「pattern processing」を含む例文一覧(4002)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 80 81 次へ＞- To provide an image processing apparatus capable of reducing the number of line memories, making a time required for enlargement smoothing processing constant irrespective of an enlargement ratio, and preventing deterioration in image quality in the image processing apparatus for performing enlargement smoothing processing by pattern matching for image data.
画像データに対してパターンマッチングによる拡大スムージング処理を行う画像処理装置において、ラインメモリを減少させるとともに、拡大倍率に関らず拡大スムージング処理にかかる時間を一定にし、画質の劣化を防止することができる画像処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a video signal processing apparatus capable of effectively avoiding generation of a stripe pattern with a simple configuration in the case that the video signal processing apparatus is applied to e.g., format conversion or the like and an inter-field line interpolation processing or an in-field line interpolation processing is switched depending on motion detection.
本発明は、ビデオ信号処理装置に関し、例えばフォーマット変換等に適用して、動き検出によりフィールド間ライン内挿処理、フィールド内ライン内挿処理を切り換える場合において、簡易な構成により縞模様の発生を有効に回避することができるようにする。 - 特許庁 - A printer controller as the image processing device for executing dither processing for printing input image data determines whether or not interference between a pattern of a dot area included in the input image data and a pattern of an output screen to be used for the dither processing exists or not (S103), and executes smoothing processing for the dot area in which the existence of interference is determined (S106, S107).
印刷用の入力画像データに対してディザ処理を実行するための画像処理装置としてのプリンタコントローラは、入力画像データに含まれる網点領域のパターンとディザ処理に用いられる出力スクリーンのパターンとの干渉の有無を判定し（Ｓ１０３）、干渉有りと判定された網点領域に対してスムージング処理を実施する（Ｓ１０６、Ｓ１０７）。 - 特許庁 - A transmission-side relay device 2 connected to the transmission-side terminal 1 detects the specific pattern in the electronic mail body by a pattern detection part 22, ciphers body information following the specific pattern by a ciphering processing part 23, and sends the mail to the Internet 3.
送信側端末１に接続される送信側中継装置２は、パターン検出部２２によって、電子メール本文内の特定パターンを検出し、暗号化処理部２３によって、この特定パターンの後の本文情報を暗号化し、インターネット３上に送信する。 - 特許庁 - To provide a pattern identification method and a pattern identification device capable of achieving a reduction of a calculation cost by downsizing a network in a pattern identification using a hierarchical neural network having a characteristic detection neuron without lowering accuracy of processing.
特徴検出ニューロンを有する階層型ニューラルネットワークを用いたパターン識別において、ネットワークの小規模化による計算コストの低減を、処理精度を低下させずに実現することができるパターン識別方法及びパターン識別装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for creating pattern image capable of creating a pattern image to which an endless processing is applied by expressing a depth of field effect by using orthogonal projection and creating the pattern image with distinctive design.
正射影を用いて被写界深度効果を表現することによりエンドレス処理の施された模様画像を作成することが可能であるとともに、個性的なデザインの模様画像を作成することが可能な模様画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁 - A pattern layer 3 is formed on a metal panel 1 through an undercoating layer 2 by printing, and, after bending processing is applied to this metal panel in such a state that the pattern layer 3 is covered with a protective film, the protective film is peeled and a ceramic clear layer 4 is formed on the pattern layer 3 by spray coating.
金属板１に下塗り層２を介して印刷により絵柄層３を形成し、印刷面３を保護フィルムで覆った状態で曲げ加工を施した後、保護フィルムを剥がしてから絵柄層３の上にスプレー塗布でセラミッククリヤー層４を形成する。 - 特許庁 - According to a given selection processing, the sub-control unit 240 selects one variation pattern command out of one or a plurality of variation pattern commands registered within the group predetermined by the command, and transmits the selected variation pattern command to a display control unit 270.
