「pattern on pattern」を含む例文一覧(29426)
＜前へ 1 2 .... 143 144 145 146 147 148 149 150 151 .... 588 589 次へ＞- To provide a photomask which can prevent a size of a pattern, which is formed on a photosensitive material, from varying due to a local flare, and also to provide a pattern-forming method using the photomask.
感光性材料に形成されるパターンの寸法がローカルフレアの影響によって変動することを抑えることが可能なフォトマスクおよび該フォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a game machine with which performance by related operation can be performed based on an operation pattern by surely selecting the related operation pattern by each sub control means.
各サブ制御手段が関連する動作パターンをより確実に選択することができ、該動作パターンに基づいて関連付けられた動作による演出を行うことができる遊技機を提供することにある。 - 特許庁 - Next, the surface of the undercoating layer 15 of the panel base 1 is pressed against the grain tone pattern 11 left on the surface of the water so as to transfer the grain tone pattern 11 by immersing the panel base 1 as it is in the water.
次いで、水面に残った木目調模様１１にパネル基体１のアンダーコート層１５の表面を押し当て、そのままパネル基体１を水中に没入させて木目調模様１１を転写する。 - 特許庁 - To provide a device and a method to execute microlithographic write on a photosensitive substrate, namely to highly precisely print a pattern such as a photomask specially for the pattern of a semiconductor device.
本発明は、感光性基板にマイクロリソグラフィック書き込みする、特に例えば半導体素子のパターンのためのフォトマスクのようなパターンを極めて高精度でプリントする装置と方法とを提供する。 - 特許庁 - In this repair method, irradiation of charged particle beam is selectively performed at least two times to a black defect part 13 generated on the transfer pattern, and correction of the transfer pattern is performed.
このリペア方法は、該転写パターンに生じた黒欠陥部１３に少なくとも２回の荷電粒子線の照射を選択的に行うことにより該転写パターンの修正を行うものである。 - 特許庁 - The insulation film 1 is etched with the pattern 3a as a mask, a trench 1a for embedding wiring is formed at the surface side of the insulating film 1, and at the same time the pattern 3a is eliminated from the area on the insulating film 1.
パターン３ａをマスクにして絶縁膜１をエッチングし、絶縁膜１の表面側に埋め込み配線用のトレンチ１ａを形成すると共に、絶縁膜１上からパターン３ａを除去する。 - 特許庁 - Then, a second resist film is formed using the second resist material on the substrate having the first resist pattern formed thereon, and exposure and development processing is executed to the second resist film to form a second resist pattern.
そして、第１レジストパターンが形成された基板に第２レジスト材料を用いて第２レジスト膜を形成し、第２レジスト膜に対して露光および現像処理を行って、第２レジストパターンを形成する。 - 特許庁 - A chip comparison inspection for comparing patterns of two adjoining chips on an inspected object and a repetitive pattern comparison inspection for comparing same patterns with each other in the same pattern repetition part in a chip are carried out in parallel.
被検査物上の隣接する２チップのパターンを比較するチップ比較検査と、チップ内の同一繰返しパターン部の同一パターンどうしを比較する繰返しパターン比較検査とを並行して実行する。 - 特許庁 - Then, cover members 32 placed between the adjacent pattern drums 34 and provided with a front end part 32a set to a thickness of the gap of the pattern drums 34 are disposed on the wiring board 30.
そして、前記隣接し合う図柄ドラム３４，３４の間に臨み、両図柄ドラム３４，３４の隙間を塞ぐ厚みに設定した前端部３２ａを有するカバー部材３２を、前記配線基板３０に配設する。 - 特許庁 - A line width detection unit 18 detects a line width of main scanning direction and a line width of sub scanning direction for a line width detection pattern, respectively, based on input image data from a pattern detection portion 16.
