「pattern on pattern」を含む例文一覧(29426)

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  • The electric control device 20 displays a guide line 24 set based on the interval of the belt-shaped pattern 12a on the display device 22, and stores a pattern matching image 26 formed on the display device 22 in the volatile storage part 17.
    電気制御装置２０は、帯状パターン１２ａの間隔に基づいて設定された案内線２４をディスプレイ装置２２に表示させるとともに、ディスプレイ装置２２に形成したパターンマッチング画像２６を揮発性記憶部１７に記憶させる。 - 特許庁
  • The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.
    露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁
  • Based on a comparison of a three-dimensional terrain on the respective tile with at least one pre-defined tile pattern, either an identifier (19) for a pre-defined tile pattern or data describing the terrain on the respective tile are stored in the entry.
    少なくとも１つの定義済みのタイル型と各々のタイル上の３次元地形の比較に基づいて、定義済みのタイル型に対する識別子（１９）、又は、各々のタイル上の地形を記述するデータのどちらかが、その項目中に保存される。 - 特許庁
  • When anisotropic connection of a glass panel 11 and an FPC 13 is made, a cushioning material 14 having one surface on which protrusions 14b are formed in a pattern corresponding to the wiring pattern of wiring electrodes 13b on an FPC 13 is placed on the FPC 13.
    ガラスパネル１１とＦＰＣ１３とを異方性接続する際、一方の面にＦＰＣ１３の配線電極１３ｂの配線パターンに応じたパターンの凸部１４ｂが形成されている緩衝材１４をＦＰＣ１３上に配置する。 - 特許庁
  • To provide a pattern structure wherein a pattern on an integrated circuit element mounting surface is efficiently laid around, with respect to a piezoelectric oscillator wherein an integrated circuit element is arranged on the bottom of an insulating substrate on which a quartz resonator is mounted.
    本発明の目的は、 水晶振動子が搭載された絶縁性基体の底面に集積回路素子が配置された圧電発振器において、集積回路素子搭載面のパターンが効率良く引き回されたパターン構造を提供すること。 - 特許庁
  • This image forming device is, let transfer the patch pattern on the image carrier 1 in front of a position that a cleaning member 6 is brought into contact with an parted therefrom, with regard to an intermediate transfer body 2, and the patch pattern on the image carrier is suppressed to be transferred on the said position of the image carrier 1.
    この発明は、中間転写体２に対して、クリーニング部材６が接触してから離反する位置よりも前に像担持体１上のパッチパターンを転写し、かつ前記位置には像担持体１上のパッチパターンを転写しないものである。 - 特許庁
  • Next, a second wiring layer 6b is formed on the non-light-receiving section of the second flattening layer 5b provided on the first wiring layer and the first dummy pattern, and a second dummy pattern 10b is formed on the light-receiving section of the second flattening layer.
    次に第１の配線層及び第１のダミーパターン上に設けられた第２の平坦化層５ｂの非受光部上に第２の配線層６ｂを形成すると共に、第２の平坦化層の受光部上に第２のダミーパターン１０ｂを形成する。 - 特許庁
  • In the manufacturing method of a phase shifter that comprises a pattern for phase-modulating incident light on a quartz substrate, a metal film is deposited on the quartz substrate, on which a resist film is applied for exposure and development, to form a resist pattern.
    石英基板に入射光を位相変調するパターンを有する位相シフタの製造方法であって、前記石英基板に対し前記石英基板上に金属膜を堆積しレジスト膜を塗布し露光および現像しレジストパターンを形成する。 - 特許庁
  • The semiconductor device comprises a semiconductor substrate having various elements for making the device, an interlayer insulation film on the substrate, a dual damascene pattern made on the interlayer insulation film, and SiC_xH_y film spacers formed on the sidewalls of the dual damascene pattern.
