「pattern processing」を含む例文一覧(4002)
＜前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 80 81 次へ＞- To provide an image processor and an image processing method by which an image is corrected by a correction amount corresponding to the complication of the pattern of the image.
画像の絵柄の複雑さに応じた補正量で画像補正を行うことが可能な画像処理装置および画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - Also, when performing the moving processing of the slide, the allocated coded pattern information related to the movement object slide is moved accompanying the movement object slide.
また、スライドの移動処理を行う際には、移動対象スライドに関連付けられた割当コード化パターン情報を移動対象スライドに付随して移動させる。 - 特許庁 - A matching processor 8 performs matching processing between the feature parameter of the leading consonant stored in the leading consonant buffer 5 and the feature parameter of a registration pattern.
そして、マッチング処理器８は、先頭子音バッファ５に格納された先頭子音の特徴パラメータと登録パターンの特徴パラメータとのマッチング処理を行なう。 - 特許庁 - The fine patterns MP which are the cause for the pseudo defects included in the exposure data patterns are removed by subjecting the patterns to the fine pattern removal processing.
この微細パターン除去処理を行うことにより、露光データパターンに含まれている擬似欠陥の原因となる微細パターンＭＰが除去される。 - 特許庁 - To provide an image processor and image processing program for acquiring pattern information from an image signal containing more pieces of paper fingerprint information.
より多くの紙指紋情報を含んだ画像信号から紋様情報を取得する画像処理装置及び画像処理プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To pattern a thin film finely by preventing the generation of a thin film residual in fine recessed parts when making a fine processing of the thin film formed on a substrate.
基板上の薄膜を微細加工する際に微細な凹部内に薄膜の残渣を生じるのを防止して、薄膜を高精細にパターン形成する。 - 特許庁 - To prevent a pattern defect from being caused by preventing an immersion lithography device from being contaminated by removing a bump formed on a wafer surface before immersion lithography processing.
ウェハ表面に形成したハンプを液浸露光処理前に除去することで、液浸露光装置の汚染を防止し、パターン不良の発生を防止する。 - 特許庁 - An evaluation processing section 34 evaluates the defect and the characteristics of the magnetic disk 16 by using the result of reading the evaluation pattern written with the excessively large or small current.
評価処理部３４は過大電流や過小電流で書き込まれた評価パターンの読み出し結果から、磁気ディスク１６の欠陥や特性を評価する。 - 特許庁 - To carry out antireflection processing with high productivity at a low cost by a fine rugged pattern so that the reflection of light can be decreased and the visibility of a display can be improved.
光反射低減、及び表示視認性向上ができる、微細凹凸による反射防止加工を、生産性良く低コストで出来る様にする。 - 特許庁 - To provide an image formation device which can extend the life of a semiconductor laser diode by reducing a laser emission time when generating a sensor pattern for processing.
プロセス用センサパターン生成時のレーザ発光時間を低減し、半導体レーザダイオードの寿命を延長することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The region of the exposed substrate is filled up again with the core material, and the above processing is repeated so that the pattern density becomes fourfold.
露出された基板の領域には、再びコア材料を充填することができ、上記処理は、上記パターン密度が４倍となるように繰り返される。 - 特許庁 - Density is corrected on the basis of a local density change in a pattern for recording a signal, and a signal peak value obtained after filter processing can be stabilized.
信号を記録するパターンの局所的な濃度変化から濃度の補正を行い，フィルタ処理後に得られる信号ピーク値を安定させることができる。 - 特許庁 - According to them, the positions of corresponding pixels of the reference image and check image are found and an image obtained by similarity conversion is collated through pattern matching processing.
これらに基づいて基準画像と検査画像の対応する画素の位置が求められ、相似変換の結果の画像をパターンマッチング処理して、照合を行う。 - 特許庁 - A plurality of patterns are stored in a dither pattern storage unit 314 and the color data generated by the dither processing unit 313 are stored in a color data storage unit 315.
ディザパターン格納部３１４は複数のディザパターンを格納し、カラーデータ格納部３１５はディザ処理部３１３において生成されたカラーデータを格納する。 - 特許庁 - To increase the etching resistance of a mask material to precisely pattern a processed film with good processing precision when a semiconductor device is manufactured.
半導体装置の製造等の場合、被加工膜に加工精度良くパターンを形成する上では、マスク材のエッチング耐性を高めることが重要になる。 - 特許庁 - At a side of the digital signal processing circuit board 3 opposite to the tuner unit 2, a ground pattern is formed in an exposed state without the shield case.
デジタル信号処理回路基板３のチューナユニット２とは反対側にグランドパターンが形成されており、シールドケースのない露出した状態とされている。 - 特許庁 - The signal line 53 may be formed in a connecting FPC 39, and a circuit element 56 for signal processing may be disposed in the circuit pattern of its portion.
