「pattern on pattern」を含む例文一覧(29426)

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  • The pattern forming apparatus includes: a nozzle for discharging the pattern forming material; a sub-tank 551 for storing the pattern forming material; compressed-air piping 56 and vacuum piping 57 which are connected to the sub-tank 551; and a negative-pressure tank 572 installed on the piping 57.
    パターン形成装置は、パターン形成材料を吐出するノズル、パターン形成材料を貯溜するサブタンク５５１、サブタンク５５１に接続される圧縮空気用の配管５６および真空用の配管５７、並びに、配管５７上に設けられた負圧タンク５７２を備える。 - 特許庁
  • The mask shape of the visual field masking is stored in a serial EEPROM 121 as a bit pattern and mask formation means 11, 12 and 122 for reading the bit pattern from the serial EEPROM 121 and performing the visual field masking to the video signals on the basis of the bit pattern are provided.
    視野マスクのマスク形状をビットパターンとしてシリアルＥＥＰＲＯＭ１２１に格納すると共に、シリアルＥＥＰＲＯＭ１２１からビットパターンを読み出してそのビットパターンに基づいて映像信号に視野マスクを施すマスク形成手段１１，１２，１２２を設けた。 - 特許庁
  • A pattern-coating material 5, for use in a process of etching a pattern 3B formed on a substrate 1 with use of the pattern as a mask 4, contains a metal compound which can generate hydroxyl groups through hydrolysis.
    基板１の上に形成されたパターン３Ｂをマスク４としてエッチングをするプロセスに用いられるパターン被覆材料５であって、加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物を含有することを特徴とするパターン被覆材料を用いてパターンを被覆する。 - 特許庁
  • Subsequently, based on the hand from which the pattern of the discarded tile to bring about the ready-hand condition is removed as a temporary discarded tile, a pattern of a tile (second tile) to be drawn that will bring about the win when it is drawn and a winning combination to win a round by the pattern to be drawn are predicted.
    続いて、この手牌から、この聴牌にするための捨て牌の図柄を仮の捨て牌として削除した前記手牌について、２手先となる自摸れば上がりになる自摸すべき図柄と、この自摸すべき図柄により上がりになる上がり役を予想する。 - 特許庁
  • A matching pattern generation part 1 generates a matching pattern of continuous numbers by discarding and replacing a number with which it is difficult to decide whether the person himself or herself is a pretender with a new number on the basis of an evaluation result obtained by a number unit score evaluation part 10, and the presents the matching pattern to a user.
    照合パタン作成部１は、数字単位スコア評価部１０による評価結果に基づき、本人か詐称者かの判別が困難な数字を捨て、新たな数字に入れ替えて連続数字の照合パタンを作成してユーザに提示する。 - 特許庁
  • In the manufacture of the defective mask for inspecting a defect in a pattern transfer mask used in a semiconductor lithography process, the mask pattern 4 that is the same as a pattern transfer mask to be inspected is formed on a mask substrate that becomes the base of the defective mask.
    半導体体リソグラフィ工程にて用いられるパターン転写マスクの欠陥を検査するための欠陥マスクを製造するのにあたり、その欠陥マスクの基となるマスク基板上に、検査対象となるパターン転写マスクと同一のマスクパターン４を形成する。 - 特許庁
  • A determination method for determining a replacement timing of a focus ring disposed around a substrate to improve in-plane uniformity of a pattern when the pattern is formed by etching a film on the substrate comprises a measurement step of measuring a shape or dimension of the pattern and a determination step of determining a replacement timing of the focus ring based on the shape or dimension of the measured pattern.
    基板上の膜をエッチングしてパターンを形成する際に、該パターンの面内均一性を高めるために該基板の周囲に配置されるフォーカスリングの交換時期を判定する判定方法において、前記パターンの形状又は寸法を測定する測定工程と、測定した前記パターンの形状又は寸法に基づいて、前記フォーカスリングの交換時期を判定する判定工程とを備える。 - 特許庁
  • A method is disclosed, regarding acquiring of information concerning a motor by using the optical encoder system, and comprises irradiating the first code pattern arranged on the first face of the pattern medium, irradiating the second code pattern arranged on the second face of the pattern medium, detecting the light reflected from the first face, detecting the light reflected from the second face, and analyzing the rays of the reflected light.
