「pattern support」を含む例文一覧(616)
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ボンディングパッド部６に対応する内層部に、銅配線パターン層と同層に形成された保持配線パターン２２と、これら保持配線パターン２２を層間接続するようにして形成された保持プラグ層２３とからなる保持銅パターン層１５を形成してなる。 - 特許庁 - The pattern frame 13 is formed by plural frame pieces 14, 15 divided in the direction intersecting a support shaft 12, and a pattern display unit 16 is mounted on support parts 14c, 15c.
図柄フレーム１３が支持軸１２と交差する方向で分割された複数のフレームピース１４；１５により形成され、支持部１４ｃ；１５ｃに図柄表示体１６を装着している。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING WOVEN OR KNITTED FABRIC ARTICLE WITH PATTERN SIMULATING WOVEN OR KNITTED FABRIC SAMPLE HAVING SPECIFIC PATTERN BY COMPUTER SUPPORT
コンピュータ支援によって、特定のパターンを有する織編物サンプルをシミュレートするパターン付きの織編物品を製作する方法およびシステム - 特許庁 - To provide an illumination setting support device that enables a user to easily set an optimum lighting pattern while visually confirming the pattern.
ユーザが視覚で確認しながら最適な点灯パターンを容易に設定することのできる照明設定支援装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a woven or knitted fabric article with a pattern simulating a woven or knitted fabric sample having a specific pattern by a computer support.
コンピュータ支援によって、特定のパターンを有する織編物サンプルをシミュレートするパターン付きの織編物品を製作する方法。 - 特許庁 - After the fixed part 52 is removed, a film 33 is bonded on the pattern wiring 32, and then the film 33 and the pattern wiring 32 are separated from the support board 46.
定着部５２を除去した後にパターン配線３２の上にフィルム３３を接着し、これらを支持基板４６から分離させる。 - 特許庁 - To provide a mask pattern formation support apparatus, a mask pattern formation support method, a program, a storage medium, and an exposure mask, which facilitate the formation of a mask pattern for the manufacture of a semiconductor device having a circuit pattern with the figure and dimensions both in high fidelity to the aimed circuit pattern designed by a designer.
設計時に設計者が意図した回路パターンに対して、形状および寸法がともに忠実な回路パターンを有する半導体デバイスを製造するマスクパターンの作成を容易化することができるマスクパターン作成支援装置、マスクパターン作成支援方法、プログラム、記憶媒体および露光用マスクを提供する。 - 特許庁 - The first conductive pattern is electrically connected to the first electrode 42 through the direct support of the first electrode 42 by the support part 12.
第１導電パターンは、支持部１２による第１電極４２の直接支持により、第１電極４２と電気的に接続されている。 - 特許庁 - A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.
島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁 - To obtain a support body for forming a nonwoven fabric with a pattern, capable of improving peelability of spun lace nonwoven fabric, controlling fluff on the surface of the nonwoven fabric and providing a clear pattern when the surface pattern of the support body is transferred to the surface of nonwoven fabric.
スパンレース不織布の剥離性を向上させ、不織布表面の毛羽立ちを抑え、且つ不織布表面に支持体表面柄を転写した際に明瞭な柄を付与し得る柄付不織布形成用支持体を得る。 - 特許庁 - A support means 18 supports the traveling of the vehicle based on the calculated optimal traveling pattern.
支援手段１８は、算出された最適走行パターンに基づい車両の移動を支援する。 - 特許庁 - A pair of support pipes 3 are arranged in an orthogonal direction thereto to form a parallel cross pattern.
一対の支持パイプ３がベースパイプ３上に、それと直交方向に井桁状に配置される。 - 特許庁 - A part of a support substrate 2 is released through a pattern of a counter-electrode contact area.
支持基板２の一部分は、対向電極コンタクト領域のパターンの中を通って解放される。 - 特許庁 - To support creating and editing for a series of command/data for describing a prescribed operation pattern of a robot.
