「pattern system」を含む例文一覧(3675)

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  • This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 10 capable of forming a light distribution pattern for a low beam and a light distribution pattern for a high beam in a switching system, and a control part 302 for controlling the light distribution pattern in a switching system based on information for indicating a front state of one's own vehicle.
    車両用灯具システム１００は、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンを切替形成可能な車両用灯具１０と、自車の前方状況を示す情報に基づいて配光パターンを切替制御する制御部３０２と、を備える。 - 特許庁
  • When a multiple board is loaded into an electronic component mounting device, a circuit pattern where electronic components are to be mounted and a defective circuit pattern are recognized respectively, and an optimal mounting system is selected out of a step repeat system and a pattern repeat system on the basis of the above recognitions or a simulation of a mounting time.
    多面取り基板が電子部品実装機に搬入されたとき、実装を行う回路パターンと不良回路パターンを認識してその認識に基づき、または実装時間のシミュレーションにより、ステップリピート方式とパターンリピート方式の中から最適の実装方式を選択する。 - 特許庁
  • The first optical system 32 including a projection optical system 42 for projecting a two-dimensional pattern for calibration, and the second optical system 22 arranged so as to face to the first optical system 32 are included.
    キャリブレーション用2次元パターンを投影する投影光学系42を具える第1光学系32と、第1光学系32に対向するように配置される第2光学系22とを具えて構成される。 - 特許庁
  • In the preparation procedure, the relationship between a distortion pattern which an optical system gives an image and the lens position of the optical system is acquired.
    準備手順では、光学系が画像に与える歪曲パターンと、その光学系のレンズポジションとの関係を取得する。 - 特許庁
  • Banjo refers to a working pattern taken by lower-ranking government officials such as Zonin and so on in the ritsuryo system (a system of centralized government based on the ritsuryo code) in Japan.
    番上（ばんじょう）とは、日本の律令制において雑任などの下級官人が行っていた勤務形態。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a formation method of a dynamic test pattern, a diagnostic method of image quality base in which document processing system is automated, and a system of the diagnostic method.
    動的テストパターン生成方法、ドキュメント処理システムの自動化された画質ベースの診断方法、及びシステムを提供する。 - 特許庁
  • An exposure system projects a pattern of an original plate onto each shot area of a board via a projection optical system to expose the board.
    露光装置は、投影光学系を介して原板のパターンを基板の各ショット領域に投影して該基板を露光する。 - 特許庁
  • A model pattern, a system characteristic, a function characteristic, and response time predicting model information are stored into a system model DB 10 in advance.
    システムモデルＤＢ１０内に、モデルパターン、システム特性、機能特性及び応答時間予測モデル情報を、予め格納する。 - 特許庁
  • Patterning data of the electrode pattern, the wiring pattern and the dummy wiring pattern is generated by a CAD system, patterning data of the electrode pattern and the dummy wiring pattern is coupled as a component cell data corresponding to the electronic component, and previously registered in the component library of the CAD system.
    ここで、電極パターン、配線パターン及びダミー配線パターンのパターン形成用データはＣＡＤシステムによって生成されるものであり、電極パターン及びダミー配線パターンのパターン形成用データは電子部品に対応する部品セルデータとして結合されており、ＣＡＤシステムの部品ライブラリに予め登録されたデータであることを特徴とする。 - 特許庁
  • A printing system capable of laying down the materials in a definite pattern is described further.
    さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR REPRODUCING LIGHTING PATTERN OF FIREFLY, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM
    ホタルの発光パターン再現システム及びその再現方法、並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁
  • A background object is set nearer to the side of the viewpoint than the picture pattern object on the viewpoint coordinate system (T5).
    視点座標系における図柄オブジェクトよりも視点側に背景オブジェクトを設定する（Ｔ５）。 - 特許庁
  • FACE DETECTION METHOD AND SYSTEM USING PATTERN SORTER LEARNED BY FACE/ANALOGOUS FACE IMAGE
    顔／類似顔映像で学習されたパターン分類器を利用した顔検出方法及びシステム - 特許庁
  • The exposure apparatus has a projection optical system OP which projects a pattern of an original 1 on a substrate 11.