信号線５３を接続用ＦＰＣ３９に形成し、その部分の回路パターンに信号処理用の回路エレメント５６を配置しておくことがある。 - 特許庁 - Then on the basis of number of pixels of the detected trace pattern and the recognized number of color pixels, an overall discrimination section 209 conducts color/monochromatic discrimination processing.
そして，そして，検出した追跡パターンの画素数と認識したカラー画素数とを基に，総合判定部２０９によりカラー／モノクロの判別処理を行う。 - 特許庁 - To prevent corrections in wiring patterns in later processes and increase the yield of LSI by simplifying and optimizing wiring pattern processing.
簡単かつ最適な配線パターン処理をおこなうことにより、後工程での配線パターンの修正を防止し、ＬＳＩの歩留まりの向上を図ること。 - 特許庁 - Fuel injection quantity of stratified injection is determined at a start of a unique second processing pattern synchronized with rotating angle of a crankshaft.
層状噴射の燃料噴射量を、クランクシャフトの回転角度と同期する固有の第２の処理パターンの開始時に決定することによって解決する。 - 特許庁 - The photoresist pattern 6 on a methyl polysiloxane film which is a low dielectric constant insulation film is removed, using a gas consisting of oxygen and nitrogen in a plasma processing.
低誘電率絶縁膜であるメチルポリシロキサン膜５上のフォトレジストパターン６を、酸素および窒素を含むガスを用いたプラズマ処理により剥離する。 - 特許庁 - The processing is repeated as the object moves, and a plurality of corrected images which are obtained are compared via pattern matching, thereby detecting a moving distance of the object.
物体の移動に伴って上記の処理を繰り返し、得られた複数の補正画像をパターンマッチングにより比較して、物体の移動量を検出する。 - 特許庁 - To provide a vapor dryer capable of suppressing the production of watermarks even when the pattern face of a wafer is directed to the wall face of a processing tank.
ウェーハのパターン面が処理槽の壁面に向いている場合でもウォータマーク発生の抑制することができる蒸気乾燥装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an information processing technology allowing detection of a characteristic pattern properly reflected with imparted data even when data include a loss value.
データが欠損値を含む場合であっても、与えられたデータを的確に反映した特徴的なパターンを検出可能な情報処理技術を提供する。 - 特許庁 - A template of a solid flat pattern, and mesh partition (one-dimension/two-dimension/combination of the both) of the template are used as a model of the PM used in the image processing.
この画像処理で用いられるＰＭモデルとして、無地フラットパターンのテンプレート、当該テンプレートのメッシュ分割（１次元／２次元／両者併用）が用いられる。 - 特許庁 - Then, the normal pattern processing performed by one common program is repeatedly performed for the number of the variable winning devices to be processed (Sa3-Sa4).
そして、１つの共通プログラムにより実行される普通図柄処理を、処理される変動入賞装置の数だけ繰り返し行う（ステップＳａ３〜ステップＳａ４）。 - 特許庁 - Furthermore, the shift quantity is preferably selected to half a period (p) of the repetitive pattern in the before- processing image S (0.5×p) as a maximum value.
また、シフト量の大きさは、処理前画像Ｓにおける繰り返しパターンの周期の大きさｐの半分の大きさ（０．５×ｐ）を最大値とすることが好ましい。 - 特許庁 - To conduct demarcating processing only by a simple assigning operation, even in an image data in which a character and line drawing image is superposed with a pattern image.
文字・線画画像と絵柄画像とが重畳した画像データであっても簡単な指定操作だけで各々を切り分けた処理を行えるようにすること。 - 特許庁 - A class code generated through the processing by a pattern detection section 102 and a class code decision section 103 on the basis of data of the class tap is fed to a coefficient memory 104.
クラスタップのデータに基づく、パターン検出部１０２、クラスコード決定部１０３の処理によって発生するクラスコードが係数メモリ１０４に供給される。 - 特許庁 - In the command transmission processing, transmission is performed concerning a command with a configuration being the same as that of a received change pattern command and also the command which indicates the independently determined rendition contents.
コマンド送信処理では、受信した変動パターンコマンドと同一構成のコマンドや、独自に決定した演出内容を示すコマンドが送信される。 - 特許庁 - To reduce picture interference such as periodical pattern noise that appears during an error spread processing.
誤差拡散処理を行った際に現れる周期的なパターンノイズ等の画質妨害を低減することができる表示装置の誤差拡散処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method by which cleaning treatment is properly carried out to the main surface of one side of a substrate while suppressing a damage to a pattern formed on a main surface of the other side of the substrate.
基板の一方主面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板の他方主面を良好に洗浄処理する。 - 特許庁 - To provide a face plate for embossing processing and a method of forming engraved mark for forming the engraved mark of a free pattern clearly with a simple operation and for preventing breakage of a sheet and deterioration of strength, upon embossing work.
