「pattern of」を含む例文一覧(49955)
＜前へ 1 2 .... 18 19 20 21 22 23 24 25 26 .... 999 1000 次へ＞- It is written in the form of shiroku benreibun (a prose style with a pattern of four- and six- character rhythms).
四六駢儷文で表記されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - It is part of the same or similar pattern of conduct.
それは同一か類似した行動パターンの一部だ。 - 旅行・ビジネス英会話翻訳例文 - A pattern is extracted by performing registration p1 of a pattern image with respect to a critical portion of the reference mask and registration p2 of a pattern in a critical portion of design data and applying extraction p4 of the critical pattern portion to a pattern image acquired by acquisition p3 of the pattern image of an inspection target mask.
基準マスクのクリティカル部分についてのパターン画像の登録Ｐ１と、設計データのクリティカル部分のパターンの登録ｐ２を行い、検査対象マスクのパターン画像の取得ｐ３によって得たパターン画像に対してクリティカルパターン部の抽出処理ｐ４を施すことでパターンを抽出する。 - 特許庁 - Then, display data of the embroidered pattern, printed pattern, and embroidered frame pattern are created (S12-S14), and the embroidered pattern, printed pattern, and embroidered frame pattern are displayed on the display 12 (S15).
次に、刺繍模様表示データと印刷模様表示データと刺繍枠模様表示データが作成され（Ｓ１２〜Ｓ１４）、刺繍模様と印刷模様と刺繍枠模様がディスプレイ１２に表示される（Ｓ１５）。 - 特許庁 - A conversion pattern deciding part 53 selects the first code pattern or the second code pattern on the basis of information from the RLL conversion pattern processing part 51, the replacement pattern processing part 52, and the replacement pattern processing control part 54.
変換パターン決定部53は、RLL変換パターン処理部51、置換パターン処理部52、そして置換パターン処理制御部54からの情報にもとづいて、第１の符号パターンまたは第２の符号パターンを選択する。 - 特許庁 - A pattern by 2^n-1 bits of one period of the PN pattern from the least significant bit of the PN pattern generated at an m-th reference clock (hereinafter this pattern is called 'A pattern') is employed for a pattern in 2^n-1 bits from the most significant bit of the pattern generated at an (m+1)th reference clock.
第ｍ番目の基準クロックで発生したＰＮパターンの最下位ビットからＰＮパターンの１周期分の２^ｎ−１ビット分のパターン（以下、このパターンを「Ａパターン」という）を、第ｍ＋１番目の基準クロックで発生させるパターンの最上位ビットから２^ｎ−１ビット分のパターンとする。 - 特許庁 - Since the simulation pattern created is similar to the design pattern in terms of its hierarchical structure, the simulation pattern is compared with the design pattern to increase the speed of comparison with the design pattern and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.
作成したシミュレーションパターンは設計パターンと階層構造が近似するため、シミュレーションパターンと設計パターンとを比較することで、設計パターンとの比較を高速化できるとともに、設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できる。 - 特許庁 - To provide a pattern dimension calculation method with which the dimension of pattern after processing can be accurately estimated regardless of shapes of pattern.
パターン形状に関わらずパターンの加工後寸法を精度良く予測することができるパターン寸法算出方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a fine pattern in a semiconductor device, which enables the formation of a narrow pattern by preventing the deformation of a photoresist pattern for ArF.
ArF用フォトレジストパターンの変形を抑え、狭いパターンの形成が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Since the pattern element of an upper stage whose scroll is to be stopped last is displayed larger than the pattern element of a middle stage and the pattern element of a lower stage in the scroll stopped state of all the pattern elements, the visibility of the last pattern element is improved compared to the preceding pattern elements.
最後にスクロール停止する上段の図柄要素を全ての図柄要素のスクロール停止状態で先の中段の図柄要素および下段の図柄要素に比べて大きく表示したので、最後の図柄要素の視認性が先の図柄要素に比べて高まる。 - 特許庁 - To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device, in which a photoresist pattern of a line pattern is formed, and by using a resist flow process, a further finer line pattern can be formed, wherein the photoresist pattern of the line pattern is formed by overlapping a plurality of contact hole patterns on a line.
本発明は、複数のコンタクトホールパターンが重なりながら一列に形成されたラインパターンのフォトレジストパターンを形成することにより、レジストフロー工程時にさらに微細なラインパターンを形成することができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The inductor includes: a metal layer pattern; a rearrangement layer pattern formed as the upper layer of the metal layer pattern; and a via layer pattern which is formed between the metal layer pattern and the rearrangement layer pattern, and conductively connected to the metal layer pattern and the rearrangement layer pattern.
