「pattern method」を含む例文一覧(23002)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 460 461 次へ＞- METHOD FOR FORMING FORGERY PREVENTIVE PATTERN, FORGERY PREVENTIVE PATTERN, AND FORGERY PREVENTIVE PRINTED MATTER HAVING FORGERY PREVENTIVE PATTERN
偽造防止パターンの作成方法、偽造防止パターン及びその偽造防止パターンを備えた偽造防止印刷物 - 特許庁 - ELECTROMAGNETIC NOISE OCCURRING PATTERN ESTIMATION DEVICE, ELECTROMAGNETIC NOISE OCCURRING PATTERN ESTIMATION METHOD AND ELECTROMAGNETIC NOISE OCCURRING PATTERN ESTIMATION PROGRAM
電磁ノイズ発生パターン推定装置、電磁ノイズ発生パターン推定方法及び電磁ノイズ発生パターン推定プログラム - 特許庁 - To provide a pattern forming apparatus and a pattern formation method with fewer failures in drawing a pattern due to level difference.
段差によるパターンの描画不良を低減したパターン形成装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PIP PATTERN PRODUCING DEVICE FOR BINGO SHEET, PIP PATTERN PRODUCING PROGRAM FOR BINGO SHEET, AND METHOD OF PRODUCING PIP PATTERN FOR BINGO SHEET
ビンゴシート用目パターン生成装置、ビンゴシート用目パターン生成プログラム、およびビンゴシート用目パターン生成方法 - 特許庁 - METHOD FOR DESIGNING LAYOUT PATTERN OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, DEVICE FOR DESIGNING LAYOUT PATTERN, AND PROGRAM FOR DESIGNING LAYOUT PATTERN
半導体集積回路のレイアウトパターン設計方法、レイアウトパターン設計装置およびレイアウトパターン設計用プログラム - 特許庁 - In the method for producing a resist pattern, a resist pattern is formed and the surface of the pattern is coated with the thickening material.
レジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布するレジストパターンの製造方法。 - 特許庁 - METHOD FOR ADAPTING PATTERN DIMENSIONS WHEN PROJECTING PATTERN OF PATTERN ELEMENT ON SEMICONDUCTOR WAFER BY PHOTOLITHOGRAPHY
半導体ウェーハ上にパターン要素のパターンをフォトリソグラフィによって投影する際のパターン寸法を適合する方法 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern to easily suppressing pattern collapse when a fine pattern is formed.
微細なパターンを形成する際のパターン倒れを容易に抑制できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - FORMING METHOD FOR CONDUCTIVE PATTERN, COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND ELECTRONIC PART PROVIDED WITH CONDUCTIVE PATTERN
導電性パターンの形成方法、導電性パターン形成用組成物および導電性パターンを有する電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PATTERN FORMING APPARATUS AND METHOD OF PATTERN FORMATION
感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - In a method for forming the resist pattern, the resist pattern is formed and then the surface of the resist pattern is coated with the resist pattern thickening material to form a thickened resist pattern.
レジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することにより厚肉化レジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 - 特許庁 - To provide a pattern measurement device and a pattern measurement method that easily discriminate between a line pattern and a space pattern without being affected by luminance of a pattern.
パターンの輝度の影響を受けることなく、ラインパターンとスペースパターンを容易に識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern collating device of a line pattern capable of strictly identifying any deformation in the input pattern, a pattern collating method thereof, and a pattern collating program.