    光エンコーダシステムを使用してモータに関する情報を得る方法であって、パターン媒体の第１の面に配置された第１のコードパターンを照らし、パターン媒体の第２の面に配置された第２のコードパターンを照らし、前記第１の面から反射された光を検出し、前記第２の面から反射された光を検出し、反射光を分析することからなる方法を開示する。 - 特許庁
  • Then, when the number of times of executing the big winning game after an episode pattern EP1 is determined is equal to or less than the predetermined number of times (5 times), when an episode pattern EP1-EP2 is determined, the episode performance based on the episode pattern EP2 corresponding to the next stage of the episode performance based on the episode pattern EP1 executed in the previous time is executed.
    そして、統括ＣＰＵは、エピソードパターンＥＰ１が決定されてからの大当り遊技の実行回数が予め決められた回数（５回）以下である場合に、エピソードパターンＥＰ１〜ＥＰ２が決定されたときには、前回実行されたエピソードパターンＥＰ１に基づくエピソード演出の次の段階に対応するエピソードパターンＥＰ２に基づくエピソード演出を実行させる。 - 特許庁
  • A watermark image input part 200 is provided with a watermark information extracting part 220 for detecting the superimposed position of a superimposed pattern from a pattern superposition image obtained by superimposing an discriminative pattern on an original image and an input image deformation part 230 for preparing the corrected image of the pattern superimposed image 260, on the basis of the detected superimposed position information.
    透かし画像入力部２００は，元画像に識別可能なパターンを重畳したパターン重畳画像から，重畳したパターンの重畳位置を検出する透かし情報抽出部２２０と，検出した重畳位置情報を元にして，パターン重畳画像２６０の補正画像を作成する入力画像変形部２３０とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁
  • The semiconductor device 1 is provided with: an electrode pattern 10 formed on the substrate; the electrode film 20 located on the electrode pattern 10 via the space; and fitting patterns 11, 21 respectively provided to the electrode pattern 10 and the electrode film 20 and fitting a fuse 30 to bring the same potential to the electrode pattern 10 and the electrode film 20.
    本発明は、基板上に形成される電極パターン１０と、電極パターン１０の上に空間部を介して設けられる電極膜２０と、電極パターン１０および電極膜２０に各々に設けられ、電極パターン１０と電極膜２０と間を同電位にするヒューズ３０を取り付けるための取り付けパターン１１、２１とを備える半導体装置１である。 - 特許庁
  • Thus, as compared with a pattern drawing device having only one light source, the frequency of the lights emitted to a region where one drawn pattern element is drawn on the substrate 9 can be doubled and the moving speed of the substrate 9 in the main scanning direction during drawing the pattern can be increased to improve the drawing speed of the pattern on the substrate 9.
    これにより、１つの光源のみを有するパターン描画装置に比べて、基板９上の１つの描画パターン要素が描画される領域に照射される光の周波数を２倍とすることができ、パターンの描画時における基板９の主走査方向の移動速度を増大させて基板９に対するパターンの描画速度を向上することができる。 - 特許庁
  • A color filter having at least a transparent colored pattern layer 3 sectioned into pixels with a black matrix pattern layer 2 on a transparent substrate 1 and a transparent common electrode layer 5 on the transparent colored pattern layer 3 is provided with a photospacer part 4 for cell gap adjustment, formed having a large layer thickness in a projection shape, at a portion of the transparent colored pattern layer 3.
    透明基板１上に少なくともブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３と、該透明着色パターン層３上に透明な共通電極層５とを備えたカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層３の一部に、その層厚を突起状に厚く形成したセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４が設けられている。 - 特許庁
  • The semiconductor light-emitting device is provided with a substrate 31 and a semiconductor layer, an active layer, and an electrode layer formed on the substrate, in which a multi-pattern structure is provided including a first pattern 32 formed in a corrugated structure between the substrate and the semiconductor layer, and a second pattern 33 having a corrugated structure formed on the corrugated structure of the first pattern.
