「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 73 74 次へ＞- The light passing the pattern 1a enters the optical system 2 and forms an optical image 3a on its rear focusing plane 3.
レチクル１は、被検光学系２の前側焦点位置に位置するように設置されている。 - 特許庁 - The system control part 15 displays the image corresponding to the magnetic domain pattern data on a display part 13.
システム制御部１５は、前記磁区パターン情報に応じた画像を表示部１３に表示する。 - 特許庁 - To provide a printing system printing a pattern with low level of distortion on an unbacked fabric.
裏紙を当てていない布地にパターンを低レベルのゆがみで印刷する印刷システムを提供する。 - 特許庁 - A display system has a floor surface 2, the color and the pattern of which can be partially changed.
本願の開示する表示システムは、色や模様を部分的に変更できる床面２を有する。 - 特許庁 - To provide an image processor capable of dealing with an image output apparatus different in pattern writing system.
描画方式の異なる画像出力装置に対応可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - Further, a printing system capable of laying down the materials in a definite pattern is described.
さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁 - Each of these part objects is arranged within a world coordinate system to set a long-length pattern object.
これら各部品オブジェクトをワールド座標系内に配置して長尺図柄オブジェクトを設定する。 - 特許庁 - SYSTEM FOR FORMING PATTERN VAPOR DEPOSITION LAYER FROM COMPRESSED FLUID AT DUAL CONTROL VAPOR DEPOSITION CHAMBER
二重制御蒸着室において圧縮流体からパターン蒸着を形成するためのシステム - 特許庁 - The projection aligner projects the pattern of an original edition 1 onto a substrate 2 via a projecting optical system 4.
投影露光装置は、投影光学系４を介して原版１のパターンを基板２に投影する。 - 特許庁 - PRINTER, EJECTION INSPECTING METHOD, PROCESS FOR FORMING EJECTION INSPECTING PATTERN, PROGRAM AND PRINTING SYSTEM
印刷装置、吐出検査方法、吐出検査用パターンの形成方法、プログラムおよび印刷システム - 特許庁 - PRINTER, EJECTION CHECKING METHOD, METHOD FOR FORMING PATTERN FOR EJECTION CHECK, PROGRAM, AND PRINTING SYSTEM
印刷装置、吐出検査方法、吐出検査用パターンの形成方法、プログラムおよび印刷システム - 特許庁 - INFORMATION CONTROL METHOD, INFORMATION CONTROL SYSTEM, PROGRAM, RECORDING MEDIUM, PATTERN TESTER, AND BOARD TESTER
情報管理方法、情報管理システム、プログラム、記録媒体、パターン検査装置及び基板検査装置 - 特許庁 - Those part objects are arranged in a world coordinate system to set an elongated pattern object.
これら各部品オブジェクトをワールド座標系内に配置して長尺図柄オブジェクトを設定する。 - 特許庁 - the people in a society considered as a system organized by a characteristic pattern of relationships
特徴的なパターンの関係によって組織された体系として見なされる社会の人々 - 日本語WordNet - ARRAY ANTENNA FEEDER, ARRAY ANTENNA SYSTEM USING SAME, AND VARIABLE BEAM PATTERN BROADCASTING SATELLITE
アレーアンテナ給電装置及びそれを用いたアレーアンテナシステム並びに可変ビームパターン放送衛星 - 特許庁 - MULTIMEDIA CONFERENCE SYSTEM, APPLICATION SERVER, METHOD AND PROGRAM FOR DETERMINING MIXED PATTERN
マルチメディア会議システム、アプリケーションサーバ、混合パターン決定方法および混合パターン決定用プログラム - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CRYSTAL LAYER, LASER IRRADIATION METHOD, MULTI-PATTERN MASK, AND LASER IRRADIATION SYSTEM
半導体結晶層の製造方法、レーザ照射方法、マルチパターンマスクおよびレーザ照射システム - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR PREPARING WIRING PATTERN AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD
配線パターン作成システム、配線パターン作成方法、その方法をコンピュータに実行させるプログラム - 特許庁 - The projection lens system 2 forms the image of a pattern formed on the reticle R on the wafer W.