    半導体素子を形成するためのいろいろの要素が設けられた半導体基板と、基板上の層間絶縁膜と、層間絶縁膜に形成されたデュアルダマシンパターンと、デュアルダマシンパターンの側壁に形成されたＳｉＣｘＨｙ膜スペーサーとを含む。 - 特許庁
  • Also, in a model in which the temperature adjustment control of the fixing unit is performed by changing over the output pattern in a specified time period, an ON waveform on the negative side of the same phase angle as the phase angle on the AC positive side is generated for the output pattern within the specified time period.
    また定着器の温調制御を一定時間周期で出力パターンの切り換えを行う機種において、出力パターンをＡＣ＋側の位相角と同じ位相角の−側のＯＮ波形を一定時間周期内に生成する。 - 特許庁
  • Then, a base insulating layer 4 is formed on the metal foil 3 and the metal support substrate 2, a conductor pattern 5 is formed on the base insulating layer 4, and a cover insulating layer 6 is formed on the base insulating layer 4 to cover the conductor pattern 5.
    次いで、金属箔３および金属支持基板２の上にベース絶縁層４を形成し、ベース絶縁層４の上に導体パターン５を形成し、ベース絶縁層４の上に導体パターン５を被覆するようにカバー絶縁層６を形成する。 - 特許庁
  • The decorative sticker comprises: an opaque printed pattern layer 6 formed in a predetermined position on a metal foil surface 5; and a transparent cover layer 8 formed on the metal foil surface 5 on which the printed pattern layer 6 is not formed.
    金属箔表面５上の所定位置に不透明の印刷パターン層６が形成され、印刷パターン層６が形成されなかった金属箔５表面上に透明カバー層８が形成されて構成されてなることを特徴とする装飾用シール。 - 特許庁
  • The interlayer insulating film 15 on the metallic layer 6 can be set equal in thickness to the interlayer insulating film on a wiring pattern inside an LSI, and a length measuring contact hole can be formed with qualifications near to those of a contact hole located on an actual wiring pattern.
    そして、金属層６上の層間絶縁膜１５の膜圧をＬＳＩ内部の配線パターン上の層間絶縁膜と同等にすることができ、実際の配線パターン上のコンタクトホールと近い条件の測長用コンタクトホールが形成される。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method in which light is radiated on a part of a titanium (Ti) metal formed on a layer to be etched to form a titanium oxide(TiOx) film, and then a pattern is formed on the layer to be etched using the difference of the etching rates.
    エッチング対象層上に形成されるチタン（Ti）金属の一部に光を照射してチタン酸化物（TiOx）膜を形成した後、そのエッチング速度の差を利用してエッチング対象層にパターンを形成するパターン形成方法を提供しようとする。 - 特許庁
  • Display moving special information 402 relating to a pattern combination of a jackpot on the pattern combination of blank is carried out and display changing the pattern combination of the blank to the pattern combination of the jackpot is executed responding to the special information 402 passing over the pattern combination of the bland, with the proviso that a main CPU 31 judges a game condition to be a jackpot condition.
    本発明は、メインＣＰＵ３１によって遊技状態を大当り状態とする判定が行われたことを条件に、ハズレの図柄組合せの上に、大当たりの図柄組合せに関連する特別情報４０２を移動させる表示を実行するとともに、特別情報４０２がハズレの図柄組合せの上を通過したことに応じてハズレの図柄組合せを大当たりの図柄組合せに変更させる表示を実行することを特徴とする。 - 特許庁
  • Nano imprint lithography method is used for carrying out a step of imprinting a concavity and convexity pattern formed on a mold on a resist film applied on a lamination structure of a semiconductor.
    ナノインプリントリソグラフィー法を用いて、モールドに形成された凹凸パターンを、半導体の積層構造上に塗布したレジスト膜に転写する工程を行なう。 - 特許庁
  • The light 6 emitted from the optical system 5 forms the image of the standard pattern formed on the mask 4 on the surface of a wafer 8 placed on a wafer stage 7.
    極短紫外線光学系５からの出射光６は、マスク４の標準パターンの像をウエハステージ７上に載置されたウエハ８の表面に結像する。 - 特許庁
  • A projection optical unit PL1 forms an image on a first surface (where a pattern DP formed on a mask is arranged) on a second surface (the upper face of a plate P).
