「pattern support」を含む例文一覧(616)
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支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５であり、かつ前記重合性化合物が、分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, the binder has an I/O value of 0.35-0.65 and the polymerizable compound contains at least a compound having one polymerizable group per molecule.
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５であり、かつ前記重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, and is characterized in that the photosensitive layer contains a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a coloring dye, and that the coloring dye as a 0.5 mass% methylethylketone solution shows ≤0.3 MPa filter pressure through a filter having a 0.45 μm pore diameter.
支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び着色染料を含み、かつ、該着色染料０．５質量％のメチルエチルケトン溶解液の孔径０．４５μｍフィルターでの濾過圧が、０．３ＭＰａ以下の着色染料であることことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - Of the organic EL transfer member at least composed of a support body, a peeling layer formed on the support body, and an organic EL transfer layer formed on the peeling layer, a transfer surface as a surface at a side of the organic EL transfer layer is made of a pattern transfer layer capable of forming patterns by difference of adhesiveness and/or wettability.
支持体と、前記支持体上に形成された剥離層と、前記剥離層上に形成された有機ＥＬ転写層から少なくともなる有機ＥＬ転写体であって、前記有機ＥＬ転写層側の表面である転写表面が、接着性および／または濡れ性の違いによるパターンを形成しうるパターン転写層からなる。 - 特許庁 - To provide a colored photocatalyst support structure not generating a non-coating part and coating irregularity such as overlap coating or the like on the surface of its base material on an outer work site, not limited by a location and not damaging the features such as a color, a pattern or the like on the surface of its base material, and a coating solution for forming the colored photocatalyst support structure.
外の作業現場において基材表面に塗り残し、重ね塗り等の塗りむらがなく、使用場面が限定されず、しかも、基材表面の色や模様等の特徴を損なうことない光触媒坦持構造体及び、該塗布方法を用いた光触媒坦持構造体形成用塗布液を提供することを目的とする。 - 特許庁 - After mounting a piezoelectric element formed, by connecting a main electrode 102 and a lead electrode 103 (its rear side is an electrode 104) electrically through a pattern onto slits 105, 106 of a support, a conductive adhesive is applied to parts 107, 108, they are dried and cured to connect electrically the lead electrodes 103, 104 with the slits 105, 106 and to support and fix the piezoelectric element.
圧電板１０１に主電極１０２と引出し電極１０３（裏面は１０４）がパターンで電気的に接続された圧電素子を保持器のスリット部１０５，１０６に実装後、導電性接着剤を１０７，１０８に塗布し乾燥・硬化させ引出し電極１０３，１０４と板スリット１０５，１０６との電気的接続と圧電素子の保持固定を行う。 - 特許庁 - To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.
回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a functional support having highly sensitive photoreactivity in visible light region, to provide a graft polymer layer laminate provided with a graft pattern layer which is formed by using the functional support, has high sensitivity and has suppressed decrease in film thickness over time even after heating storage, to provide a metal ion-containing material obtained by using the graft polymer layer laminate, and to provide a metal film laminate.
可視光領域で高感度な光反応性を持つ機能性支持体、及び、それを用いて形成された、高感度で、加熱保存後も経時的な膜厚の減少が抑制されたグラフトパターン層を備えるグラフトポリマー層積層体、それを用いて得られる金属イオン含有材料、金属膜積層体を提供する。 - 特許庁 - The color converting filter substrate is equipped with a support substrate, at least one color converting pattern layer containing a fluorescent coloring matter arranged on the support substrate, and a protection layer which is prepared on the support substrate, and prepared so that the whole color converting pattern layer may be covered at least.
本発明は、支持基板と、該支持基板上に配置された蛍光色素を含有する少なくとも１つの色変換パターン層と、該支持基板上に設けられ、該色変換パターン層全体を覆うように設けられた保護層とを少なくとも備えた色変換フィルタ基板であって、前記保護層が、前記色変換パターン層の厚さ以上の高さの上面と、前記支持基板と角度αを有する側面とを持ち、前記支持基板と該側面との角度αが７０度以下であることを特徴とする色変換フィルタ基板、ならびに該色変換フィルタ基板を用いた色変換方式有機発光素子およびカラーディスプレイを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing an adhesive tape by which it is possible to ensure that an adhesive does not remain on the portion having no adhesive layer when the pattern of the adhesive layer of a predetermined shape is formed on a support by passing through simple and easy processes.
