「pattern processing」を含む例文一覧(4002)
＜前へ 1 2 .... 31 32 33 34 35 36 37 38 39 .... 80 81 次へ＞- To obtain an image with high quality without causing a stripe pattern depending on a structure of a threshold value matrix and a dot pattern in a specific density level area in an image processing unit adopting an error spread method.
誤差拡散法を適用した画像処理装置において、特定の濃度レベル領域におけるドットパターンや閾値マトリクスの構造に依存した縞模様が生じることなく、良質な画像が得られるようにすること。 - 特許庁 - According to scenario data corresponding to a present game state, pattern data stored in a pattern storage means 40 are read and patterns are displayed on the screen of a display device 60 successively by an image processing means 50.
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段４０に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段５０によって図柄が順次表示装置６０の画面に表示される。 - 特許庁 - An analog signal pattern 28 connecting the analog system terminals 16a and 20a and a digital signal pattern 32 connecting the digital system terminal 22a and a digital signal processing circuit 30 are formed, and ground patterns 34 and 36 are formed.
アナログ系端子１６ａ，２０ａを結ぶアナログ信号用パターン２８と、デジタル系端子２２ａとデジタル信号処理回路３０とを結ぶデジタル信号用パターン３２を形成し、さらにグランドパターン３４，３６を形成する。 - 特許庁 - For example, the pseudo medium tone processing system providing the largest number of screen lines is selected among those used for generating a screen pattern image whose density is within a prescribed permissible density range among a plurality of the screen pattern images.
例えば，複数のスクリーンパターン像のうち，その濃度がそれぞれ所定の許容濃度範囲内にあるものの生成に用いられた擬似中間調処理方式の中で最もスクリーン線数の大きいものを選択する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method capable of preventing deterioration in an etching selection ratio in etching treatment, and reducing roughness of a pattern edge in a substrate in which a wiring pattern of photoresist is formed in a photolithographic process.
フォトリソグラフィ工程によりフォトレジストの配線パターン形成がなされる基板おいて、エッチング処理でのエッチング選択比の低下を抑制し、パターンエッジのラフネスを低減することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The mask pattern 36 is removed and a mask pattern 37 is formed on the surface of the substrate 21 so that a substrate processing area including the concave 27 may be formed into a prescribed shape.
その後に、上記凹部形成用マスクパターン３６を除去し、然る後に、凹部２７を含む基板加工領域を設定の形状に加工するための成形用マスクパターン３７を半導体基板２１の表面に形成する。 - 特許庁 - To provide an image processing unit that can avoid errors in pattern matching caused by extraction and use of an improper matching area so as to composite images with high accuracy in the case of the pattern matching.
パターンマッチングを行う際に、不適切なマッチング領域が抽出、使用されることに起因するパターンマッチングの誤りを回避し、高精度に画像の合成を行うことのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - In other embodiments, two or more extrusion slots of the honeycomb pattern of the extrusion slot can be machined by a method of wire-electrical discharge processing, after machining the two or more extrusion slots of the honeycomb pattern of the extrusion slot with the grinding wheel.
さらなる例では、押出スロットのハニカムパターンの複数の押出スロットは、前記押出スロットのハニカムパターンの複数の押出スロットを、前記砥石車で機械加工した後、ワイヤー放電加工法で機械加工されうる。 - 特許庁 - To form a fine pattern with a high aspect ratio by applying a layer which absorbs light to convert into heat on the lower and upper faces of a resist and processing the resist by heat when a fine pattern is formed on the objective substrate.
被処理基板上に微細パターンを加工する際に、レジストの下面および上面に光吸収熱変換層を配し、熱によるレジストの加工を行うことで高アスペクト比の微細パターン加工を可能とする。 - 特許庁 - The packaging substrate has a double-layer conductive pattern structure, has signal wiring patterns and power supply wiring patterns 300-307 for connecting the memory device to the data processing device on the first surface, and has a ground pattern on a second surface.
前記実装基板は２層の導電パターン構造を有し、第１面にはメモリデバイスとデータ処理デバイスを接続する信号配線パターンと電源配線パターン（３００〜３０７）を有し、第２面にはグランドパターンを有する。 - 特許庁 - To provide the manufacturing method and device of a conductive pattern in a printed circuit board capable of precisely and inexpensively processing a conductive pattern formed by oppositely arranging a plurality of rows on a printed circuit board.
プリント基板に複数列対向配置して形成した導電パターンに、精度よく、安価に処理を施すことのできるプリント基板における導電パターンの製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁 - An update unit 74a of the fault pattern server updates a fault pattern storage table 73a of a large-capacity storage unit 73 based upon difference data 71a generated by a substrate processing apparatus to which a device fault occurs.