    投影光学ユニットＰＬ１は、第１面（マスクに形成されたパターンＤＰが配置され面）の像を第２面（プレートＰの上面）上に結合させる。 - 特許庁
  • To provide a special feature such as a pattern or a shading, which is seen differently depending on the looking direction on the shoulder part of a container, and or to facilitate an inspection to check on a content.
    容器の肩部に見る方向等によって異なる模様或いは濃淡のような特徴を与えること、及び／又は、入味検査を容易化する。 - 特許庁
  • An image processing section 140 carries out the EBR/EEW inspection on the substrate based on the first image, and carries out the pattern defect inspection and the reticle error inspection based on the second image.
    イメージ処理部１４０は第１イメージから基板のEBR/EEW検査を実施し、第２イメージからパターンの欠陥検査及びレティクルエラー検査を実施する。 - 特許庁
  • A high-precision pattern can be formed on a substrate with a multiple units by arranging and carrying out the vapor deposition on the substrate 17 on this second metal mask 13.
    この第二金属マスク１３の上に基板１７を配して蒸着を行うことで、基板に高精細なパターンを多面付けで形成することができる。 - 特許庁
  • The projection device projects on a screen, etc., an image of characters, a pattern, etc., drawn on a translucent sheet such as an OHP sheet placed on a stage.
    ステージ上に乗せられたＯＨＰシートなどの透光性シートに描かれた文字や図柄等の画像をスクリーン等に投影する投影装置である。 - 特許庁
  • A target change gear ratio value corresponding to the amount of stepping-on of the pedal on the selected change gear ratio pattern is calculated based on the read numerical value (S4).
    この読み込み数値に基づいて、選択された変速比パターン上のペダル踏込み量に対応する目標変速比値を算出する（Ｓ４）。 - 特許庁
  • The image of pattern formed on the mask 15 is imaged on a wafer 18 by means of lenses 16A and 16B for projection, and a resist on the wafer 18 is exposed to light.
    マスク１５上に形成されたパターンの像は、投影用レンズ１６Ａ、１６Ｂによりウエハ１８上に結像し、ウエハ１８上のレジストを感光させる。 - 特許庁
  • Afterwards, a gate structure is formed on an exposed active area, a sidewall spacer is formed on the sidewall of the gate structure on the silicidation preventive pattern.
    その後、露出された活性領域上にゲート構造物を形成し、シリサイデーション防止パターン上のゲート構造物の側壁に側壁スペーサを形成する。 - 特許庁
  • After projecting an electron beam on a reticle 3 by an illumination optical system, the electron beam passed through a pattern formed on the reticle 3 is imaged on a wafer by two lenses 1, 2.
    照明光学系によりレチクル３が電子線で照射され、その上のパターンを通過した電子線が２つのレンズ１，２によりウェハ上に結像される。 - 特許庁
  • In other words, the Gikeiki is centered on MINAMOTO no Yoshitsune's personality, not on the actual battles or on a description of the large-scale pattern of human involvement in them.
    言い換えれば、実在の合戦を話の軸として周りの人間模様を描いているというより、源義経という人物が話の軸となっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • When a combined pattern of the signals is an on-mode, an on-control signal is applied to MOSFET 7 and 8 to turn them on and also to be recorded into a memory element.
    これ等の組合わせパターンがオンモードのとき、オン制御信号がＭＯＳＦＥＴ７及び８に供給されオンにすると共に、メモリ素子に記録される。 - 特許庁
  • To provide a printing device capable of printing a pattern depending on continuous gradation, in which dots based on ink of each color are mutually combined, on the can drum of a two-piece can body.
    ２ピース缶体の缶胴に、各色のインキによる網点を相互に組み合わせた連続グラデーションによる絵柄を印刷できる印刷装置を提供する。 - 特許庁
  • A player can easily recognize which pattern of three race patterns firstly reaches a goal and gains great hit, when a race is displayed on the special pattern display device.