投影レンズ系２は、レチクルＲに形成されたパターンの像を、ウエハＷ上に結像する。 - 特許庁 - To provide an interactive client-server authentication system based on Random Partial Pattern Recognition (RPPR) algorithm.
ランダム部分的パターン認識(RPPR)アルゴリズムに基づくインタラクティブなクライアント−サーバ認証システムの提供。 - 特許庁 - EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁 - CAD SYSTEM FOR EDITING SEMICONDUCTOR MASK PATTERN, DESIGNING METHOD USING THE SAME AND RECORDING MEDIUM THEREFOR
半導体マスクパターン編集用のＣＡＤシステム、これを用いた設計方法及びその記録媒体 - 特許庁 - PHOTORESIST EXPOSURE METHOD, RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURE OF TAPE CARRIER, TAPE CARRIER AND EXPOSURE SYSTEM
フォトレジスト露光方法、レジストパターン形成方法、テープキャリアの製造方法、テープキャリア、および露光装置 - 特許庁 - FURNACE PERFECT-COMBUSTIBLE TO WHOLE MOLD CONTAINING RESIN-MADE PATTERN WITH FULL MOLD PROCESS AND CASTING SYSTEM USING THIS MOLD
フルモールドした樹脂製模型を鋳型ごと完全燃焼させる炉とそれを用いた鋳造システム - 特許庁 - The pattern 11 is printed by a multicolor offset printing system using ultraviolet curable type ink.
絵柄11は紫外線硬化型インキを用い、多色オフセット印刷方式によって印刷されている。 - 特許庁 - MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PHOTOMASK FABRICATION SYSTEM, AND IMAGING DEVICE
マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置及びフォトマスク作製システム並びに撮像素子 - 特許庁 - Further, the invention describes a printing system capable of laying down the above materials in a definite pattern.
さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁 - When the operation pattern is registered, the access from the system device 8 to the storage device 5 is permitted.
登録されている操作パターンであれば、システム装置８から記憶装置５へのアクセスを許可する。 - 特許庁 - The respective component objects are arranged inside a world coordinate system and a long-length pattern object is set.
これら各部品オブジェクトをワールド座標系内に配置して長尺図柄オブジェクトを設定する。 - 特許庁 - PRINT METHOD, PRINT METHOD OF PRINT PATTERN, READING METHOD, PRINTER, READER, AND PRINT SYSTEM
印刷方法、印刷パターンの印刷方法、読取方法、印刷装置、読取装置、及び、印刷システム - 特許庁 - To provide an electron beam exposure method using a VSB system and a pattern formation method using the same.
ＶＳＢ方式の電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The embossing system 30 is an apparatus for forming the rugged pattern on the original roll 20 by embossing.
エンボス加工システム３０は、エンボス加工によって原反２０に凹凸柄を形成する装置である。 - 特許庁 - TWO-DIMENSIONAL CODE PATTERN READABLE BY READER, DISPLAY MEDIUM FOR MAP, READING SYSTEM AND READING METHOD
読取装置で読取可能な二次元コードパターン、地図の表示媒体、読取システムおよび読取方法 - 特許庁 - The wiring system first dummy pattern 2a of a first wiring layer, the wiring system second dummy pattern 4a of a second wiring layer, and the dummy pattern 5 of the contact hole which connects the first and the second dummy patterns, are arranged, so that working irregularity on a manufacturing process is reduced.
また、第１配線層の配線系第１ダミーパターン２ａと、第２配線層の配線系第２ダミーパターン４ａと、第１及び第２ダミーパターンを接続するコンタクトホールのダミーパターン５を配置し、製造プロセス上での加工ばらつきを低減する。 - 特許庁 - The protective system is in contact with the mask at the location other than the pattern surface, and is connected to a holder 110 to have a space SP between the pattern surface and itself via the contact, and has a cover 120 for protecting the pattern surface.