副制御部２４０は、所定の選択処理にしたがって、前述の指令が指定するグループ内に登録されている１又は複数の変動パターンコマンドから１の変動パターンコマンドを選択し、選択された変動パターンコマンドを表示制御部２７０に送信する。 - 特許庁 - To provide a post processing method of a resist pattern that is not restricted with respect to a resist composition to be used, and can make LER and LWR smaller especially when forming a fine resist pattern while suppressing variation in dimensions of the resist pattern itself.
使用するレジスト組成物について制約を受けず、特に微細なレジストパターンを形成した際においても、レジストパターン自体の寸法変動を抑えつつ、ＬＥＲ及びＬＷＲを小さくすることが可能なレジストパターンの後処理方法を提供する。 - 特許庁 - A first insulating film 2 and a second insulating film 3 are formed on a semiconductor substrate 1, a second insulating film pattern 7 is formed by a first resist pattern 6 with space width F, and then spacer processing is performed to form a third insulating film pattern 8 with spacer width F/2.
半導体基板１上に第１の絶縁膜２及び第２の絶縁膜３を形成し、スペース幅Ｆの第１のレジストパターン６により第２の絶縁膜パターン７を形成した後、スペーサ加工を施しスペース幅Ｆ／２の第３の絶縁膜パターン８を形成する。 - 特許庁 - Scratch pattern data is stored previously in a flash ROM 40, when a user operates a scratch button, the main system controller 36 reads out selected pattern data, commands to the DSP signal processing part 44, and reads out data from the memory 46 with the selected scratch pattern.
フラッシュＲＯＭ４０には予めスクラッチパターンデータが記憶され、ユーザがスクラッチボタンを操作すると、メインシステムコントローラ３６は選択されたパターンデータを読み出してＤＳＰ信号処理部４４に指令し、選択されたスクラッチパターンでデータをメモリ４６から読み出す。 - 特許庁 - An image signal processing unit 60 calculates a central position of the pattern from an image signal of the pattern stored in an image signal storage unit 50, and detects the maximum value or the minimum value of differentiated waveforms of the image signals in two regions divided at a central position of the pattern.
画像信号処理装置６０は、画像信号記憶装置５０に記憶されたパターンの画像信号から、パターンの中心位置を計算し、パターンの中心位置で分割した２つの領域で画像信号の微分波形の最大値又は最小値を検出する。 - 特許庁 - In the phase adjustment control, the phase of the speed variation pattern is adjusted by temporarily changing the driving amount of each processing driving motor.
位相調整制御では、各プロセス駆動モータの駆動量を一時的に変化させてそれら速度変動パターンの位相を調整する。 - 特許庁 - When the input data coincides with a pattern (xxxx110111) and a next channel bit is "010", a minimum run continuation limit processing part 52 outputs an expectation flag outputs "on".
最小ラン連続制限処理部52は入力データがパターン（xxxx110111）と一致し、次のチャネルビットが“010”である時、予想フラグonを出力する。 - 特許庁 - A mask generation part 40 specifies an area unfit for stereoscopic processing in a reference image 24 of the object and prepares a mask pattern 28.
マスク生成部４０は、対象物の基準画像２４においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン２８を作成する。 - 特許庁 - To make it possible to pattern ribs, while protecting parts not subject to grinding, without regard to the efficiency of sand-blast processing.
サンドブラスト加工の切削効率に関係なく、研削してはいけないところを保護した状態でリブのパターニングができるようにする。 - 特許庁 - The display processing section 203 reads the light emission pattern out under the control to perform light emission control to a corresponding light emission display section 110.
表示処理部２０３は、この制御に応じて発光パターンを読み出し、該当する発光表示部１１０の発光制御を行う。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment which can prevent yield reduction incident to pattern collapse by reducing surface tension.
表面張力を低減させることにより、パターン倒壊に伴う歩留まり低下を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - When photographing an image, a control device 104 increases an exposure priority for a center portion of a screen and carries out face recognition processing through pattern matching.