    このため、遊技者は特別図柄表示装置にレースが表示されているときに、レースを行う３種の図柄のうちどの図柄が最初にゴールしたら大当り図柄になるかを容易に認識できる。 - 特許庁
  • According to the pattern drawing correction method, pattern size and position can be corrected accurately by correcting the shot size additionally and then correcting the shot position based on the additional correction amount.
    本発明のパターン描画補正方法は、ショットサイズの追加補正を加えると共に、この追加補正量に基づいて、ショット位置を補正することで、パターンサイズと位置を精度良く補正することが可能となる - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a metal sheet having an uneven pattern on the surface, by which it is unnecessary to manufacture a press die, it is easy to change an uneven pattern phase and tit is unnecessary to use a high ductile base stock.
    プレス金型製作が不要で、凹凸パターン相の変更も容易で、高延性素材を用いる必要もない、表面に凹凸パターンを有する金属板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • For example, when the variation pattern determined is the normal ready for win variation, a CPU 101 for display control controls the drive of the stepping motor based on the data set in a process table corresponding to the variation pattern.
    決定された変動パターンが例えばノーマルリーチ変動である場合、表示制御用ＣＰＵ１０１は、変動パターンに応じたプロセステーブルに設定されたデータにもとづいて、ステッピングモータの駆動制御する。 - 特許庁
  • When the photoconductive layer 13 is irradiated with light through a negative monochrome original plate 21 on which the negative pattern of a display image is recorded, the resistance value of the photoconductive layer 13 decreases and the photoconductive layer 13 exhibits conductivity in accordance with the negative pattern.
    表示画像のネガパターンが記録されているネガ白黒原板２１を介して光を照射すると、光伝導層１３の抵抗値が低下しネガパターンに応じて導電性を示す。 - 特許庁
  • The mobile telephone 15 converts a code of the received array pattern data into a bright cell or dark cell, whereby the array pattern data is displayed as an information code image on an LCD 22.
    携帯電話機１５は、自動振込端末１から受信した配列パターンデータの符号を明セル或いは暗セルに変換することによって、配列パターンデータを情報コード画像としてＬＣＤ２２に表示する。 - 特許庁
  • To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method for providing high drawing qualities while preventing fluctuation in air on the optical path of an optical system in a light irradiation part.
    光照射部において光学系の光路上に空気の揺らぎが発生することを防止し、高い描画品質を得ることができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a plating film deposition method capable of easily depositing a plating film of excellent quality on a polymer base material with a desired pattern, and forming a fine plating film pattern of high accuracy.
    ポリマー基材上に良質なメッキ膜を所望のパターンで容易に形成することができ、且つ、微細で高精度なメッキ膜パターンを形成させることが可能なメッキ膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Further, another embodiment is possible in which a test pattern is formed on an intermediate transcript in a transfer system; the test pattern is read; and the speed variation data of the intermediate transcript is determined from the reading result for storing.
    また、転写方式において中間転写体にテストパターンを形成し、該テストパターンを読み取り、その読取結果から中間転写体の速度変動データを求め、記憶しておく態様も可能である。 - 特許庁
  • An N-type impurity is injected selectively into a region in which an N-type transistor has been formed, and then a first insulating film 120 is deposited on the surfaces of the N-type gate pattern, the P-type gate pattern, and the substrate.
    Ｎ型トランジスタ形成領域に選択的にＮ型不純物を注入し、その後、前記Ｎ型ゲートパターン、Ｐ型ゲートパターン及び基板表面上に第１絶縁膜１２０を蒸着する。 - 特許庁
  • The apparatus estimates sets of values of the manipulated variables used when outputting an image of the reference pattern, by using the data on the database to obtain values of the manipulated variables from a desired value for the reference pattern.
