「pattern of」を含む例文一覧(49955)

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  • The inter-pattern distance calculating means calculates the inter-pattern distance between a measurement pattern as aggregate of measurement peaks and reference pattern as aggregate of the reference peaks.
    パターン間距離計算手段は、測定ピークの集合である測定パターンと基準ピークの集合である基準パターンの間のパターン間距離を計算する。 - 特許庁
  • The controller 4 learns a relation between the movement pattern and the using pattern of the resident 15a or the like on the basis of the stored movement pattern and the stored using pattern.
    コントローラ4は、記憶された移動パターンと使用パターンとに基づいて、居住者15a等の移動パターンと使用パターンとの関係を学習する。 - 特許庁
  • In pattern step-up 1, a left symbol or a right symbol is changed from the design of a pattern 1 to the design of a pattern 2 in a pattern table (S205).
    図柄ステップアップ1では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける1のパターンのデザインから2のパターンのデザインに変更する(S205)。 - 特許庁
  • The deviation of the pattern widths of the real circuit pattern and the theoretical circuit pattern is obtained and corrected in this partitioning region unit, and a correcting circuit pattern is created (step S8).
    この分割領域単位で、実回路パターンと理論回路パターンのパターン幅の偏差を求めて補正し、補正回路パターンを作成する(ステップS8)。 - 特許庁
  • To diminish a mask pattern in pattern width after the mask pattern is formed and also to reduce the cost of plant investment which increases with scaling-down of the mask pattern.
    マスクパターンを形成した後にそのパターン幅を縮小化できるようにすると共に、マスクパターンの微細化に伴う設備投資コストを低減できるようにする。 - 特許庁
  • This coloring structure has a pattern part BP where a specified pattern is formed and a non-pattern part NP which is formed on the periphery of the pattern part and characteristic of developing a specified color.
    所定のパターンが形成されるパターン部BPと、パターン部の周囲に形成される非パターン部NPとが設けられ、所定の発色特性を有する。 - 特許庁
  • In pattern step-up 2, the left symbol or the right symbol is changed from the design of the pattern 2 to the design of a pattern 3 in the pattern table (S206).
    図柄ステップアップ2では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける2のパターンのデザインから3のパターンのデザインに変更する(S206)。 - 特許庁
  • In pattern step-up 4, the left symbol or the right symbol is changed from the design of the pattern 4 to the design of a pattern 5 in the pattern table (S208).
    図柄ステップアップ4では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける4のパターンのデザインから5のパターンのデザインに変更する(S208)。 - 特許庁
  • SPRAYING DEVICE OF MULTICOLOR PATTERN, SPRAYING METHOD OF MULTICOLOR PATTERN, MULTICOLOR PATTERN SPRAYED MATERIAL PRODUCING DEVICE, AND MULTICOLOR PATTERN SPRAYED MATERIAL PRODUCING METHOD
    多色模様の吹き付け装置、多色模様の吹き付け方法、多色模様の吹き付け物の生産装置及び多色模様の吹き付け物の生産方法 - 特許庁
  • In a reference pattern selection process 105, a reference pattern used as a reference for pattern matching is selected for each of the plurality of divided layout pattern groups.