ロボットの所定の動作パターンを記述する一連のコマンド／データの作成・編集を支援する。 - 特許庁 - As a result, the thin film having a prescribed pattern shape is formed on the flexible support 1.
これにより、所定の形状のパターンを有する薄膜をフレキシブル支持体１上に形成する。 - 特許庁 - To provide an organic electronic device using a fine pattern electrode that does less damage to a support medium and a method for manufacturing the pattern electrode.
支持体へのダメージの少ない、高精細なパターン電極の製造方法及びそのパターン電極を用いた有機電子デバイスを提供すること。 - 特許庁 - In the periphery of a mask pattern 13 or a mask pattern region 14 of the membrane layer 12 which constitutes the mask, a membrane support layer 15 is formed.
マスクを構成するメンブレン層１２のマスクパターン１３又はマスクパターン領域１４の周辺部に、メンブレン支持層１５が形成されて成る。 - 特許庁 - The resist pattern is obtained as follows; the photosensitive resin composition is applied on a support, dried, subjected to predetermined pattern exposure and developed.
また、レジストパターンは、上記感光性樹脂組成物を支持体上に塗布し、乾燥してから所定のパターン露光をした後、現像して得られる。 - 特許庁 - A support opening fixed with a gate support part is formed at the thick film part of a resist layer 10 by exposing a support opening pattern 40 for the unexposed part of the resist layer 10.
レジスト層１０の未露光部分に対して支持開口パターン４０を露光しすることで、レジスト層１０の厚膜部にゲート支持部が被着される支持開口を形成するようにする。 - 特許庁 - Below the bonding area, a support via slightly smaller than the bonding area and a support pattern having a size equivalent to the bonding pad which is linked to the bonding pad through the support via are arranged.
ボンディングエリアの下方には、ボンディングパッドよりも若干小さいサポートビアと、ボンディングパッドに相当する大きさを有し且つサポートビアによりボンディングパッドと連結されたサポートパターンとを配置する。 - 特許庁 - To provide a wiring design support apparatus and a wiring design support method capable of easily forming a three-dimensional wiring pattern in a short time.
３次元の配線パターンを短時間かつ簡単に形成できる配線設計支援装置及び配線設計支援方法を提供すること。 - 特許庁 - This driving support system for a vehicle includes a detection device 101, a driving pattern information generation part 102, a driving pattern arrangement part 103, a driving skill information generation part 104, and a support part 105.
車両用運転支援システムは、検出装置１０１、運転パターン情報生成部１０２、運転パターン配置部１０３、運転技量情報生成部１０４および支援部１０５を備えている。 - 特許庁 - The air-conditioner arrangement support system includes an information storage part 16 and an arrangement pattern derivation part 13a.
そして、空調機配置支援システムは、情報記憶部１６と配置パターン導出部１３ａとを備える。 - 特許庁 - The security label 11 is provided with a support body 12, a ground layer 13, a pattern layer 14 and a film layer 15.
セキュリティラベル１１は、支持体１２と、下地層１３と、パターン層１４と、フィルム層１５とを備えている。 - 特許庁 - To provide a document elaboration support device including a function of detecting a superimposition pattern with respect to document data.
文書データに対し、重複パターンの検出機能を有する文書推敲支援装置を提供する。 - 特許庁 - The superposition pattern can be used as a support in directing an intraocular lens for astigmatism as well.
前記重畳パターンは、乱視用眼内レンズを方向付けする際にもサポートとして使用することができる。 - 特許庁 - A hole pattern 26 is maintained at a portion at a distance dp from a support body 21 lower than the bonding balls.
孔型版26は接続球の高さより小さい支持体21から距離(d_p)だけ離れた所に維持する。 - 特許庁 - A support pattern 9 for improving wire bond characteristics is formed at such a position on the insulating board 13 where the wiring pattern 4' is provided as corresponding to the terminal 5.
配線パターン４’が設置された絶縁基板１３上の、ターミナル部５に対応した位置に、ワイヤボンド性を向上させるための支持パターン９を形成する。 - 特許庁 - The resin 5 is transferred to a base material 6 supplied between the pattern roll 12 and the support roll 14, and then the rugged pattern is formed on the base material 6.