    装置は、基準パターンに対する目標値からデータベースのデータを使って操作量の値を得ることにより、基準パターンの画像を出力するときの操作量の値を複数組算定する。 - 特許庁
  • When disposing the pachinko machine, it has the lead part 12a of the game pattern film 8 so that it can be easily separated from the game board 7 when peeling the game pattern film 8 bonded on the game board 7.
    パチンコ機を廃棄処分にするとき、遊技基板７に張り付けた遊技図柄フィルム８を剥がすとき、遊技図柄フィルム８のリード部１２ａを持つので遊技基板７から引き離し易い。 - 特許庁
  • Also, on the valid line L including the valid line L2, the pattern combination composed of the pattern '7' displayed in the display area H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.
    また、有効ラインＬ２を含む有効ラインＬでは、表示領域Ｈ１に表示された図柄「７」と表示領域Ｈ２，Ｈ３に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁
  • A presentation controlling micro-computer 100 determines a variation pattern of a decoration symbol and whether or not re-lottery presentation is executed before starting a jackpot game based on the content of a variation pattern command.
    演出制御用マイクロコンピュータ１００は、変動パターンコマンドの内容にもとづいて、飾り図柄の変動パターンと大当り遊技の開始前に再抽選演出を実行するか否かとを決定する。 - 特許庁
  • A microcomputer 100 for performance control determines the variation pattern of decorative patterns and whether or not to implement a re-drawing performance before starting a big winning game on the basis of the contents of a variation pattern command.
    演出制御用マイクロコンピュータ１００は、変動パターンコマンドの内容にもとづいて、飾り図柄の変動パターンと大当り遊技の開始前に再抽選演出を実行するか否かとを決定する。 - 特許庁
  • To provide a method for optimizing a lithography which can optimize the lithography conditions in forming a first layer pattern in consideration of an effect of a second layer on a variation of pattern dimension in the first layer.
    第１層内のパターン寸法ばらつきに与える第２層の影響を考慮して、第１層のパターン形成におけるリソグラフィ条件の最適化を図り得るリソグラフィ工程最適化方法を提供する。 - 特許庁
  • On the other hand, if it is determined that the importance is medium (YES in S18), a second specific pattern is selected (S19), the second pattern is composited with read image data (S20), and then, the output processing is executed (S17).
    一方、重要度が中間であると判断した場合（Ｓ１８：ＹＥＳ）、第２特定パターンを選択し（Ｓ１９）、読取った画像データに合成した上で（Ｓ２０）出力処理を実行する（Ｓ１７）。 - 特許庁
  • Because a dot pattern printed on the version-recognition area is different for each version of the form, the version recognition device recognizes the version of the form by using the pattern.
    バージョン認識用エリアに印刷されたドットパターンは、電子ペン用帳票のバージョン毎に異なるものであるので、バージョン認識装置は、これを利用して電子ペン用帳票のバージョンを認識する。 - 特許庁
  • Then, the force acting on the node 11 of each element 10 caused by the force applied to one pattern aperture 3 included in each element 10 is obtained in accordance with the distance between each node 11 and the pattern aperture 3.
    そして、各要素１０に含まれる１つのパターン開口３にかかる力が各要素１０の節点１１に作用する力を、各節点１１と前記パターン開口３との距離に応じて求める。 - 特許庁
  • A conversion pattern calculation section 103 acquires parameters from a control section 102, calculates conversion information required to rearrange information streams on the basis of the parameters and allows a conversion pattern storage section 104 to store the conversion information.
    変換パタン算出部１０３は、制御部１０２からパラメータを取得し、そのパラメータから情報列を並び替える変換情報を算出し、変換パタン記憶部１０４に変換情報を記憶させる。 - 特許庁
  • The pattern film deposition apparatus 100 deposits a film on one side of a substrate 1 by the vacuum vapor deposition by a plurality of times to a predetermined pattern shape, and comprises a main mask 21 and an auxiliary mask 22.
    パターン成膜装置１００は、真空蒸着により基板１の一面に複数回に分けて所定のパターン形状に膜を成膜するものであり、主マスク２１と補助マスク２２を備える。 - 特許庁
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