    基準パターン選択工程105では、前記複数に分割されたレイアウトパターン群毎に、パターンマッチングの基準となる基準パターンを選択する。 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTION OF CYCLIC PATTERN
    周期性パターンの検査方法及び装置 - 特許庁
  • FINE PATTERN AND METHOD OF FORMING VIA HOLE
    微細配線及びビアホールの形成方法 - 特許庁
  • TREATMENT OF RESIST FILM AFTER PATTERN FORMING
    パターン形成されたレジスト膜の処理方法 - 特許庁
  • PATTERN OF METAL FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
    金属膜パターンおよびその製造方法 - 特許庁
  • PATTERN SHEET AND WINDING-UP JIG OF THE SAME
    パターンシート及びパターンシートの巻上げ用冶具 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING METAL FILM PATTERN FORMING BODY
    金属膜パターン形成体の製造方法 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD FOR EXTRACTION OF VERIFICATION PATTERN
    検証パターン抽出装置とその方法 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN FORMATION SUBSTRATE
    導電パターン形成基板の製造方法 - 特許庁
  • METHOD OF FORMING PATTERN AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
    パターン形成方法、及び基板処理装置 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING STEREOSCOPIC PATTERN OF THICK FILM RESIST
    厚膜レジスト立体パターンの製造方法 - 特許庁
  • PAPER PATTERN COPYING DEVICE OF DIAZO COPYING MACHINE
    ジアゾ複写機における型紙複写装置 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING ELECTRODE PATTERN OF CERAMIC SUBSTRATE
    セラミック基板の電極パターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERN PROCESSED OBJECT AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
    パターン加工物およびその製造方法 - 特許庁
  • FORMING METHOD OF RESIST PATTERN AND ALIGNER
    レジストパターンの形成方法及び露光装置 - 特許庁
  • METHOD OF DRAWING ULTRA-FINE PATTERN WITH HIGH ACCURACY
    極微細パターンの高精度描画方法 - 特許庁
  • FORMING METHOD FOR CONDUCTOR PATTERN OF WIRING BOARD
    配線基板の導体パターン形成方法 - 特許庁
  • DEVICE TO SUPPLY PATTERN OF POLARIZATION
    偏光のパタンを供給するための装置 - 特許庁
  • CONTAINER WITH PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    模様付き容器及びその製造方法 - 特許庁
  • CORRECTION METHOD OF CIRCUIT PATTERN AND ITS DEVICE
    回路パターンの補正方法及びその装置 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING PATTERN MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE
    人造大理石用柄材の製造方法 - 特許庁
  • MICRO PATTERN FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体装置の微細パターン形成方法 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF WOODY BOARD HAVING PATTERN
    模様を有する木質板の製造方法 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN OF LIQUID CRYSTAL PANEL
    液晶パネルの配線パターン形成方法 - 特許庁
  • FORMING METHOD AND SYSTEM OF DITHER PATTERN ARRAY
    ディザーパターンアレイの形成方法およびシステム - 特許庁
  • MANUFACTURE OF CONCRETE ARTICLE WITH SURFACE PATTERN
    表面模様付きコンクリート製品の製法 - 特許庁
  • UNEVENNESS DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE OF PATTERN
    パターンのムラ欠陥検査方法及び装置 - 特許庁
  • After that, the dimensions of the resist pattern are measured.
    その後、レジストパターンの寸法を測定する。 - 特許庁
  • SERVO WRITER, AND WRITE-IN METHOD OF SERVO PATTERN
    サーボライタ、及びサーボパターンの書き込み方法 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING PATTERN OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
    液晶表示素子のパターン形成方法 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING PATTERN FORMING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE
    人造大理石用柄材の製造方法 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF CONDUCTIVE PATTERN FORMING SUBSTRATE
    導電パターン形成基板の製造方法 - 特許庁
  • RAW MATERIAL OF PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    原型の原料およびその製造方法 - 特許庁
  • PATTERN SEWING MACHINE AND METHOD OF FABRIC FEEDING
    パターン縫いミシン及びその布送り方法 - 特許庁
  • METHOD OF TESTING PATTERN AND DATA PROCESSING SYSTEM
    パターン検証方法及びデータ処理システム - 特許庁
  • PRINTING METHOD OF CALIBRATION PATTERN AND PRINTER
    キャリブレーションパターンの印画方法及びプリンタ - 特許庁
  • FORMING METHOD OF CIRCUIT PATTERN WITH PLATING FILM
    メッキ被膜付き回路パターンの形成方法 - 特許庁
  • The dimension of the monitor pattern is measured (S9).
    モニターパターンの寸法を測定する(S9)。 - 特許庁
  • UNIFORMITY EVALUATION METHOD OF MESH-SHAPED PATTERN
    メッシュ状パターンの均一性評価方法 - 特許庁
  • METHOD AND STRUCTURE OF PATTERN MASK FOR DRY ETCHING
    ドライエッチング用パターンマスクの方法と構造 - 特許庁
  • METHOD OF FORMING MASK PATTERN ON SUBSTRATE
    基板上にマスクパターンを形成する方法 - 特許庁
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