故障パターンサーバの更新部７４ａは、機器故障が発生した基板処理装置にて生成された差分データ７１ａに基づいて、大容量記憶部７３の故障パターン格納テーブル７３ａを更新する。 - 特許庁 - To provide a method of processing a glass substrate by which a pattern faithful to a shape pattern of a photomask can be provided in a thin glass substrate which deforms when provided with a film used as etching mask.
エッチングマスクとなる膜を設けて変形が生じる薄いガラス基板に対して、フォトマスクが有する形状パターンに忠実なパターンをガラス基板に設けることができるガラス基板の加工方法を提供する。 - 特許庁 - In the ground pattern formed by this way, the taste of the ground pattern appearing on the surface of the workpiece is varied by adjusting the incident angle of the abrasive to the surface of the workpiece and other processing conditions.
このようにして形成される地模様は，被加工物の表面に対する研磨材の入射角，その他の加工条件の調整によって，被加工物の表面に現れる地模様の趣を変化させることができる。 - 特許庁 - The projector 1 projects, onto a screen 3, a white or gray test pattern (color adjustment image) formed on a projection device 14 by an image processing unit 15, and the test pattern projected on the screen 3 is imaged by a camera 12.
プロジェクタ１は画像処理部１５が投射デバイス１４上に形成させた白又は灰色系のテストパターン（色調整用画像）をスクリーン３へ投射し、スクリーン３に投射されたテストパターンをカメラ１２で撮像する。 - 特許庁 - The data operating section at the image processing section 102 determines the average value of 16 uniform patterns, i.e., the same data pattern of read out color pattern image data, and then determines the difference between the average value and each of the 16 uniform patterns (Step 204).
画像処理部１０２のデータ演算部は、読み取ったカラーパターン画像データの同一データパターンである均一パターンそれぞれ１６個の平均値を求め、その平均値とそれぞれ１６個との差を求める（ステップ２０４）。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing apparatus and a pattern drawing method capable of obtaining a displacement with respect to a stage of an optical head for each drawing processing even when a position of an optical head is displaced from a designed position.
光学ヘッドの位置が設計時の位置から位置ずれを起こしている場合でも描画処理ごとに光学ヘッドのステージに対する位置ずれを取得することができるパターン描画装置およびパターン描画方法。 - 特許庁 - Pattern data stored in a pattern storage means 40 are read in accordance with scenario data corresponding to a current game state, and symbols are displayed in order on the screen of a display device 60 by an image processing means 50.
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段４０に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段５０によって図柄が順次表示装置６０の画面に表示される。 - 特許庁 - A walking pattern generation part 25 generates a reference walking pattern to be the position to land a sole part 9 by carrying out a reference walking processing to make the biped walking robot 1 walk on a flat road surface G.
歩行パターン生成部25は、平坦な路面Ｇを２足歩行ロボット１に歩行させるための基準歩行処理を実行することにより、足底部９を着地させる位置となる基準歩行パターンを生成する。 - 特許庁 - In the case that the editing of images recorded in the recording medium 16 is commanded, a recording signal processing part 14 writes editing pattern identification information and an editing pattern start point in the recording medium 16 as recording medium management information.
記録メディア１６に記録された画像の編集が指令された場合、記録信号処理部１４は、編集パターン識別情報と編集パターンスタート点を、記録メディア１６に、記録メディア管理情報として書き込む。 - 特許庁 - Pattern data stored in a pattern storing means 40 are read out, in accordance with scenario data corresponding to a present game state to be displayed in the order of patterns on a screen of a display device 60 through an image processing means 50.
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段４０に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段５０によって図柄が順次表示装置６０の画面に表示される。 - 特許庁 - The pattern controller displays a preparation image for which the specification number "CROL2SK" of the specification A is written in an "yellow" background area 62a on the display screen of the pattern controller in activation processing after the power is supplied.
図柄制御装置は、電源投入後の起動処理時に、「黄色」の背景領域６２ａにスペックＡのスペック番号「ＣＲＯＬ２ＳＫ」が表記された準備画像を図柄制御装置の表示画面に表示させる。 - 特許庁 - The optical processing element has a pattern formed by arraying a plurality of metal fine structural bodies, having a diameter D<λ to incident light, having a wavelength λ of linear shape on a substrate at an interval d1<D as a unit array pattern.