制御装置１０４は、画像の撮影時に、画面中央部の露出優先度を上げ、パターンマッチングによる顔認識処理を実行する。 - 特許庁 - Alternatively when the data is subjected to the ROP processing by the image plotting section 12, correction may be performed on the ROP pattern to eliminate the periodicity of the data.
あるいは、描画部１２でＲＯＰ処理を行った際に、補正処理を行ってＲＯＰパターンの周期性を無くしてもよい。 - 特許庁 - When the button is pressed, moving image photographing processing is started (step S214), and a subject is recognized by pattern matching (step S205).
押下されたならば、動画撮影処理を開始するとともに（ステップＳ２１４）、パターンマッチングにより被写体を認識する（ステップＳ２０５）。 - 特許庁 - To provide a polymer composition for forming a nanometer order fine pattern, and to provide a process for performing a fine processing with the polymer composition.
ナノオーダーの微細パターンを形成する重合体組成物及び該重合体組成物により微細加工を行う工程を提供する。 - 特許庁 - Then, translucentizing processing is performed using the background image for the read special pattern image to produce a translucent image.
次いで、読み出した特別図柄画像について、背景画像を用いて半透明化演算処理を実行し、半透明画像を作成する。 - 特許庁 - In the subtractive color processing, a dot pattern having a low ink dot density on the periphery thereof is employed at least in the part of the contour area.
この減色処理では、輪郭領域の少なくとも一部に対しては周辺部のインクドットの密度が低いものを使用する。 - 特許庁 - A circumscribed rectangle including the component figures as the seed cell, and based on the seed cell, cell hierachization processing for the graphic pattern is carried out.
該構成図形を含む外接矩形を種セルとして設定し、該種セルに基づいて図形パターンについてのセル階層化処理を行う。 - 特許庁 - The detection part detects a pixel included in a halftone pattern used for halftone processing and whose pixel value is within a predetermined range.
検出部は、ハーフトーン処理で用いられるハーフトーンパターンに含まれる画素であって画素値が所定範囲内の値である画素を検出する。 - 特許庁 - In a processing (ST3), according to a test pattern 33 for verification and the event 34, simulation to the virtual scan chain is executed.
処理（ＳＴ３）では、検証用のテストパターン３３及び事象３４に従って、仮想スキャンチェーンに対するシミュレーションを実行する。 - 特許庁 - To provide a pattern processing paper which keeps a Japanese paper-like feeling and is excellent in slipping prevention, smoothness and printability.
和紙調の風合いを保持しつつ、防滑性、平滑度及び印刷適性に優れた模様加工紙の提供を目的とするものである。 - 特許庁 - Further, the allocated coded pattern of the slide turned to the object of deletion processing in the file of the application is not used for the print of the slide.
さらに、アプリケーションのファイルにおいて、削除処理の対象となったスライドの割当コード化パターンを、スライドの印刷に使用しない。 - 特許庁 - To suppress variations in the heat processing temperature between substrates and uniformize the line width of a wiring pattern between the substrates and within a surface of the substrate.
基板間での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板間並びに基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。 - 特許庁 - A reader implements search processing of an IC tag through an antenna ANT (S21) to determine similarity between a resultant read pattern and reference data.
リーダは、アンテナＡＮＴを通じてＩＣタグの探索処理を実施し（Ｓ２１）、得られた読取パターンと基準データとの類似度を判定する。 - 特許庁 - To judge a process pattern from a judgment material for deciding the end of a sentence and to easily perform corresponding sentence end processing.
文末判定のための判断材料から処理パターンを判断し該当する文末処理を容易に処理可能とすることにある。 - 特許庁 - When the copy-inhibition pattern is present, the original image read part 3 interrupts original read processing and will not copy the document.
複写禁止パターンが有る場合、原稿画像読み取り部３は、原稿読み込み処理を中断し、文書の複写処理を行わない。 - 特許庁 - A control part 21 of a distribution processing server 20 calculates a detail item prediction number, based on a detail item generation pattern and a result in the past in every customer.