インダクターは、金属層パターンと、金属層パターンの上層として形成される再配置層パターンと、金属層パターンと再配置層パターンの間に形成され、金属層パターンと再配置層パターンに導電的に接続されるビア層パターンとを含む。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF MOLD FOR MOLDING FINE PATTERN
微細パターン成形用金型の製作方法 - 特許庁 - DISPLAY PATTERN FORMING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT
有機ＥＬ素子の表示パターン形成方法 - 特許庁 - INSPECTION DEVICE OF CIRCUIT PATTERN AND INSPECTION METHOD
回路パターンの検査装置、および検査方法 - 特許庁 - DIMENSION MEASURING PATTERN AND FORMATION METHOD OF THE SAME
寸法測定パターン、及びその形成方法 - 特許庁 - INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD OF CIRCUIT PATTERN
回路パターンの検査装置および検査方法 - 特許庁 - INSPECTION METHOD AND INSPECTION DEVICE OF WIRING PATTERN
配線パターンの検査方法及び検査装置 - 特許庁 - The auxiliary pattern is composed of many unit patterns.
補助パターンは、多数の単位パターンからなる。 - 特許庁 - At the time of fault, the pattern is not displayed.
故障時には、その表示が行われない。 - 特許庁 - PATTERN EVALUATION METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
パターン評価方法及びデバイス製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF BOARD PATTERN, AND EXPOSURE DEVICE
基板パターンの製造方法及び露光装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING MOLD HAVING UNEVEN PATTERN
凹凸パターンを有する金型の製造方法 - 特許庁 - PATTERN APPLYING METHOD FOR SURFACE OF METAL PRODUCT
金属製品の表面の模様付け方法 - 特許庁 - METHOD FOR SETTING INPUT OF INJECTION VELOCITY PATTERN
射出速度パターンの入力設定方法 - 特許庁 - PATTERN LAYOUT AND METHOD OF GENERATING LAYOUT DATA
パターンレイアウト及びレイアウトデータの生成方法 - 特許庁 - METHOD OF AND APPARATUS FOR INSPECTING CIRCUIT PATTERN
回路パターンの検査方法及び検査装置 - 特許庁 - METHOD OF FORMING FINE PATTERN AND APPARATUS FOR THE SAME
微細パターン形成方法およびその装置 - 特許庁 - PRINTED BOARD AND CONDUCTOR PATTERN STRUCTURE OF THE SAME
プリント基板およびその導体パターン構造 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF ORIGINAL SEAT PATTERN FOR MOTORCYCLE
二輪車用オリジナル座席柄の製造方法。 - 特許庁 - A surface layer part of the resist pattern 4 is partially shaved.
レジストパターン４の表層部を一部削る。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN OF METAL FILM, AND COMPONENT
金属膜のパターン形成方法及び部材 - 特許庁 - ETCHING MASK AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN
エッチングマスク及び微細パターンの形成方法 - 特許庁 - INSPECTION METHOD OF SUBSTRATE HAVING REPETITIVE PATTERN
繰返しパターンを有する基板の検査方法 - 特許庁 - To widen the effective area of an antenna pattern.
アンテナパターンの実効面積を広くすること。 - 特許庁 - INSPECTING METHOD OF PATTERN DEFECT AND INSPECTING DEVICE
パターン欠陥検査方法および検査装置 - 特許庁 - INSPECTION DEVICE AND METHOD OF PATTERN DEFECT
パターン欠陥の検査装置及び検査方法 - 特許庁 - Consequently, the disturbance of the resist pattern can be prevented.
従って、レジストパターンの乱れを回避できる。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR INSPECTION OF CIRCUIT PATTERN
回路パターンの検査方法および検査装置 - 特許庁 - METHOD OF PREVENTING FIXED PATTERN PROGRAMMING
固定パターンプログラミングを防止するための方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING CONCRETE SURFACE HAVING PANEL PLATE PATTERN
パネル板模様を持つコンクリート面形成法 - 特許庁 - To maintain the high overlay accuracy of a pattern.
パターンの高い重ね合わせ精度を維持する。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING METAL PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT
半導体素子の金属パターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT
半導体素子の微細パターンの形成方法 - 特許庁 - ELECTRODE PATTERN OF IPS LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
ＩＰＳ液晶表示素子の電極パターン - 特許庁 - METHOD OF INDUCING PATTERN METAL ON SUBSTRATE
基板上にパターン金属を誘導する方法 - 特許庁 - To reduce dispersion in the size of a resist pattern.
レジストパターンのサイズのばらつきを低減する。 - 特許庁 - PRODUCTION METHOD OF PATTERN-ENGRAVED METAL FOIL
パターンが施された金属箔の製造方法 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF SELF-ALIGNED DOUBLE PATTERN
自己整合する二重パターンの形成方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING PATTERN IN DUAL DAMASCENE PROCESS
デュアルダマシンプロセスにおけるパターン形成方法 - 特許庁
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