    露光装置は、原版１のパターンを基板１１に投影する投影光学系ＰＯを有する。 - 特許庁
  • Further the invention describes a printing system capable of laying down the above materials in a definite pattern.
    さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
  • In the first process, an image pattern 300 is formed on a scheduled focal plane FP of the optical system.
    第１の工程は、光学系の予定焦点面ＦＰに画像パターン３００を形成する。 - 特許庁
  • The indexes are previously determined resting on pattern data formed at the formation of a reticle and given to the exposure system.
    指標はレチクル作成時のパターンデータから予め決定して露光装置に与えられる。 - 特許庁
  • To provide a system and method for detecting and predicting a congestion pattern based on feedback.
    ネットワークフィードバックから輻輳パターンを検出して予測する方法およびシステムを提供すること。 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR SHARING OPERATION PATTERN OF ROBOT DEVICE, AND ROBOT DEVICE
    ロボット装置の動作パターン共有システム、ロボット装置の動作パターン共有方法、及びロボット装置 - 特許庁
  • EXPOSURE APPARATUS, MOVABLE BODY DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMING APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    露光装置、移動体駆動システム、パターン形成装置、及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING CIRCUIT PATTERN, METHOD AND SYSTEM FOR DISPLAYING DEFECT CANDIDATE
    回路パターンの検査方法及びその装置並びに欠陥候補の表示方法及びそのシステム - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR CALIBRATING MULTIPLE CAMERAS WITHOUT EMPLOYING PATTERN BY INTER-IMAGE HOMOGRAPHY
    パターンを利用せずに画像間ホモグラフィによって複数のカメラを校正するためのシステムおよび方法 - 特許庁
  • This transmission function is then input into a model of the lithography system to produce an aerial image of the reticle pattern.
    この透過関数をリソグラフィシステムのモデルに入力し、レチクルパターンの空間像を生成する。 - 特許庁
  • A lithographic device includes a patterning sub-system transferring a pattern from a patterning device to a substrate (W).
    リソグラフィ装置は、パターニングデバイスからパターンを基板（Ｗ）に転写するパターニングサブシステムを備える。 - 特許庁
  • To provide an electron beam lithographic system, capable of preventing decrease in dimensional accuracy, in pattern drawing.
    パターン描画における寸法精度の低下を防止できる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁
  • The system determines if an access request completes a prohibited temporal access pattern for the entity.
    当該システムは、アクセス要求が、エンティティの禁止時間アクセス・パターンを完備するかを判定する。 - 特許庁
  • To provide a CAD system control method having improved efficiency in editing a pattern layout.
    パターンレイアウトの編集作業の効率を向上したＣＡＤシステム制御方法を提供する。 - 特許庁
  • The projection optical system is constituted to form the pattern image of a first object (R) on a second object (W).
    第１物体（Ｒ）のパターン像を第２物体（Ｗ）上に形成する投影光学系。 - 特許庁
  • DATA PROCESS UNIT, DATA PROCESS UNIT CONTROL PROGRAM, DATA PROCESSING METHOD, AND SPECIFIC PATTERN MODEL PROVIDING SYSTEM
    データ処理装置、データ処理装置制御プログラム、データ処理方法及び特定パターンモデル提供システム - 特許庁
  • A background object is set closer to the visual point from the pattern object in the visual coordinate system (T5).
    視点座標系における図柄オブジェクトよりも視点側に背景オブジェクトを設定する（Ｔ５）。 - 特許庁
  • METHOD FOR ASSOCIATING MARKER COORDINATE, METHOD AND SYSTEM FOR ACQUIRING CAMERA PARAMETER AND CALIBRATION PATTERN
    マーカ座標対応付け方法とカメラパラメータ取得方法とカメラパラメータ取得システムとキャリブレーションパターン - 特許庁
  • ECCENTRICITY EVALUATION METHOD, SERVO PATTERN WRITER AND MANUFACTURING SYSTEM FOR MAGNETIC DISK DEVICE
    偏心量評価方法およびサーボパターン書込み装置ならびに磁気ディスク装置の製造システム - 特許庁
  • To reduce the influences of pattern noises in a frequency measuring apparatus of a short-gate time counting system.