簡便な工程を経るだけで、支持体上に所定の形状の粘着剤層をパターン形成する際、粘着剤層を有さない部分に粘着剤を確実に残存させないことが可能な、粘着テープの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a support device for intermediate-and-mountainous-area direct payment system, capable of setting an arrow pattern having the point higher in altitude of first and second points as a starting point and the point lower in attitude as a terminal point only by determining the positions of the first and second points regardless of the altitude.
標高の上下に関係なく第１及び第２の点の位置を決めると、標高の高い方を始点とし、標高の低い方を終点とする矢印図形を設定できる中山間地域直接支払制度支援装置を提供する。 - 特許庁 - Thereby, there is provided a running support apparatus for accurately detecting the existence of the wheel stopper 300 based on the actual vibration pattern input from a running road 500 and for notifying a proper position to stop to a driver of the vehicle 100.
これにより、走行路５００から入力される実際の振動パターンに基づいて、輪留め３００の存在を正確に検出することができ、車両１００の運転者に対して、適切な停車位置の報知を行うことが可能となる。 - 特許庁 - The target substance detecting element for capturing the target substance in the detection of the target substance that uses surface plasmon resonance is constituted, by arranging a metal structure having a specific pattern on a spherical support.
表面プラズモン共鳴を利用した標的物質の検出における標的物質を捕捉するための標的物質検出用素子として、球状の支持体上に特定のパターンをもった金属構造体が配置されている構成のものを用いる。 - 特許庁 - A support layer 3 for reinforcement made from glass or ceramics is formed on one surface of a flexible film 1 by a thin film forming method, and on the other surface of the flexible film 1, a metal layer 4 with a circuit pattern is then formed to produce a circuit board 31a.
可撓性フィルム１の一面に、薄膜形成法でガラスまたはセラミックスからなる補強用支持層３を形成し、次に可撓性フィルム１の他面に、回路パターンを有する金属層４を形成して、回路基板３１ａを形成する。 - 特許庁 - The design support device determines whether the result of the exposure simulation is within an allowable range (for example, a range of x[nm] to y[nm]) of a result of exposure simulation with an evaluation pattern being decision criteria for the plurality of exposure parameters or not.
設計支援装置が、露光シミュレーションによる露光シミュレーション結果が、複数の露光パラメータの決定基準である評価用パターンの露光シミュレーションでの許容範囲内（たとえば、ｘ［ｎｍ］〜ｙ［ｎｍ］以内）であるか否かを判断する。 - 特許庁 - To provide a mahjong ball game machine provided with a support function capable of making a discard tile input means corresponding to the pattern of a tile to attain a ready-to-win state when discarded emit color light when the tile to attain the ready-to-win state when discarded is present for 14 pieces of tiles in hand at present.
現在の１４個の手牌について、捨てれば聴牌する牌が存在するときに、この捨てれば聴牌する牌の図柄に対応する捨て牌入力手段をカラー色で発光させる支援機能を備えた雀球遊技機を提供する。 - 特許庁 - The concavo-convex pattern formed on the master support, by forming the width W1 in the direction of the track pitch (the direction of arrow Y) of the protrusion 11 in order for it to become smaller than a track pitch P, is formed in order for the whole circumference of the convex portion not to be surrounded by the protrusion.
マスター担体に形成される凹凸パターンにおいて、凸部１１のトラックピッチ方向（矢印Ｙ方向）の幅Ｗ１をトラックピッチＰよりも小さく形成することにより全周囲を凸部で囲まれた凹部を形成しないようにする。 - 特許庁 - Relative motion is caused by varying speed of objects and/or direction or by controlling flow of fluid carrying objects, movement of a channel, movement of a support structure, movement of a sensor, and/or pattern movement.
物体の速度および／または方向を変化させることにより、あるいは物体を搬送する流体の流れ、チャンネルの運動、支持構造物の運動、センサの運動、および／またはパターンの運動を制御することにより、相対運動を生起することができる。 - 特許庁 - The subject object 210 is photographed by being arranged not directly on the calibration object, but by being held on an object support base 220 and then a user is able to select the pattern and color of the calibration and also select the position and direction of the photography.