    基板３１及び基板上に形成された半導体層、活性層及び電極層を備える半導体発光素子において、基板と半導体層との間に凹凸構造で形成された第１パターン３２と、第１パターンの凹凸構造上に形成された凹凸構造の第２パターン３３と、を備える多重パターン構造を有する半導体発光素子である。 - 特許庁
  • The resist pattern forming method has steps of placing on a base material a liquid material, containing a resist and fine particles exhibiting reflection factor/wavelength characteristics different from those of the base material in a visible light region to form a material pattern 10A on the base material, and drying the material pattern to form a resist pattern 10B.
    レジストパターン形成方法が、レジストと、可視光域において下地物体の反射率・波長特性とは異なる反射率・波長特性を呈する微粒子と、を含有した液状材料を前記下地物体上に配置して、前記下地物体上に材料パターン１０Ａを形成する工程と、前記材料パターンを乾燥してレジストパターン１０Ｂを形成する工程と、を有している。 - 特許庁
  • Illumination light which is made incoherent and illuminates a pattern surface on an observation object by using coherent light, and reference light which is made incoherent are formed, a light amount of reference light is dimmed corresponding to reflectance of a pattern surface, reflection light from a pattern surface and reference light are combined and imaged on a photoelectric conversion element and a pattern position is measured from the imaged interference image signal.
    コヒーレント光を用いて観察物体上のパターン面を照明するインコヒーレント化された照明光と、インコヒーレント化された参照光とを形成し、参照光の光量をパターン面の反射率に対応して調光し、パターン面からの反射光と参照光を合わせて光電変換素子上に結像させ、その結像した干渉画像信号からパターンの位置を計測する。 - 特許庁
  • The controller 2 executes a first step of making the controlled device 1 project the metal wiring mask pattern 31 and the identification mask pattern 32 onto a resist film 81, formed on the wafer 7 for each shot, and a second step of making the controlled device 1 project the metal wiring mask pattern 41 and the identification mask pattern 42 onto a resist film 82, formed on the wafer 7 in every shot.
    制御装置２は、被制御装置１に、ウエハ７上に形成されたレジスト膜８１に金属配線マスクパターン３１と識別マスクパターン３２とをショット毎に投影させる第１ステップと、被制御装置１に、ウエハ７上に形成されたレジスト膜８２に金属配線マスクパターン４１と識別マスクパターン４２とをショット毎に投影させる第２ステップとを実行する。 - 特許庁
  • In the magnetic recording medium having a disk substrate and a plurality of recording cells arranged along a track direction on the substrate, each recording cell includes a ferromagnetic pattern and a soft magnetic pattern formed on either one of two sidewalls facing the track direction of the ferromagnetic pattern and having a crystal magnetic anisotropic constant Ku smaller than that of the ferromagnetic pattern.
    ディスク基板と、前記基板上にトラック方向に沿って配列された複数の記録セルとを有し、前記記録セルは、強磁性パターンと、前記強磁性パターンのトラック方向に面する２つの側壁のいずれか一方の側壁に形成された、前記強磁性パターンよりも結晶磁気異方性定数Ｋｕが小さい軟磁性パターンとを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁
  • The above problem is dissolved by making irregularity exist on the surface of a servo pattern area 21 in the magnetic recording medium having a data track area 20 and the servo pattern area 21 at least consisting of a disk substrate 1A, a magnetic recording layer 5 formed on the disk substrate 1A with a predetermined irregularity pattern and a non-magnetic layer 6 formed at a recessed part of the irregularity pattern.
    少なくともディスク基板１Ａと、ディスク基板１Ａ上に所定の凹凸パターンで形成された磁気記録層５と、その凹凸パターンの凹部に形成された非磁性層６とからなるデータトラック領域２０及びサーボパターン領域２１を有する磁気記録媒体において、サーボパターン領域２１の表面に凹凸を存在させたことにより、上記課題を解決した。 - 特許庁
  • First information such as a number printed on a document, second information relative to fixed signature and seal prepared beforehand (pattern date of a seal image) and third information pattern (print image pattern) obtained by changing the second information based on confidential information (confidential information pattern data) corresponding to the first information are added when data is printed in the specific region of the document.