波長λの入射光に対し、直径ＤがＤ＜λである金属微細構造体の複数個を基板上に間隔ｄ１＜Ｄで離隔して直線状に配列させたパターンを単位配列パターンとする。 - 特許庁 - The pattern data stored in a pattern memory means 40 is read out according to scenario data corresponding to the current game state and the figures are displayed by an image processing means 50 sequentially on a screen of a display device 60.
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段４０に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段５０によって図柄が順次表示装置６０の画面に表示される。 - 特許庁 - The draft processing part 103 include a draft DB 117, a data retrieval part 106, a pattern generation part 107, a draft display and editing part (pattern correction part) 108, and a data transfer control part (correction requesting part) 109.
設計図処理部１０３は、設計図ＤＢ１１７と、データ検索部１０６と、図形生成部１０７と、設計図表示・編集部（図形修正部）１０８と、データ転送制御部（修正要求部）１０９とからなる。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus which produces less incorrect separation between characters on a dot matrix and a dot matrix pattern by separating characters on the dot matrix in a legible manner and reproducing a dot matrix pattern without uncomfortable feeling during operation in economy mode.
エコモード使用時に、網点上の文字を判読可能な程度に分離し、網点絵柄を違和感なく再生し、網点上の文字と網点絵柄との誤分離が少ない画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - Pattern data stored in a pattern storage means 40 are read according to scenario data corresponding to a present game state and patterns are successively displayed on the screen of a display device 60 by an image processing means 50.
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段４０に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段５０によって図柄が順次表示装置６０の画面に表示される。 - 特許庁 - A rectangular tubular ground pattern 15 is formed with a conductive wiring pattern around the radiation detection element 5 and amplifying circuit 6 fixed to the upper surface of a signal processing circuit board 3.
信号処理回路基板３の上面に、当該上面に固定された放射線検出素子５及び増幅回路６の周囲に長方形の管状にグランドパターン１５を導電性の配線パターンにて形成する。 - 特許庁 - Plasma processing is performed on the backup metal oxide film pattern using a gas containing halogen element of 0.1 to 10% and a source gas containing an inert gas to form the metal oxide film pattern where a lower section linewidth is decreased.
前記予備金属酸化膜パターンを０．１％乃至１０％ハロゲン元素を含むガス及び不活性ガスを含むソースガスを利用してプラズマ処理して下部線幅が減少された金属酸化膜パターンを形成する。 - 特許庁 - A image slippage position is retrieved by using an electronic watermark pattern having a slippage by each small area with respect to an embedded electronic watermark pattern to attain efficient retrieval of the image shift position and electronic watermark detection processing.
埋め込んだ電子透かしパターンに対して小領域毎にずれを持たせた電子透かしパターンを用いて画像ずれ位置を探索することで、画像ずれ位置の効率的な探索、電子透かし検出処理が可能となる。 - 特許庁 - Since the processing speed of a PCI bus is slow and a CPU cannot capture signals by one image pattern at a speed of an HDTV synchronizing signal, a memory provided in the PCI board 18 stores one image pattern of moving picture data as a still picture.
ＰＣＩバスの速度は遅く、ＨＤＴＶ同期信号速度では一画面分の信号をＣＰＵに取り込めないので、動画データの一画面を静止画としてＰＣＩボード１８の中に設けたメモリに記憶する。 - 特許庁 - Then it is decided whether or not the pattern extracted in lottery processing is matched with the winning pattern selected and inputted by the player and when both the patterns are matched, a big win is established (ref., selection success picture (4)).
そして、抽選処理で抽出された図柄と、プレーヤーが選択入力した当たり図柄とが一致するかどうか判断され、両方の図柄が一致する場合に大当たりとなる（▲４▼選択成功画面参照）。 - 特許庁 - At the time of the interruption processing of a reset signal (2 ms later) next to the interruption, a numerical value is extracted from an intermediate pattern preparing random number C and a right pattern preparing random number R and stored and they are read and judged.
当該割込みの次のリセット信号（２ｍｓ後）の割込み処理の際、中図柄作成乱数Ｃ、右図柄作成乱数Ｒから数値を抽出・格納をすると共に、それらの読出及び判定を行う。 - 特許庁 - As a preferred processing condition of cleaning a substrate that is formed with an Al wiring pattern, a gas flow rate of 80 L/min is used to process a substrate that is formed with a pattern having an aspect ratio of less than 2.2.
好適な処理条件の１つとして、Ａｌ配線パターンが形成された基板上において、アスペクト比２．２未満のパターンが形成された基板に対して、気体流量８０Ｌ／ｍｉｎで処理を行う。 - 特許庁 - To provide an image processor for shortening a print time when printing an original image with a pattern image superimposed thereon, and dispensing with multiple resources for generating the pattern image, and to provide an image processing program.