線幅検出部１８は、パターン検出部１６からの入力画像データに基づいて、線幅検出パターンの主走査方向の線幅および副走査方向の線幅をそれぞれ検出する。 - 特許庁 - To provide a mechanism capable of reducing a difference in processed dimensions caused by a difference in density of a pattern, when processing the pattern formed on a semiconductor substrate by chemical reaction with a reactive gas.
半導体基板に形成されたパターンを、反応性ガスとの化学反応により加工する場合に、当該パターンの疎密差に伴う加工寸法差を低減することができる仕組みを提供する。 - 特許庁 - In this device, stitch data, which is location data on the points of needle locations to form an embroidery pattern is read from a floppy disk, and contour points to constitute the contour of the embroidery pattern are detected from the stitch data (S101).
フロッピーディスクから刺繍模様を形成する針落ち点の位置データであるステッチデータを読み込み、そのステッチデータから刺繍模様の輪郭を構成する輪郭点を検出する（Ｓ１０１）。 - 特許庁 - The substrate structure is a metallic mold structure which is used for a nanoimprint and has a predetermined pattern or a photomask structure which is exposed to form the predetermined pattern on the surface of the substrate and has a photomask.
基体構造体が、所定のパターンを有するナノインプリント用金型構造体又は所定のパターンを基板表面に露光するために用いるフォトマスクを有するフォトマスク構造体である。 - 特許庁 - On the ceramic substrate 10 whereon the conductor pattern 11 and the heating circuit element 30 are formed, the thermoplastic resins 20a and 20b are stacked wherein a conductor pattern 21 and an interlayer connecting portion 22 are formed.
また、導体パターン１１及び発熱回路素子３０が形成されたセラミック基板１０上には、導体パターン２１及び層間接続部２２が形成された熱可塑性樹脂２０ａ、２０ｂを積層される。 - 特許庁 - The template where a first recessed pattern is formed is brought into contact with the mask material formed on a substrate 11 to charge the mask material in the first recessed pattern, and the charged mask material is cured.
第一の凹部パターンが形成されたテンプレートを基板１１上に形成したマスク材料に接触させて第一の凹部パターンにマスク材料を充填し、充填されたマスク材料を硬化させる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element that can prevent a defect of a print pattern by forming a print pattern formed on a cliche so that its depth varies with the line width.
クリシェに形成される印刷パターンを、その線幅によって深さが異なるように形成することによって、印刷パターンの不良を防止できる液晶表示素子の製造方法を提供しようとする。 - 特許庁 - To obtain a manufacturing method wherein no metal burr remains at the end of an electric wiring pattern in a circuit board where the electric wiring pattern composed of a single layer metal film or a multilayer metal film is formed on the board.
基板上に単層金属膜あるいは多層金属膜からなる電気配線パターンが形成される回路基板において、電気配線パターン端に金属バリが残存しない製造方法を得る。 - 特許庁 - On a window glass 1, a first resonance circuit section 5 is formed with a planar coil pattern 2 which is to be disconnected upon the breakage, and a conductive connection member 3 connected to the planar coil pattern 2.
ウインドウガラス１には、破損時に断線状態となる平面コイルパターン２と、その平面コイルパターン２に接続された導電性接続部材３とによって第１共振回路部５が形成されている。 - 特許庁 - The control device 20 calculates a gear shift pattern of the vehicle 10 with reference to a predetermined gear shift pattern (A map 21a) on the basis of an accelerator operating amount PA memorized in a memory 21 in advance.
制御装置２０は、そのメモリ２１に予め記憶されているアクセル操作量ＰＡに基づく所定の変速パターン（Ａマップ２１ａ）を参照しつつ車両１０の変速パターンを算出する。 - 特許庁 - The printed board 1 has recessed trenches 4 opened on the surface having the wiring pattern formed thereon in the vicinity of a wiring pattern region connectable with the semiconductor element 2.
また、本発明に係るプリント基板１では、半導体素子２と接続可能な配線パターンの領域の近傍で、配線パターンが設けられた面に開口する凹形状の溝４が形成されている。 - 特許庁 - A third pattern ITO is aligned to a first pattern G formed in the mth layer (m: a positive integer), and second patterns S and D formed in the nth layer (n: a positive integer) on a substrate P.