被写体オブジェクト２１０をキャリブレーションオブジェクトの上に直接に配置するのではなく、オブジェクト支持台２２０に乗せて撮影することにより、ユーザはキャリブレーションのパターン及び色を選択できると共に、撮影位置及び向きを選択できる。 - 特許庁 - For every function block and wiring pattern on the circuit board 10, a coil 32 and a capacitor 33 are formed in patterns at corresponding positions on a support substrate 4, the coil 32 and capacitor 33 constituting a signal change detection part 30 for detecting induced electromotive force among them.
回路基板１０上の機能ブロックや配線パターンごとに、それらとの間での誘導起電力を検知するための信号変化検出部３０をなすコイル３２やコンデンサ３３を、支持基板４上の対応する位置にパターン形成する。 - 特許庁 - To provide consumers with a commodity having a low price and a high quality by supplementing recessed and protruding pattern machining related to mounting of a decorative stone on a surface of a glass support frame in a wristwatch case by a press machining technology by use of a mold to reduce a cost.
装飾石の装着に関連する、腕時計ケースにおけるガラス支持枠表面の凹凸模様加工を、金型を用いたプレス加工技術で補ってコスト削減を図り、低価格で高品質の商品を消費者に提供する。 - 特許庁 - A player can recognize timing which is to be a reference when a music piece is performed, by vibrating a vibration section 92 of a performance support section 90 with a vibration pattern in which timing specified based on a music piece data is emphasized.
楽曲データに基づいて特定されたタイミングが強調される振動パターンで演奏補助部９０の振動部９２を振動させることにより、楽曲を演奏する際の基準とすべきタイミングを演奏者に認識させることができる。 - 特許庁 - An electrode of at least one power semiconductor element and an electrode of at least one control IC element for controlling the power semiconductor element are electrically connected to a wiring pattern selectively disposed on a wiring support substrate (step S1).
配線支持基材に選択的に配置された配線パターンに、少なくとも一つのパワー半導体素子の電極、並びにパワー半導体素子を制御する少なくとも一つの制御用ＩＣ素子の電極を電気的に接続する（ステップＳ１）。 - 特許庁 - To provide a suspension substrate with a circuit which can execute inspections of conduction of a conductor pattern and operation of a magnetic head with excellent reliability by improving adhesiveness between a metal plating layer and a support terminal, and to provide a method for manufacturing the same.
金属めっき層と支持端子との密着性を向上させることにより、導体パターンの導通および磁気ヘッドの動作の検査を優れた信頼性で実施することのできる、回路付サスペンション基板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The printed circuit board 10 has two contact members 12 and 13 attached thereto, which are electrically connected to a wiring pattern of the board 10 and have flexibility and have contact parts 12C and 13c arranged between the shutter plate 1 and the support plate 9.
プリント配線板１０には、その配線パターンに電気的に接続させて、可撓性を有する二つの接片部材１２，１３が取り付けられており、それらの接点部１２Ｃ，１３ｃを、シャッタ地板１と支持板９との間に配置している。 - 特許庁 - An insulating layer 3 is formed on a metal support layer 2 having a surface glossiness of 150-500% to give the insulating layer 3 a haze value of 20-50%, and the conductor pattern 4 is formed on the insulating layer 3 to make a TAB (tape automated bonding) tape carrier 1.
表面光沢度が１５０〜５００％の金属支持層２の上に、ヘイズ値が２０〜５０％となるように絶縁層３を形成し、その絶縁層３の上に導体パターン４を形成することにより、ＴＡＢ用テープキャリア１を得る。 - 特許庁 - In the rolling bearing device 1 with a sensor, an anchor portion 23 consisting of an anchor pattern for inducing a mechanical bond with a magnet member 12 is formed at an end face of a flange 22 of a support member 20 of the magnetized pulsar ring 11 at the side of the magnet member 12.
センサ付き転がり軸受装置１において、着磁パルサリング１１の支持部材２０のフランジ部２２における磁石部材１２側の端面に、磁石部材１２との機械的結合を生じさせるアンカーパターンからなるアンカー部２３を形成する。 - 特許庁 - The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.
本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁 - The security film includes at least a surface-relief type hologram forming layer and a transparent reflecting layer successively layered on one surface of a support, and further includes a pattern layer disposed entirely or partially on the transparent reflecting layer, in which the pitch of a concavo-convex pattern of the surface relief type hologram recorded in the hologram-forming layer is set at a range of 200 to 500 nm.