入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁 - PATTERN FILM-FORMING MASK FOR SOLUTION COATING, ITS MANUFACTURING METHOD, PATTERN FILM-MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR
溶液塗布用パターン製膜用マスクとその製造方法、パターン膜の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF WIRING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD, AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSLUCENT BODY FORMING LIGHT-SHIELDING PATTERN THEREIN
配線パターンの形成方法、回路基板の製造方法および遮光パターンの形成された透光体の製造方法 - 特許庁 - POSITION CORRECTING METHOD FOR ALIGNMENT SENSOR, REFERENCE PATTERN CORRECTING METHOD, EXPOSURE POSITION CORRECTING METHOD, PATTERN FOR CORRECTION, AND ALIGNMENT DEVICE
アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING WIRING PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
レジストパターンの形成方法、配線パターンの形成方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR FORMING FILM PATTERN, METHOD AND APPARATUS FOR FORMING WIRING PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE
膜パターンの形成方法及び形成装置、配線パターンの形成方法及び形成装置、並びにデバイスの製造方法 - 特許庁 - NANOPARTICLE THIN FILM, METHOD OF MANUFACTURING OF NANOPARTICLE THIN FILM, NANOPARTICLE THIN FILM PATTERN FORMING METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD
ナノ粒子薄膜、ナノ粒子薄膜の製造方法、ナノ粒子薄膜パターン形成方法および回路パターン形成方法 - 特許庁 - CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON EMISSION ELEMENT USING THE CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON SOURCE, AND MANUFACTURING METHOD OF IMAGE DISPLAY DEVICE
導電性パターンの形成方法、これを用いた電子放出素子、電子源及び画像表示装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING SYSTEM OF MASK PATTERN, CELL LIBRARY, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK
マスクパターンの作製方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 - 特許庁 - MOVABLE BODY DRIVE METHOD, MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - DISCHARGE PATTERN GENERATING DEVICE, METHOD FOR GENERATING DISCHARGE PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC FUNCTIONAL ELEMENT
吐出パターン生成装置、吐出パターン生成方法、カラーフィルタの製造方法及び有機機能性素子の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MEASURING PATTERN ALIGNMENT ACCURACY, METHOD OF FORMING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE
パターンの位置合わせ精度計測方法、パターン形成方法、半導体装置の製造方法並びに電気光学装置 - 特許庁 - METHOD FOR DECIDING LIGHT RECEIVING WIDTH FOR ALIGNMENT PATTERN DETECTING SENSOR, ALIGNMENT PATTERN DETECTING SENSOR, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT PATTERN AND IMAGE FORMING APPARATUS
位置合わせパターン検知センサの受光幅決定方法・位置合わせパターン検知センサ・位置合わせパターンの形成方法・画像形成装置 - 特許庁 - SURFACE TREATING METHOD OF METALLIC MOLD FOR PATTERN TRANSFER, METHOD FOR MANUFACTURING OF METALLIC MOLD FOR DUPLICATE PATTERN TRANSFER AND METALLIC MOLD FOR DUPLICATE PATTERN TRANSFER
パターン転写用金型の表面処理方法、複製パターン転写用金型の製造方法及び複製パターン転写用金型 - 特許庁 - FEMALE DIE MATERIAL FOR BARRIER RIB PATTERN FORMING, AND FORMING METHOD OF FEMALE DIE FOR BARRIER RIB PATTERN FORMING, BARRIER RIB PATTERN FORMING METHOD, PLASMA DISPLAY PANEL
隔壁パターン形成用雌型材料、隔壁パターン形成用雌型の形成方法、隔壁パターン形成方法、プラズマディスプレイパネル - 特許庁 - METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
レジストパターンの形成方法、及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁 - RESIN FILM FORMING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
樹脂膜形成方法、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER
レジストパターン形成方法およびマスター情報担体の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER
薄膜パターン形成方法及びマスター情報担体の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MASK PATTERN AND METHOD FOR ETCHING MAGNETIC REPRODUCING HEAD
マスクパターンの形成方法および磁気再生ヘッドのエッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
薄膜パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN, OPTICAL PARTS AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL PARTS
パタン形成方法、光学部品、及び、光学部品の製作方法 - 特許庁 - MASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY, AND APPARATUS
マスク、パターンの転写方法、アライメント精度測定方法、および装置 - 特許庁 - METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED TERMINAL
導電性パターンの形成方法及びめっき端子の製造方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE
検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁 - EXPOSURE MASK, PATTERN FORMATION METHOD, AND EXPOSURE MASK FABRICATION METHOD
露光用マスク、パターン形成方法及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁 - ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, PATTERN GENERATION DEVICE, AND MAINTENANCE METHOD
露光装置、デバイス製造方法、パターン生成装置及びメンテナンス方法 - 特許庁 - MASK PATTERN PRODUCING METHOD AND DEVICE THEREFOR, AND OPTICAL DISK MANUFACTURING METHOD
マスクパターン作成方法及び装置、並びに光ディスク製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 - 特許庁 - EXPOSURE METHOD BY NEAR-FIELD LIGHT AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
近接場光による露光方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
パターンの形成方法、電子デバイスの製造方法、および電子デバイス - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
パターンの形成方法、電子デバイスの製造方法および電子デバイス - 特許庁 - IMAGE-PROCESSING METHOD AND NOISE PATTERN GENERATION METHOD FOR ERROR DIFFUSION
画像処理方法および誤差拡散のためのノイズパターン生成方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD
基板処理装置及び基板処理方法並びにパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING OUTER SURFACE OF CYLINDER AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SHEET
円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND PRODUCTION METHOD OF MEMBER HAVING PATTERN REGION
基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法 - 特許庁 - The resist pattern is formed by a lithography method or a printing method.
レジストパターンは、リソグラフィー法又は印刷法によって形成される。 - 特許庁
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