基板Ｐの第ｍ層（ｍは正の整数）に形成された第一パターンＧと、第ｎ層（ｎは正の整数）に形成された第二パターンＳ、Ｄとに対して第三パターンＩＴＯを位置合わせする。 - 特許庁 - A substrate is subjected to etching and ashing in succession with a photoresist pattern formed on the substrate as a mask, the photoresist pattern is removed using the removing solution and then the substrate is rinsed with water.
そして、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとして、該基板にエッチング、続いてアッシング処理をした後、上記剥離液を用いてホトレジストパターンを剥離し、次いで基板を水でリンス処理する。 - 特許庁 - To provide a composite sheet inhibiting a stepped section resulting from the difference of the thicknesses of conductor-pattern layers without burying dielectric-buried ink to an opening between the conductor-pattern layers printed on a dielectric layer.
誘電体層上に印刷された導体パターン層のすき間部分に誘電体埋込インクを埋め込むことなく、導体パターン層の厚みの差に起因する段差を抑制する複合シートを提供する。 - 特許庁 - A film 2 one side of which has an uneven pattern part 3 is laminated on the surface of the patterned nonwoven fabric 1 impregnated with the resin so that the pattern part 3 contacts the nonwoven fabric 1.
この模様付けした樹脂含浸不織布１の表面に、片面が凹凸模様部３を有するフィルム２を凹凸模様部３側が樹脂含浸不織布１側となるようにして積層する。 - 特許庁 - To provide a transfer sheet and a pattern forming method using the same, which enable a lacquering-tinged pattern, where a metallic foil powder such as a gold foil powder or a silver foil powder is arranged, to be formed on a base material by transfer.
金箔粉または銀箔粉などの金属箔粉を配置した蒔絵調の模様を転写によって基材上に形成することができる転写シート及びそれを用いた模様形成方法を得る。 - 特許庁 - The variation pattern table 2 is a table in case the number of balls to be shot per unit time is 80, and a variation time in the variation pattern table 1 is extended based on a difference in the number of balls to be shot.
変動パターンテーブル２は、単位時間当たりの発射球数が８０個の場合のテーブルであり、発射球数の相違に基づき変動パターンテーブル１における変動時間が伸長されている。 - 特許庁 - The pattern 22 is provided over the first region 21d and a part of the second region 21e, and the pattern 22 is provided on a part of the second region 21e such that the resistance change rate is not lowered.
パターン２２は、第１領域２１ｄと、第２領域２１ｅの一部とにわたって設けられており、第２領域２１ｅの一部には、抵抗変化率が低下しない程度にパターン２２が設けられている。 - 特許庁 - This method comprises a step 404 of determining, when a predetermined pattern is drawn on the display surface of an LCD, the matching of the drawn pattern to one of preliminarily registered patterns.
ＬＣＤの表示面上に所定のパターンを描画したとき、その描画されたパターンと、あらかじめ登録してあるパターンのうちの１つのパターンとのマッチングを判別するステップ４０４を設ける。 - 特許庁 - To solve such a problem that the image forming efficiency is reduced since the print image forming process is interrupted for forming the internal pattern though density correction or the like is performed by adopting an internal pattern formed on a photoreceptor.
濃度補正等は感光体上に形成した内部パターンを用いて行われるが、該内部パターンの形成のために印字画像形成工程が中断され画像形成効率が低下する。 - 特許庁 - When the transition to the time reduction state occurs, separately from the execution of the special pattern game in a special pattern display part 4b, a special game display part 4c is provided on a variable display part, and the special game is played in that part.
時短状態に移行すると、特別図柄表示部４ｂにおける特図ゲームの実行とは別に、可変表示部に特殊ゲーム表示部４ｃが設けられ、ここで特殊ゲームが行われる。 - 特許庁 - A command sending table at a special pattern backup is selected on the basis of a special pattern process flag value, or the like stored, in the RAM, and an initial command is sent according to the selected table.