    紙面に印刷された番号などの第１情報と、予め用意されて固定した署名・捺印に関わる第２情報（捺印画像のパターン・データ）と、上記第１情報に対応した秘匿情報（秘匿情報パターン・データ）に基づいて上記第２情報を改変した第３情報の画像パターン（印刷画像パターン）で上記紙面の特定領域に印刷したものである。 - 特許庁
  • When performing on a circuit board the input/output impedance matching of approximately lower than 1 Ω relative to the power amplification element for power amplifying the high-frequency signals of 500 MHz or higher, in order to narrow the pattern width of the transmission line being pattern-formed on a pattern wiring layer of the circuit board, a ground layer is additionally formed in a dielectric layer immediately below the pattern concerned.
    ５００ＭＨｚ以上の高周波信号を電力増幅する電力増幅素子に対して回路基板上で概ね１Ω未満の入出力インピーダンスマッチングを行う場合に、前記回路基板のパターン配線層にパターン形成される伝送線路のパターン幅が狭まるように、該当パターン直下の誘電体層内にグランド層を追加形成するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁
  • When a step of forming a resist pattern by processing a resist film formed on a workpiece and a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask under a predetermined etching condition are performed, a dimension and a shape (a film thickness and a taper angle) of the formed resist pattern are measured and the etching condition is adjusted based on the measured dimension and shape of the resist pattern.
    被加工対象上に形成されたレジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンをマスクとして、所定のエッチング条件で被加工対象をエッチングする工程とを実行する際に、形成されたレジストパターンの寸法及び形状（膜厚及びテーパ角度）を測定し、測定されたレジストパターンの寸法及び形状に基づいて前記エッチング条件を調整する。 - 特許庁
  • When a display mode on the variable display device 310 becomes that disadvantageous to the player, on condition that a prescribed previous notice pattern is displayed on the normal pattern display device 140, a prescribed concealed pattern for concealing one of the pieces of identification information forming a disadvantageous display mode on the variable display device 310 is made to appear.
    可変表示装置３１０における表示態様が遊技者にとって不利な表示態様になったとき、普通図柄表示装置１４０に所定の予告図柄が表示されることを条件に、可変表示装置３１０における不利な表示態様を成す識別情報の何れかを隠蔽するための所定の隠蔽図柄を出現させる。 - 特許庁
  • A reference elapsed time is calculated when the pattern for alignment is formed on a conveying belt so as to correct positional deviation, the pattern for alignment of basic color is formed on each of a plurality of photoreceptor drums, and the pattern for alignment on the photoreceptor drum is detected, then the positional deviation is corrected based on a result of the detection and the reference elapsed time.
    搬送ベルト上に位置合わせ用パターンを形成して位置ずれを補正した際に基準経過時間を算出し、基本色の位置合わせ用パターンを複数の感光体ドラムの夫々に形成し、その感光体ドラム上の位置合わせ用パターンを検出し、その検出結果と基準経過時間とに基づいて、位置ずれを補正する。 - 特許庁
  • When the subject is placed on the base surface, the pattern is projected on a three-dimensional surface, and a distortion correction parameter calculation unit calculates a parameter for restoring a surface shape of the subject placed on the base surface to a planar state from distortion of the pattern based on image data obtained by photographing the projected pattern by the camera unit.
    台面上に被写体が置かれている状態であれば、上記絵柄は立体表面に投影され、歪み修正パラメータ演算部はカメラ部にて上記投影される絵柄を撮影した画像データに基づき、同絵柄の歪みから上記台面上に載置された被写体の表面形状を平面状に戻すパラメータを演算する。 - 特許庁
  • When a displaying mode on the variable display device 310 is turned to the mode disadvantageous to the player, on condition that a prescribed previous noticing pattern is displayed on the normal pattern display device 140, a prescribed masking pattern for masking one of the pieces of identification information forming a disadvantageous display mode on the variable display device 310 is made to appear.