樹脂５は、絵柄ロール１２と支持ロール１４との間に供給される基材６上に転移させられ、基材６に凹凸形状が形成される。 - 特許庁 - The registered object shape pattern may be displayed on the display interface, and a selected object manipulation pattern selected from the action support tool library may be received.
登録物体形状パターンは、表示装置上に表示され、行動サポート・ツール・ライブラリから選択された選択物体操作パターンが受信される。 - 特許庁 - To provide a driving support device for suppressing a feeling of incompatibility which a driver receives in driving support using a target traveling pattern.
目標走行パターンを用いた運転支援において運転者の受ける違和感を抑制する運転支援装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a software development support system, a development support method and a program which can carry out automatic generation of a new model against a source model even to a complicated model which is hard to generate by a conventional pattern method.
従来のパターン方式で生成し難い複雑なモデルに対しても、元モデルに対して新たなモデルを自動生成することができる。 - 特許庁 - The medal on which the pattern is formed is temporarily retained for the predetermined time at a medal support plate 2 of a medal holding mechanism 1, then the medal is discharged by inclination of the medal support plate 2.
模様が形成されたメダルは一時メダル保持機構１のメダル受板２で所定時間保持された後、メダル受板２の傾斜によって排出される。 - 特許庁 - To shape a rugged pattern by bringing a lugged pattern giving layer into close contact with a base material sheet and surely separating them from a transfer layer as a support sheet integral with the rugged pattern giving layer and the base material sheet when transferred.
凹凸模様賦形層と基材シートとの密着を良くし、転写時は、これらが一体となった支持体シートとして確実に転写層から剥離して凹凸模様が賦形できる様にする。 - 特許庁 - This stencil mask is provided with: a support formed with an opening; an etching stopper layer pattern-formed on the support; and a thin film formed with a transfer penetration pattern on the etching stopper layer wherein the surface or the whole surface of the support part and the thin film is oxidized.
開口部が形成された支持部と、支持部上にパターン形成されたエッチングストッパ層と、エッチングストッパ層上に転写貫通パターンが形成された薄膜層と、を備え、支持部及び薄膜層の表面もしくは全面が酸化されたことを特徴とするステンシルマスク。 - 特許庁 - The patterning device can give a pattern to the section of an radiation beam to form a patterned radiation beam, and the support has a support clamp structured to clamp the patterning device onto the support.
パターニングデバイスはパターン化された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができ、支持体はパターニングデバイスを支持体にクランプするように構成された支持クランプを含む。 - 特許庁 - Then, the support is etched in the state of the upper part of the support in the SOI formation region being covered with a resist pattern to form an opening surface in the support for exposing part of the end of the SiGe layer 3.
そして、ＳＯＩ形成領域の支持体上をレジストパターンで覆った状態で支持体をエッチングすることにより、支持体にＳｉＧｅ層３の端部の一部を露出させる開口面を形成する。 - 特許庁 - The embossing apparatus 10 has a pattern roll 12 having a rugged pattern on the outer circumference, a support roll 14 arranged oppositely to the pattern roll 12, and a resin feeder 16 feeding a fine particle-like resin 5 on the pattern roll 12.
エンボス加工装置１０は、外周に凹凸形状を有する絵柄ロール１２と、絵柄ロール１２に対向して配置された支持ロール１４と、微粒子状の樹脂５を絵柄ロール１２上に供給する樹脂供給装置１６と、を備えている。 - 特許庁 - To support editing work of a motion pattern by taking attitude stability at the time of execution in an actual machine into account.
実機上での実行時の姿勢安定性を考慮しながら動作パターンの編集作業を支援する。 - 特許庁 - The dry film resist has a photosensitive resin layer having the cured resist pattern on a support film and a protective layer on the resin layer.