また、ＲＡＭに格納されている特別図柄プロセスフラグの値等にもとづいて、特別図柄バックアップ時コマンド送信テーブルを選択し、選択したテーブルに従って初期コマンドを送信する。 - 特許庁 - To provide a building board which does not cause a deviation in the pitch of a irregular pattern formed by molding, which has few restrictions on the shape of the irregular pattern, and to which high designability can be imparted in combination with an inkjet coating.
成形による凹凸模様のピッチずれが発生せず、また、凹凸模様の形状の制約が少なく、インクジェット塗装と相まって高い意匠性を付与することができる建築板を提供する。 - 特許庁 - When the special performance pattern is selected, a performance display control means displays the performance content on the performance display device by the infrared light according to the selected special performance pattern.
演出表示制御手段は、特殊演出パターンが選択された場合、選択された特殊演出パターンにしたがって、赤外線により演出内容を演出表示装置に表示させる。 - 特許庁 - To obtain a clear pattern by pasting a pattern transfer paper or an over-coating paper on an object having complicated curved faces without any distortion, without requiring a large-scaled device.
絵柄転写紙やオーバーコート紙を貼り付けるとき、大掛かりな装置を必要とせず、複雑な曲面の対象物にも歪みなくきれいに密着して鮮明な絵柄を得ることができるようにする。 - 特許庁 - A pattern such as a photograph or a picture selected by a customer is reproduced on a transfer film by a copier and the pattern of the film is thermally transferred to the front panel 10 in a state separated from the main body part 2.
顧客が選択した写真や絵画などの模様を模様を複写機により転写用フィルムに複写し、本体部２から離した状態の前面パネル１０にその模様を熱転写する。 - 特許庁 - To attain the efficient and further accurate formation of a fine magnetizing pattern, in the technology to form the magnetizing pattern on a magnetic disk by combining the local heating and the application of external magnetic field.
局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁 - When a user touches by a scanner 4 a medium 1a printed with content and a dot pattern 3 thereon or a monitor on which the content and the dot pattern 3 are displayed, a document ID and an XY coordinate value of the touched position are read.
ユーザが、ドットパターン３と共にコンテンツが印刷された媒体１ａや表示されたディスプレイ上をスキャナ４によりタッチすると、ドキュメントＩＤとタッチ位置のＸＹ座標値が読み込まれる。 - 特許庁 - To provide a device for simultaneously reading both sides that is capable of quickly executing detection of a specific pattern such as copying inhibition information and post-processing executed on the basis the detection of the specific pattern.
複写禁止情報などの特定のパターンの検出およびこの特定パターンの検出に基づいて行われる後の処理を早期に行うことを可能とする両面同時読取装置等を提供する。 - 特許庁 - To provide a switch board capable of reducing specific resistance of a contact pattern, of making the border line parts of the contact pattern fine, and of providing clear oblong on-off waveforms, and to provide a switch that uses the switch board.
接点パターンの比抵抗を低くでき、接点パターンの境界線部分をファイン化できてきれいな矩形状のオンオフ波形が得られるスイッチ基板及びこのスイッチ基板を用いたスイッチを提供する。 - 特許庁 - The ratio of a pitch, at which the pattern 4 is formed, to a pitch of the plotting joint part 14 on the photomask 10 is an integer ratio, in which the least common multiple of the pitch of the pattern and the pitch of the plotting connecting part 14 becomes ≤1 mm.
このフォトマスク上でパターンが形成されるピッチと描画継ぎ部のピッチとの比は、パターンのピッチと描画継ぎ部のピッチとの最小公倍数が１ｍｍ以下となるような整数比である。 - 特許庁 - For example, the acceptance pattern is the pattern at which the bags X_1 to X_10 are held concentratedly on the central side, with the bags X_2, X_9 held in the article holding space of the frontmost side and the rearmost side.