エンボス加工に際し、自由な図柄の刻印を鮮明に簡単な作業で形成でき、シートの破れや強度低下も防止できるようにする。 - 特許庁 - In the processing room 5, using a step and repeat system, the pattern is transferred to the whole film by pressing the mold repeatedly against a plurality of regions of the film.
プロセス室５においては、ステップ・アンド・リピート方式により、膜の複数の領域に繰り返しモールドを押し付けることにより、膜全体にパターンを転写する。 - 特許庁 - The list chart 6 is displayed, and any display pattern is selected, and the expression format of the advertisement data 5 is changed so that the advertisement data can be displayed in an information processing terminal 3.
情報処理端末３では一覧表６を表示し、いずれかの表示パターンを選択して広告データ５の表現形式を変えて表示させる。 - 特許庁 - A decorative part 35 provided with various color tone and various patterns such as a wood grain like pattern is provided on the outer surface of the decorative member 23 by lamination processing or the like.
化粧部材２３の外側表面には、種々の色調や、木目調等の様々な模様が施された装飾部３５がラミネート加工等されている。 - 特許庁 - If a period for an image pattern in a selected image processing mode interferes with the number of beams from the light source, the number of beams used for drawing is changed.
選択された画像処理モードでの画像パターンの周期が光源のビーム本数と干渉するときは、描画に使用するビーム数を変更する。 - 特許庁 - To shorten processing time for forming the magnetization pattern of a magnetic recording medium, to reduce the occurrence of defective products, and to improve overall production efficiency.
磁気記録媒体の磁化パターン形成のための処理時間を短縮し、不良品の発生を減少させ、全体の生産効率を向上させること。 - 特許庁 - In the case of displaying the position of the embroidery pattern on the processing cloth at the numeric display part 82, a thick arrow is displayed as the arrow (B).
数値表示部８２に刺繍模様の加工布上の位置を表示する場合は、（Ｂ）に示すように、上記矢印として太い矢印を表示する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an article having a fine pattern which is directly formed on a hard base material and has excellent processing accuracy on a surface.
硬質基材に直接形成される微細パターンの加工精度が良好である、微細パターンを表面に有する物品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a projector capable of carrying out automatic focusing and processing of image distortion correction using a test pattern while displaying a video image by an input signal.
入力信号による映像を表示しながらも、テストパターンを使用したオートフォーカスや画像歪み補正の処理を可能とするプロジェクタを提供する。 - 特許庁 - Electronic watermark information subjected to spread processing on the basis of a spread pattern comprising spread codes set to each frame of the video image is embedded to a video signal.
映像の各フレーム毎に設定される拡散符号からなる拡散パターンに基き拡散された電子透かし情報を映像信号に埋め込むようにする。 - 特許庁 - To provide an apparatus for measuring a displacement of a pantograph, capable of improving a pattern matching processing in accuracy, and to provide a method of detecting a hard spot of trolley wire.
パタンマッチング処理の精度を向上させることを可能とするパンタグラフ変位測定装置及びトロリ線硬点検出方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a projector constituted to perform autofocus and image distortion correcting processing using a test pattern while displaying a video by an input signal.
入力信号による映像を表示しながらも、テストパターンを使用したオートフォーカスや画像歪み補正の処理を常時可能とするプロジェクタを提供する。 - 特許庁 - An encoding control unit 114 controls an encoder 112 based upon the screen control information so as to perform encoding processing corresponding to the display pattern.
エンコード制御部１１４は、画面制御情報に基づいて、表示パターンに対応したエンコード処理が行われるようにエンコーダ１１２を制御する。 - 特許庁 - Specially, when the line widths of the characters are increased in the boldface processing, a pattern in which a light emitting element one element inside from the end of the line width becomes B (blue) is avoided.
特に、太字処理において、文字の線幅を太くする際、線幅の端から１つ内側の発光素子がＢ（青色）となるパターンを避ける。 - 特許庁 - Since only the altered part of the entire print pattern on the print face 2a can be rewritten, update processing can be performed efficiently.
これにより、被印刷面２ａ上の全印刷パターンのうち、変更部分のみのリライト印刷を行えるので、更新処理の効率化を図ることができる。 - 特許庁 - An index candidate determining part 30 simply evaluates an acquired index correction plan with respect to the processing pattern to be streamlined to determine the index candidate.
インデックス候補決定部３０は、効率化対象の処理パターンに対し取得したインデックス修正案を簡易評価してインデックス候補を決定する。 - 特許庁 - To provide a method for processing a substrate which realizes the formation of a desired resist pattern by suppressing the reaction of a chemical amplification type resist film and a conductive film.
化学増幅型レジスト膜と導電性膜との反応を抑制して、所望のレジストパターンの形成を実現する基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To quickly and properly produce a binarization pattern that is used for performing the pseudo halftone processing to a gray image, i.e., the multilevel information.
多値情報である濃淡画像に対し疑似中間調処理を施すために用いられる２値化パターンの作成を迅速かつ適切に行なえるようにする。 - 特許庁
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