    可変表示装置３１０における表示態様が遊技者にとって不利な表示態様になったとき、普通図柄表示装置１４０に所定の予告図柄が表示されることを条件に、可変表示装置３１０における不利な表示態様を成す識別情報の何れかを隠蔽するための所定の隠蔽図柄を出現させる。 - 特許庁
  • This method strings the weft 2 on a rectangular weft frame 1 in arranged and tensioned state and prints a pattern on the surface of the weft stringed on the weft frame by a printing machine 22 and prints a mirror symmetry pattern of the pattern on the surface to the back face after reversing the weft frame.
    矩形状の緯糸枠体１に所定の張力を与えながら整列状態に緯糸２を張設し、緯糸枠体に張設した前記緯糸の表面にプリンタ装置２２により柄をプリントするとゝもに、前記緯糸枠体を反転した後、緯糸枠体に張設した前記緯糸の裏面に表面の柄と反対の鏡面柄をプリントする。 - 特許庁
  • In a semiconductor device 1 which is configured to seal a semiconductor chip 8 mounted on the main plane of a package board 2 with sealing material 11, a conductor pattern 4 for wiring is arranged on the main plane and rear planes of the package board 2; and a dummy conductor pattern 4 is arranged on the area on which the wiring conductor pattern 4 is not arranged.
    パッケージ基板２の主面上に実装された半導体チップ８を封止部材１１によって封止した構成を持つ半導体装置１において、パッケージ基板２の主面および裏面に、配線用の導体パターン４を配置した他に、その配線用の導体パターン４が配置されていない領域にダミー用の導体パターン４とを配置した。 - 特許庁
  • This invention relates to the method of manufacturing the TAB tape provided with an insulating tape and a circuit pattern formed on the insulating tape, including the processes of: forming a sputter thin film only in a formation schedule region of the circuit pattern on the insulating tape; and forming an electric plating layer on the sputter thin film formed on the insulating tape to form the circuit pattern.
    絶縁性テープと、絶縁性テープ上に形成された回路パターンと、を有するＴＡＢテープの製造方法であって、絶縁性テープ上における回路パターンの形成予定領域のみにスパッタ薄膜を形成する工程と、絶縁性テープ上に形成されたスパッタ薄膜上に電気めっき層を形成して回路パターンを形成する工程と、を有する。 - 特許庁
  • A content reproduction device 1 comprises: an operation information acquisition unit 21 for acquiring information about user's operations on a content; an operation pattern information specification unit 22 for specifying information about an operation pattern on the content based on the user operation information; and a chapter position determination unit 23 for determining chapter positions in the content based on the specified operation pattern information.
    コンテンツ再生装置１は、コンテンツに対するユーザ操作情報を取得する操作情報取得部２１と、前記ユーザ操作情報に基づいて前記コンテンツの操作パターン情報を特定する操作パターン情報特定部２２と、特定された前記操作パターン情報に基づいて前記コンテンツのチャプター位置を決定するチャプター位置決定部２３とを備える。 - 特許庁
  • The pattern on a master pattern plate(MP plate) 1 obtained by forming a pattern layer 12 on a glass plate 11 is transferred on a photographic plate 2 obtained by laminating an emulsion layer 22 and a 1st protective film 23 having water permeability on a glass plate 21 by allowing the MP plate 1 and the photographic plate 2 to closely contact with each other.
    そこで本発明では、ガラス板１１にパターン層１２が形成されたマスターパターン板（ＭＰ板）１と、ガラス板２１に乳剤層２２および透水性を有する第１保護膜２３が積層された乾板２とを真空密着させて、ＭＰ板１の上方から光３を照射してＭＰ板１のパターンを乾板２に転写する。 - 特許庁
  • This method of forming a cell pattern comprises a step for prepatterning by attaching a cell growth-promoting molecule and/or a cell growth-inhibiting molecule on the surface on which the cell pattern may be formed, and a step for forming the cell pattern on the surface by culturing the cells on the surface having the prepattern.
    細胞パターンを形成しようとする表面に細胞成長促進分子及び／又は細胞成長阻害分子を当該表面にパターン被着させることによって予備パターンする工程と、上記予備パターンされた表面上に細胞を培養することによって上記表面上に細胞パターンを形成する工程とを有し、上記細胞が全体組織である。 - 特許庁
  • Further, the width of the base 42 side by the scattered electrons on the base layer is smaller on the projected part 74 than on the primary pattern 72.