例えばこの受入パターンは、最前方側及び最後方側の物品保持空間に袋Ｘ_１，Ｘ_１０が保持された上で、中央側に集中して袋Ｘ_２〜Ｘ_９が保持されるパターンである。 - 特許庁 - This sensor has a first substrate having a first driving pattern and a first pickup pattern on its upper and lower surfaces respectively, and magnetic bodies laminated upon the upper and lower surfaces of the first substrate and patterned in prescribed forms.
上下両面に第１ドライビングパターン及び第１ピックアップパターンが形成された第１基板と、該第１基板の上下両面に積層され、所定の形態にパターン化された磁性体が形成される。 - 特許庁 - The conductor pattern is formed on a ceramic green sheet 2a by screen process printing of photosensitive conductor paste, and next, a terminal edge part b of the conductor pattern is removed by photolithography.
感光性導体ペーストのスクリーン印刷によって、セラミックグリーンシート２ａ上に導体パターン１ａを形成し、次いで、導体パターン１ａの端縁部１ｂをフォトリソグラフィ法に基づいて取り除く。 - 特許庁 - Based on the graphic information of characters, pictures or the like input from an input section 15, a system controller 14 forms a graphic writing pattern and specifies a sector in which the graphic writing pattern is formed.
入力部１５より入力された文字や絵等の図形情報からシステムコントローラ１４は図形書き込みパターンを形成するとともに図形書き込みパターンが形成されるセクタを特定する。 - 特許庁 - This molded article is a thermoplastic resin molded article with a thickness of 1-8 mm and has 1-15% interstices and an irregular flow pattern (a fractal pattern) is formed on the molded article by the interstices.
厚みが１〜８ｍｍの熱可塑性樹脂成形品であって、１〜１５％の空隙を有し、該空隙により成形品に不規則流動模様（フラクタル模様）が形成されている模様を有する成形品。 - 特許庁 - The surface of a conductor pattern 3 except the lower electrode forming region 17 of a thin film capacitor element 12 is covered with a first resist film 13, and a metal film layer 5 is formed on all the surface of the conductor pattern 3.
導体パターン３の表面を、薄膜コンデンサ素子１２の下部電極形成領域１７を除いて、第１のレジスト膜１３で覆い、導体パターン３の全面に金属被膜層５を形成する。 - 特許庁 - A plateau area of a distribution pattern of a power density in a diffracted image on the photocathode is larger than that of a distribution pattern of a power density in a cross section of the laser beam before entering the optical diffraction element.
フォトカソードの表面上における回折像のパワー密度分布の頂部の平坦な部分が、回折光学素子入射前のレーザビームのビーム断面内におけるパワー密度分布のそれより広い。 - 特許庁 - A liquid crystal panel 80 which adjusts transmittance in accordance with a region of the hologram pattern 33 is disposed on a part besides the region of the hologram pattern 33 among the one surface part in the thickness direction of a substrate 31.
基板３１の厚み方向一表面部のうち、ホログラムパターン３３の領域を除く部分には、ホログラムパターン３３の領域に応じた透過率を調整する液晶パネル８０が設けられる。 - 特許庁 - When no other processing is performed or the other processing during performance is finished, the image processing apparatus expands image data of an adjustment pattern to a local memory and prints out the image of the adjustment pattern on a recording sheet.
他の処理が実行されていない、あるいは実行中の他の処理が終了すると、調整パターンの画像データをローカルメモリに展開して、調整パターンの画像を記録シートに印刷して出力する。 - 特許庁 - To provide a method and device for forming an interference fringe pattern where a fine interference fringe pattern almost the same as the wavelength can be easily formed on a large area at high precision.
大きな面積に波長と同程度の微細な干渉縞パターンを精度良く容易に形成することが可能な干渉縞パターン形成方法、及び干渉縞パターン形成装置を提供する。 - 特許庁
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