支持体の片面に少なくとも、表面レリーフ型ホログラム形成層と透明反射層とが順次積層されて設けられ、さらに透明反射層の上部の全部または一部には絵柄層が設けられていていると共に、ホログラム形成層に記録されている表面レリーフ型ホログラムの凹凸パターンのピッチが２００から５００ｎｍの間に設定されている。 - 特許庁 - A pattern coating device includes a device body having a supply device for heated and melted hot-melt adhesive and a transfer tool 2 in which a transfer roll is pivotally installed at a support frame and is characterized in that the heated and melted hot-melt adhesive is supplied to the surface of the transfer roll in a pre-determined pattern distribution and the transfer roll is detachable from the device body having the supply device.
加熱溶融したホットメルト接着剤の供給装置を有する装置本体と、転写ロールを支持フレームに軸架してなる転写用具２とよりなり、前記転写ロールの表面に、所定のパターン分布で加熱溶融ホットメルト接着剤が供給されるとともに、前記転写ロールは、前記供給装置を有する装置本体に対し、離脱自在であることを特徴とする。 - 特許庁 - In this manufacturing method for a transfer mask, having openings formed into a thin film supported with a support frame, the openings are formed, using an etching mask layer as a mask, the etching mask layer is formed, using a resist pattern formed by the lithography using a photoresist as the mask, and the corner squareness of the opening pattern is set at 90°±0.3°.
支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクの製造方法であって、前記開口は、エッチングマスク層をマスクとして形成されてなり、前記エッチングマスク層は、フォトレジストを用いたリソグラフィー法により形成されたレジストパターンをマスクとして形成され、開口パターンのコーナーの直角度が、９０°±０．３°であることを特徴とする転写マスクの製造方法。 - 特許庁 - The method of manufacturing a wiring board is characterised by comprising processes of forming the thickening layer of water-soluble polymer on the support so as to manufacture a wiring forming board, forming a prescribed pattern in aqueous conducive ink on the thickening layer, and curing the conductive ink to form a prescribed conductor wiring pattern on the wiring forming board.
支持体上に水溶性高分子からなる増粘層を形成して配線形成用基板を製作する工程と、前記増粘層上に水性の導電性インクで所定のパターンを形成する工程と、前記導電性インクを硬化させて前記配線形成用基板上に所定の導体配線パターンを形成する工程と、からなることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁 - This temperature and humidity setting support device 2 is provided with a simulation part 20 for simulating the power consumption; a user interface part 10 presenting a simulation result and receiving selection input for instructing the selection of one operation pattern, from the store/facility operator; and a setting part 18 for setting set temperature and humidity for every hour in the selected operation pattern to the air-conditioning equipment 3.
本発明の温湿度設定支援装置２は、消費電力量をシミュレーションするシミュレーション部２０と、シミュレーション結果を提示し、店舗・施設オペレータから１つの運転パターンを選択することを指示する選択入力を受け付けるユーザインタフェース部１０と、選択された運転パターンにおける各時間ごとの設定温湿度を空調機器３に設定する設定部１８とを備える。 - 特許庁 - In an electron beam aligning stencil mask in which membranes 11, 12 formed with patterns which should be transferred to an inductive substrate via through holes 21, 22 of a pattern form are supported by a support member, at least one pattern 41 out of the patterns formed with a single through hole is divided and disposed in a plurality of regions 11, 12.
パターン状の貫通穴２１、２２により感応基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレン１１、１２が支持部材により支持されてなる電子線露光用ステンシルマスクにおいて、単一の貫通孔により形成されるパターンのうち少なくとも一つのパターン４１が分割されて、複数の領域１１、１２に配置されていることを特徴とする電子線露光用ステンシルマスク。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁 - The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having at least two substituents capable of chain transfer per molecule, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the polymerizable compound contains at least a compound having one polymerizable group per molecule.
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、該重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - An evaluation method learns an evaluation object learning pattern by using a learning parameter read from a learning parameter storing means, acquires the number of support vectors from a learning result, obtains an evaluation value of the feature set by means of a feature set evaluation index obtained by the number of support vectors and the existing method, and determines a feature set having the highest evaluation value as the optimum feature set.
本発明は、学習パラメータ記憶手段から読み出した学習パラメータを用いて評価対象学習パターンについて学習し、学習結果からサポートベクターの数を取得し、サポートベクター数、既存の方法により求めた特徴セット評価指標を利用して特徴セットの評価値を求め、特徴セットの評価値の最も高いものを最適特徴セットとする。 - 特許庁 - A design support device executes exposure simulation of a designed pattern relating to a semiconductor layer in accordance with a parameter obtained by changing a selected parameter out of a plurality of exposure parameters relating to the semiconductor layer by a designated amount and exposure parameters other than the selected parameter.