原稿画像に地紋画像を重ね合わせて印刷する際の印刷時間を短縮し、地紋画像生成の為に多くのリソースを必要としない画像処理装置及び画像処理プログラムを提供すること。 - 特許庁 - A main CPU (Central Processing Unit) 31a determines whether a result of a pattern variation game is a jackpot or not on an occasion of prize winning of a game ball into a starting prize-winning port, thereby deciding a variation pattern from a determination result.
メインＣＰＵ３１ａは、始動入賞装置への遊技球の入賞を契機として図柄変動ゲームの結果が大当りになるか否かを判定し、判定結果に基づいて変動パターンを決定する。 - 特許庁 - To surely perform recognition processing even for an electronic component which is formed of a light transmitting material and for which a pattern is executed on the bottom surface.
光を透過する材質で作製されると共にその底面にパターンが施された電子部品であっても、確実に認識処理できること。 - 特許庁 - In a fourth processing step, coatings 29, 31 covering the initial surface pattern are applied, especially by a sputtering method, preferably as an alternating layer system.
第４処理ステップにて、初期表面パターンを覆うコーティング２９、３１を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用。 - 特許庁 - To solve a problem that stereoscopic processing is difficult in a black area such as hairs in the case of finding a three-dimensional shape of an object by a pattern projection method.
パターン投影法により対象物の三次元形状を求める際、髪の毛などの黒い領域ではステレオ処理が困難である。 - 特許庁 - Next, the point of the ideal position is read from the point operated result and on the basis of the read point, the image recognizing processing of the specified pattern is performed.
次に、前記得点演算結果から前記理想位置の得点を読み、読まれた得点を基に特定パターンの画像認識処理を行う。 - 特許庁 - A production planning processing part 10 determines the planed number of cars to be produced and resource allocation according to the production plan pattern as a restriction condition.
生産計画立案処理部１０は、生産計画パターンを制約条件として生産計画台数及びリソーセス配分を決定する。 - 特許庁 - In an image forming apparatus 1, an image processor 20 applies block average processing with a periodic structure being the same as that of a dither pattern.
画像形成装置１によれば、画像処理装置２０において、ディザパターンの周期構造と同じ周期構造でブロック平均処理を行う。 - 特許庁 - To improve precision and stability of thin-film processing by enhancing the etching resistance of a resist pattern, using a simple and effective resist-modifying method.
簡便かつ効果的なレジスト改質法によりレジストパターンのエッチング耐性を強化して、薄膜加工の精度・安定性を向上させる。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus and method in which detection precision of a pattern having a complicated shape can be maintained and improved.
複雑な形状を有するパターンの検出精度を維持、向上させることが容易な画像処理装置及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - The processing part reads out an activity pattern data from a storage part, as to the present activity on the date (S4), and calculates consumed energy (S9-S11).
処理部は、対象日の現状の活動について、活動パターンデータを記憶部から読み取り（Ｓ４）、消費エネルギーを計算する（Ｓ９〜Ｓ１１）。 - 特許庁 - According to this method, a pretreatment is effected for forming a modified part 13b by processing the film to be etched 13 exposed from the mask pattern 15 with SiO_2.
これにより、マスクパターン１５から露出している被エッチング膜１３部分をＳｉＯ_2化して改質部１３ｂを形成する前処理を行う。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus which selects the optimum screen pattern according to an image, and forms a high image-quality image with no density dispersion.
画像に応じて最適なスクリーンパターンを選択し、濃度むらのない高画質な画像を形成することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - The imprint processing station 4 has two or more imprint units 60 for forming the second resist film and forming the predetermined resist pattern.
インプリント処理ステーション４は、前記第２のレジスト膜の形成と所定のレジストパターンの形成を行うインプリントユニット６０を複数有している。 - 特許庁 - To provide an image processing device that prevents the occurrence of a vertical striped pattern in the background of a composite image when performing panning.
流し撮りを実行した際に、合成画像の背景に縦方向の縞模様が生じるのを防止できる画像処理装置を提供すること。 - 特許庁 - In a slot machine 1, the combination of symbols as the result of lottery by a pattern lottery processing (S3) is displayed on a lower liquid crystal display 4.
スロットマシン１においては、図柄抽選処理（Ｓ３）の抽選結果である図柄の組み合わせが下部液晶ディスプレイ４に表示される。 - 特許庁
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