配信処理サーバ２０の制御部２１は、顧客毎の明細発生パターン及び過去実績から明細予測数を算出する。 - 特許庁 - To provide a pattern of laser light irradiation, with which a wafer can be easily and securely divided without lowering processing efficiency.
加工効率を低下させることなく、容易、かつ確実にウェーハを割断することを可能とするレーザ光線照射のパターンを提供する。 - 特許庁 - To improve working efficiency regarding the processing of a fabric in order to form both of a watermark and an embossed pattern on the fabric.
生地に透かし模様及び凹凸模様の双方を形成するための生地の加工に関してその作業能率をより向上させること。 - 特許庁 - To automatically generate a knowledge dictionary recording a character string arrangement pattern to be used for document identification processing by using document image samples.
帳票識別処理で用いる、文字列の配置パターンを記録した知識辞書を、帳票画像サンプルを用いて、自動生成する。 - 特許庁 - The output signal S11 is inputted to a picture processing part 14 synchronously with the output signal S12, and matching with a registration pattern is operated.
出力信号S11は、出力信号S12に同期して画像処理部14に入力され、登録パターンとのマッチング等の処理が行われる。 - 特許庁 - Meanwhile, if the mean value of the pressing force is not equal to or more than the prescribed value, conversion processing such as pattern matching of the inputted graphic is performed.
一方，押圧力の平均値が所定値以上でない場合は，その入力した図形のパターンマッチング等の変換処理を行う。 - 特許庁 - The processing target film is etched using the uneven pattern transferred to the negative resist 3 and the photocurable resist 4 as a mask.
前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４に転写された凹凸パターンをマスクとして、前記被加工膜がエッチングされる。 - 特許庁 - When the number of pixels is not higher than prescribed in S29 and when no registered pattern exists in S27, a return is made to processing of S24.
Ｓ２９においてピクセル数が所定数以下の場合と、Ｓ２７において登録パターンが存在しない場合は、Ｓ２４の処理へ戻る。 - 特許庁 - After developing processing is successively performed, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a dummy pattern 22 on the substrate 31.
次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にダミーパターン２２を形成する。 - 特許庁 - In the case of the scratch pixel, a signal of the determination pixel G0 is replaced according to a stored image pattern by a scratch pixel replacement processing circuit.
キズ画素の場合は、キズ画素置換処理回路により、保存してある画像パターンに応じて、判定画素Ｇ０の信号を置換する。 - 特許庁 - After developing processing is successively performed thereto, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a device pattern 21 on the substrate 31.
次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にデバイスパターン２１を形成する。 - 特許庁 - To easily form a predetermined mold pattern to the surface of a member for a mold with high precision without requiring much processing time.
多大な加工時間を要することなく、所定の成型パターンを金型用部材の表面に対して高い精度で容易に形成する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device and a manufacturing method of the same, which can reduce an aspect ratio in processing of a gate pattern.
本実施形態は、ゲートパターン加工時のアスペクト比を低減することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The image forming apparatus is provided with an object area extraction processing part 52 which extracts a detection object area of a pattern detection part 54 from image data.
画像データからパターン検出部５４の検出対象領域を抽出する対象領域抽出処理部５２が設けられた。 - 特許庁 - To provide a multi-beam pattern defining (PD) system, capable of correcting a distortion error in an image forming system and a charged particle processing or inspecting apparatus.
結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a laser beam machining device having high degree of freedom of a processing pattern, where the improvement in use efficiency of readout light can be attained.
読み出し光の利用効率の向上を図ることができると共に、加工パターンの自由度の高いレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁 - In the RIP processing, a pattern is screened but the dot gain correction is not applied to a dot part by means of the general gray scale transformation.
なお、このＲＩＰ処理では、絵柄はスクリーニングされるが、一般的な階調変換による網点部のドットゲイン補正は行われない。 - 特許庁
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