing displacement with a previous process pattern. 前工程パターンとの位置ずれ防止を可能とするパターン形成装置、パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁
COMMON QUERY GRAPH PATTERN GENERATION DEVICE, COMMON QUERY GRAPH PATTERN GENERATION METHOD, AND PROGRAM FOR COMMON QUERY GRAPH PATTERN GENERATION 共通クエリグラフパターン生成装置、共通クエリグラフパターン生成方法、および共通クエリグラフパターン生成用プログラム - 特許庁
To provide a pattern forming method, a mold for imprint, and a pattern formed body which are suitable for formation of a fine pattern. 微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。 - 特許庁
The carbon structure production method comprises molding a carbon-containing material into a pattern, covering the obtained pattern with a template, and carbonizing the pattern by firing. 含炭素材料をパターンに成形した後、得られたパターンを原形型で被覆し、焼成して炭素化させる。 - 特許庁
GENERATING DEVICE FOR PATTERN FORMATION DATA, GENERATING SYSTEM FOR PATTERN FORMATION DATA AND METHOD FOR GENERATING THE PATTERN FORMATION DATA パターン形成用データ生成装置、パターン形成用データ生成システムおよびパターン形成用データの生成方法 - 特許庁
To provide a method of forming pattern by which the deformation of a silicon pattern treated with a hydrofluoric acid is suppressed at the time of drying the pattern. フッ酸による処理を行ったシリコンのパターンにおける乾燥時の変形が抑制できるようにする。 - 特許庁
To provide a method of forming a resist pattern, by which an isolated space pattern or hole pattern can be formed with high resolution. 孤立スペースパターンやホールパターンを高い解像性で形成できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