設計支援装置が、半導体層に関する複数の露光パラメータのうちの選択パラメータを指定量分変化させた変化後の選択パラメータと、選択パラメータを除く残余のパラメータと、による半導体層に関する設計パターンの露光シミュレーションを実行する。 - 特許庁 - An ECU (electric control unit) mounted on the vehicle defines two sections of "acceleration section" and "momentum traveling section" regarding a target speed pattern that can achieve improvement in generated fuel consumption, and implements the support control that can achieve the fuel consumption improvement in accordance with each defined section.
車両に搭載されたＥＣＵは、生成した燃費向上を達成可能な目標速度パターンに対して、“加速区間”と“惰性走行区間”の２つの区間を定義し、定義した各々の区間に応じて、燃費向上を達成可能な支援制御を実施する。 - 特許庁 - The conductive element is manufactured by the manufacturing method comprising subjecting the photosensitive material for forming the conductive element to pattern exposure and a developing process, the photosensitive material having support, a silver-salt-containing layer, and a conductive particle-containing layer with a binder content of ≤0.2 g/m^2.
この導電性要素は、支持体と、銀塩含有層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料をメッシュ状にパターン露光および現像処理する製造方法により製造される。 - 特許庁 - The hydrophilic/hydrophobic pattern is obtained by bringing a composition containing a hydrophobic compound having an optically active group into contact with a support having a surface where hydrophilic graft chains are present, adding imagewise energy to the composition, fixing the hydrophobic compound.
親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親／疎水性パターンを得ることを特徴とする。 - 特許庁 - The photosensitive element for a plasma display panel is used for forming a metal pattern on the uneven substrate, namely a lamination body where a burring layer B and a resin composition layer C having photosensitivity are laminated in this order on a support body film A.
（Ａ）支持体フィルム上に、（Ｂ）埋め込み層（Ｃ）感光性を有する樹脂組成物層とがこの順に積層されてなる積層体であることを特徴とする凸凹の有る基板上の金属パターンを形成するための、プラズマディスプレイパネル用感光性エレメント。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the transparent electrode forming a conductive layer on a transparent support body, the conductive layer is made by forming a pattern in a photogravure method with the use of dispersion liquid containing metal nanowire and conductive polymers.
透明支持体上に導電層を形成する透明電極の製造方法において、該導電層は、金属ナノワイヤと導電性高分子を含有する分散液を用い、グラビア印刷法によりパターンを形成することを特徴とする透明電極の製造方法。 - 特許庁 - The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having a plurality of substituents to chain transfer, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、連鎖移動可能な置換基を複数有する連鎖移動化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤とを含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - The pattern forming material has on a support at least the photosensitive layer containing the binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder has an I/O value of 0.300-0.650 and a glass transition temperature (Tg) of ≥80°C.
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３００〜０．６５０であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - To provide a projection system where related to a lithography projection system used for projecting a mask pattern on a substrate at manufacturing of ICs, etc., such phenomenon as substrate sticking to the support surface of a substrate holder for holding it on a substrate table, resulting in difficulty in release, is eliminated.
ＩＣの製造等でマスクパターンを基板上に投影するために使用するリソグラフィ投影装置であって、基板がそれを基板テーブル上に保持するための基板ホルダの支持面に付着して外し難くなる現象をなくした投影装置を提供すること。 - 特許庁 - The transfer mask comprises a support substrate 27, a silicon thin film 24 on which a mask pattern is formed, and a thin film of rigidity higher than that of silicon that is so formed as to cover the supporting substrate 27 and a side surface thereof.
本発明に係る転写マスクは、支持基板２７と、マスクパタンが形成されたシリコン薄膜２４と、を備えた転写マスクであって、支持基板２７及びその支持基板２７の側面を覆うように形成されたシリコンより高剛性の薄膜を具備するものである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board in which a support substrate is reusable while precise arrangement of a conductor pattern is achieved, the wiring circuit board can be easily obtained in a short time, and the manufacturing cost is reducible.
導体パターンの精密な配置を実現できながら、支持基板を再利用することができ、また、簡便かつ短時間で配線回路基板を得ることができ、さらには、製造コストを低減することのできる、配線回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
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