支持体フィルム上に硬化レジストパターンを有する感光性樹脂層次いで保護層を有するドライフィルムレジスト。 - 特許庁 - A patterning device functioning so as to add a pattern to the cross section of the radiation beam is supported by patterning support.
パターニングサポートによって、放射のビームの断面にパターンを付与するように機能するパターニングデバイスが支持される。 - 特許庁 - The antenna electrode 11 is wired in a winding pattern, for example, on the surface of the support substrate 21.
アンテナ電極１１は、支持基板２１の表面において、例えば、つづら折り状のパターンで配線されている。 - 特許庁 - The electron source array 4, the thin-film transistor 9 and the cathode wiring pattern 2 are disposed vertically with respect to the support board.
電子源アレイ４、薄膜トランジスタ９、カソード配線２は、支持基板に対して垂直方向に配設する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material having a good resist surface profile and capable of forming a higher-definition pattern by using a highly transparent substance as a support so as to form a permanent pattern such as a solder resist, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a permanent pattern forming method using the pattern forming material.
ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、高透明な物質を支持体として使用することにより、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The semiconductor device comprises a substrate having a wiring pattern on the upper surface, an electrode structure for internal connection having a support, a wiring pattern arranged on the surface of the support, a plurality of electrodes for internal connection each having one end being connected with the wiring pattern and a first semiconductor chip being connected with the wiring pattern, and a second semiconductor chip being connected with the wiring pattern on the substrate.
本発明は、上面に配線パターンを有する基板と、支持部、該支持部面に配置された配線パターン、該配線パターンに接続される一端を有する複数の内部接続用電極、及び該配線パターンに接続される第１の半導体チップを有する内部接続用電極構造体と、基板上の配線パターンと接続される第２の半導体チップとを備える。 - 特許庁 - Further, a pattern copper foil portion 2b is provided not on the entire circumference of a square hole 5 of the printed board 2, but only on a surface where a lock claw 23b of a support metal fitting 23 is located, and only a surface of the support metal fitting 23 in contact with a pattern surface of the pattern copper foil portion 23b is fixed by soldering.
また、プリント基板２の角穴５に対してパタン銅箔部２ｂが、その全周ではなく支え金具２３のロック爪２３ｂがある面にのみ設けられ、パタン銅箔部２３ｂのパタン面と接する支え金具２３の面のみがはんだ付けによって固定される。 - 特許庁 - By providing a control system adapted to align the other of the pattern support and the substrate table, so that the positioning error of one of the pattern support and the substrate table is compensated by the positioning of the other, a positioning accuracy of the pattern forming apparatus and the substrate is achieved.
パターン支持と基板テーブルの一方の位置決め誤差が他方の位置決めによって補償されるようにパターン支持と基板テーブルの他方を位置合せするように適合される制御系を提供することにより、パターン形成装置と基板の位置合せ精度が達成される。 - 特許庁 - An element main body 2 is pressurized to the surface of a support sheet 4 in which the external electrode pattern 6 is formed, and an external electrode pattern 6 is transferred to the surface of the element main body 2.
外部電極パターン６が形成された支持シート４の表面に、素子本体２を押し付け、素子本体２の表面に外部電極パターン６を転写する。 - 特許庁 - A column 40 is connected with an upper part of a pile foundation 20 to support it by an inner pattern 30 attached to an upper part of the pile foundation 20 and an outer pattern 50 attached to a lower part of the column 40 of a structure and engaging with the inner pattern 30.
杭基礎２０の上部に取り付ける内型３０と、構造物の柱４０の下部に取り付けて、内型３０に係合する外型５０とにより、杭基礎２０の上部に柱４０を連結して支持する。 - 特許庁 - This transfer seal 1 for nail art is provided with a support sheet 2, and a transfer part 3 having a transparent layer 6, a pattern layer 5 and an adhesive layer 4 laminated on the support sheet 2.
支持シート２と、支持シート２上に積層された透明層６、絵柄層５、および接着剤層４を有する転写部３とを備えたネイルアート用転写シール１。 - 特許庁
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