    短ゲートタイムカウント方式の周波数測定装置においてパターン雑音の影響を低減する。 - 特許庁
  • The environmental information collecting system registers image data as the image information of the meter, and an identification pattern image in advance.
    メータ等の画像情報としての画像データ、識別パターン画像等を事前登録する。 - 特許庁
  • A printing system capable of laying down the materials in a definite pattern is also described.
    さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
  • To reduce the effect of pattern noise in a frequency measuring device of a short-gate time counting system.
    短ゲートタイムカウント方式の周波数測定装置において、パターン雑音の影響を低減する。 - 特許庁
  • PICTURE PROCESSOR AND PRINTING SYSTEM AND HIDDEN PATTERN EMBEDDING METHOD AND STORAGE MEDIUM RECORDING PROGRAM
    画像処理装置、印刷システム、隠しパターン埋め込み方法及びプログラムを記録した記憶媒体 - 特許庁
  • To provide a cogeneration system wherein an appropriate demand prediction pattern is maintained under a user's initiative.
    適正な需要予測パターンをユーザ主導の下で維持できるコジェネレーションシステムを提供する。 - 特許庁
  • MAP DEFORMATION PATTERN-SHARING DEVICE AND METHOD, AND DEFORMED MAP CREATING DEVICE, SYSTEM AND METHOD
    地図デフォルメパターン共有装置及び方法並びにデフォルメ地図作成装置、システム及び方法 - 特許庁
  • The calculated cross entropy error is utilized to update trainable parameters of the pattern recognition system.
    計算されたクロスエントロピー誤差を利用して、パターン認識システムのトレーニング可能パラメータが更新される。 - 特許庁
  • To provide a circuit forming system which can form a circuit pattern in a substrate with sufficient precision.
    基板に回路パターンを精度よく形成することのできる回路形成システムを提供する。 - 特許庁
  • STORAGE SYSTEM FOR CONTROLLING ASSIGNMENT OF STORAGE AREA TO VIRTUAL VOLUME STORING SPECIFIC PATTERN DATA
    特定パターンデータが格納される仮想ボリュームへの記憶領域の割り当てを制御するストレージシステム - 特許庁
  • ELECTRON ACCELERATOR, PATTERN MEMORY DEVICE USED FOR ELECTRON ACCELERATOR, AND CONTROL SYSTEM FOR ELECTRON ACCELERATOR
    電子加速器、電子加速器に用いられるパタ—ンメモリ装置および電子加速器の制御システム - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR WAFER PRODUCT AND ITS MANUFACTURING/ SALES SYSTEM BY DRAWING PATTERN MADE INTO ELECTRONIC FILE
    半導体ウェハ製品及び電子ファイル化された図柄情報によるその製造販売システム - 特許庁
  • Further, the invention presents a printing system capable of laying down the above material in a definite pattern.
    さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
  • The system operation determining part 7 has a predetermined pattern of sorting ratio 10.
    また、 このシステム稼動判定部７は、予め設定されている振分け比率パターン１０を有している。 - 特許庁
  • The temporal length of this back-off period depends on the quantity of an existing system behavior pattern.
    このバックオフ期間の時間的長さは既知のシステム行動パターンの数量に基づき決まる。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor processing system, which generates an uniform accumulated film by a uniform gas flow pattern.
    均一なガスフローパターンにより均一な堆積フィルムを生じる半導体処理システムを提供する。 - 特許庁
  • CIRCUIT PATTERN CORRECTING SYSTEM, CORRECTING METHOD, AND PROGRAM AND RECORDING MEDIUM FOR METHOD IMPLEMENTATION
    回路パターンの補正装置、補正方法、その方法を実現するためのプログラムおよび記録媒体 - 特許庁
  • This projection optical system reductively projects a pattern on the object surface MS on the image surface W.
    投影光学系は、物体面ＭＳ上のパターンを像面Ｗ上に縮小投影する。 - 特許庁
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