    更に、ベース層において散乱された電子によるベース４２側の幅の広がりが、主パターン７２よりも突部７４の方が小さくなっている。 - 特許庁
  • A first alignment mark 1 is formed on an n-type semiconductor layer 12, and an insulation film 13 having a trench pattern is formed on the whole surface on it.
    ｎ型半導体層１２に第１のアライメントマーク１を形成し、その上全面にトレンチパターンを有する絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁
  • A picture frame pattern 32 to prevent light leakage on the periphery of the display region is arranged on the outer circumference of the display region on the array substrate.
    アレイ基板上において、表示領域の外周には、表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターン３２が設けられている。 - 特許庁
  • After the tin plating 4 is conducted on a copper foil 2 on the base film 1, a pattern is formed on the tin-plated copper foil 2.
    ベースフィルム１上にラミネートされた銅箔２上に錫メッキ４を行った後、その錫メッキされた銅箔２に対しパターン形成を行う。 - 特許庁
  • They live on the coast, riverbank, or wetland, having been popular as a special feature on the beach and riverbank since ancient ages and known as a pattern of 'Nami ni Chidori' (plover on the wave).
    海岸、河原、湿原などに生息し、古くから浜辺や河原の風物詩として親しまれ、「波に千鳥」などの図柄、紋でも知られる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • All of the static image information is inserted and is displayed on divided screens depending on the display pattern determined on the basis of a reproduction management list.
    再生管理リストに基づいて決定した表示パターンに応じたその分割画面に全ての静止画情報が嵌め込まれて表示される。 - 特許庁
  • An image observation device 9 detects the position of the object on the basis of a pattern formed on the surface of the object held on the stage.
    画像観察装置９が、ステージに保持された対象物の表面に形成されたパターンに基づいて、対象物の位置を検出する。 - 特許庁
  • In the color filter 1 obtained by successively forming a plurality of color pixel patterns 3 with color materials on a transparent substrate, a frame like dummy pattern 4 surrounding the color pixel pattern area is formed of the color material for one color pixel pattern 3 at the same time as the formation of one color pixel pattern 3 in the color pixel patterns 3.
    透明基板上に、色材にて順次複数色のカラー画素パターン３を形成したカラーフィルター１において、前記カラー画素パターン３のうちの一色分のカラー画素パターン３を形成する際、前記一色分のカラー画素パターン３の色材にて、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターン４を同時に形成したことを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁
  • In the light guide plate having light incident from an end face and emitted from an emission face of one surface and having a uniform-brightness fine pattern formed on a reflecting face opposed to the emission face, the uniform-brightness fine pattern is formed of a screen-printed convex pattern and a laser-punched concave pattern.
    光を端面から入射し、一方の表面の射出面から射出し、射出面に対面する反射面には、輝度均斉化微細パターンが形成されている導光板において、前記輝度均斉化微細パターンが、スクリーン印刷された凸パターンと、レーザー穿設された凹パターンとから形成されていることを特徴とする導光板。 - 特許庁
  • The pattern drawing system has a pattern drawing device 40 which draws pattern on an object 2 by using an optical modulator 5 including several light modulation devices whose modulation state can be selectively set respectively, and a data output device 30 which outputs data for setting the modulation state of the light modulation devices to the pattern drawing device 40.
    パターン描画システムは、それぞれ変調状態を選択的に設定可能な複数の光変調素子を含む光変調器５を用いて対象物２にパターンを描画するパターン描画装置４０と、該パターン描画装置に対して、光変調素子の変調状態を設定するためのデータを出力するデータ出力装置３０とを有する。 - 特許庁
  • A color correction table preparation part 20 that adjusts a specific color on the basis of a pattern sheet prepared from an image output device first uses a pattern sheet preparing section 20f provides an output of data for a pattern sheet with patches where the amount of each element color of the specific color is changed at each of gradations so as to allow the image output device to prepare the pattern sheet.
    画像出力装置から生成されるパターンシートに基づき特定色を調整する色補正テーブル生成装置２０によれば、まず、パターンシート生成部２０ｆによって、複数階調のそれぞれにおいて前記特定色の各要素色の量を変化させた複数のパッチを有するパターンシートが前記画像出力装置で生成される。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method by tilting a light modulating means to image for exposure, by which a permanent pattern such as a wiring pattern is efficiently formed with high definition by forming a desired imaged pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.
    前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • An imaging apparatus includes: a CCD 22; a noise pattern ROM 25 storing a plurality of pattern signals for noise cancellation for an image signal obtained by the CCD 22; and an OB clamp circuit 24 for superimposing on the image signal obtained by the CCD 22 in accordance with the pattern signal read out of the noise pattern ROM 25 correspondingly to an operating state of a color signal processing circuit 26.
    ＣＣＤ２２と、このＣＣＤ２２で得た画像信号に対する雑音打消しのためのパターン信号を複数記憶した雑音パターンＲＯＭ２５と、色信号処理回路２６の動作状態に対応して雑音パターンＲＯＭ２５から読出されるパターン信号によりＣＣＤ２２で得た画像信号に重畳するＯＢクランプ回路２４とを備える。 - 特許庁
  • The device for providing a pattern for calibration includes: a hologram 1 on which the pattern for calibration composed of a plurality of feature points arranged with a depth is recorded as a three-dimensional image and which is installed so that the recorded pattern for calibration is imaged by the imaging apparatus 3; and an illumination 2 irradiating the hologram 1 with predetermined illumination light, so that the pattern for calibration is reproduced.
    奥行きをもって配置された複数の特徴点からなる校正用パターンが三次元像として記録され、記録された校正用パターンを撮像装置３により撮像可能に設置されるホログラム１と、ホログラム１に対して、校正用パターンを再生可能に所定の照明光を照射する照明２とを備えた。 - 特許庁
  • On the other hand, the Pachinko game machine determines that the specified pattern can not be stop-displayed in the pattern display area when the result of the variable display of the identification information becomes the specified display form and determines the patterns so as not to stop-display the specified pattern in the pattern display area even when the operation of the operation means is performed at the prescribed timing.
    一方、パチンコ遊技機は、識別情報の可変表示の結果が特定の表示態様となる場合には、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示不可能に決定し、操作手段の操作が所定のタイミングで行われても、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示させないように図柄を決定する。 - 特許庁
  • When a partition material on a back face substrate 1 is sandblasted using a resist pattern 2 as a mask, a wider resist pattern 22 for an outer peripheral partition surrounding the outermost pattern of all the resist patterns 21 for the internal partition susceptible to the side etching is provided to improve the adhesion of the outermost peripheral resist pattern to the paste and to prevent the peeling-off of the resist at sandblasting.
    背面基板１上の隔壁材料をレジストパターン２をマスクとしてサンドブラストするときに、サイドエッチングを受けやすい内部隔壁用レジストパターン２１のうち最も外側のパターンを囲む幅の広い外周隔壁用レジストパターン２２を設け、最外周のレジストパターンとペーストとの密着性を向上させ、サンドブラスト時のレジスト剥離を防ぐ。 - 特許庁
  • The resist pattern 1 of a rugged mold 21 is transferred onto a resist layer 12 formed on a board 11 through an imprint method, and then the side face of the protrudent pattern of the transferred resist pattern 1 is etched to form a resist pattern 2 equipped with projections 15 having a width w4 narrower than the width w6 of the corresponding recess 23 of the mold 21.
    基板１１上に形成されたレジスト層１２にインプリント法で凹凸形状を有するモールド２１のレジストパターン１を転写した後、転写されたレジストパターン１の凸形状のパターン側面をエッチングすることにより、対応するモールド２１の凹部２３の幅ｗ６よりも狭い幅ｗ４の凸形状１５を有するレジストパターン２を形成する。 - 特許庁
  • To provide a new detergent for lithography that can keep a low surface tension even when the concentration of a surfactant is decreased, can effectively suppress pattern collapse and defects, can improve uneven pattern width (line width roughness: LWR) and minute recesses and projections (line edge roughness: LER) on a pattern side wall, and prevents a dimensional fluctuation of a resist pattern.
    界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。 - 特許庁
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