保護機構はパターン面以外でマスクと接触し、接触部を介してパターン面との間で空間ＳＰを有するように保持部１１０と接続し、パターン面を保護するカバー部１２０を有する。 - 特許庁 - Next, a 2nd pattern part area formed in the pattern area is positioned with respect to the optical system 16 and its pattern is exposed to a 2nd unit exposure area adjacent to the 1st unit exposure area.
次いで、パターン領域に形成された第２パターン部分領域を投影光学系に対して位置決めし、そのパターンを第１単位露光領域と隣り合う第２単位露光領域に露光する。 - 特許庁 - A first sensor pattern and a second pattern which respectively receive the projected image of each reticle pattern RP1 and RP2 through a projecting optical system 11 are arranged on a reference plate 36 of a wafer stage 23.
ウエハステージ２３の基準板３６上に、前記各レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影光学系１１を介した投影像に各別に受光する第１センサパターン及び第２センサパターンを設ける。 - 特許庁 - To provide a semiconductor pattern evaluation system wherein a means which obtains three-dimensional form information of a pattern by not-destroying style is realized and relation between the three-dimensional form information of the pattern and device property is evaluated.
パターンの立体形状情報を非破壊で得る手段を実現し、これらパターンの立体形状情報とデバイス特性の関係を評価する半導体パターン評価システムを提供する。 - 特許庁 - A graphic pattern to be included in a divided region 72 is transferred to a resist layer 74 via a mask 73 by using a pattern transfer method of an optical contact-less system to form a latent image 75b of the graphic pattern.
光学的非接触方式のパタン転写方法を用いて、分割領域７２に含まれる図形パタンをマスク７３を介してレジスト層７４に転写し、図形パタンの潜像７５ｂを形成する。 - 特許庁 - An illumination optical system 70 irradiates a substrate W with light for pattern exposure via the mask M, and exposure-transfers the line-like pattern 84 corresponding to the main pattern part 81, on the substrate W.
照明光学系７０が基板Ｗに対してパターン露光用の光をマスクＭを介して照射し、基板Ｗに主パターン部８１に対応するライン状のパターン８４を露光転写する。 - 特許庁 - The automatic modeling device retrieves a shape pattern that agrees with the shape pattern name of the list 101, sets the dimensional parameter value and the location parameter value to a data file having the same shape as the shape pattern and outputs this pattern (103) as a three-dimensional solid model by using a CAD system.
自動モデリング装置では入力表の形状パターン名と一致する形状パターンを検索し、形状パターン同形データファイルに寸法パラメータ値、配置パラメータ値を設定し、ＣＡＤシステムにより三次元ソリッドモデルとしてアウトプットする１０３。 - 特許庁 - This device is provided with a pattern generating means 14 that generates an image signal of the interlace system denoting a convergence adjustment pattern and in the case of displaying the adjustment pattern on a display device, the convergence adjustment pattern is displayed at a prescribed position only.
コンバーゼンス調整用パターンを表わすインターレース方式の画像信号を発生するパターン発生手段（１４）を備え、この調整用パターンを表示装置に表示させるに当たり、一定の位置にのみコンバーゼンス調整用パターンを表示させる。 - 特許庁 - The invention provides external device transmitting system along with a high pattern processor having internal function bus, a method for sending a command to an external device transmitting system, and a high speed pattern processor employing the system and method.
本発明は、内部関数バスを持つ高速パターンプロセッサと共に用いる外部デバイス伝送システム、外部デバイス伝送システムにコマンドを送信するための方法、およびこのシステムおよび方法を採用する高速パターンプロセッサを提供する。 - 特許庁 - When the lighting pattern of sub-field pair applying a simultaneous scanning system is a specific pattern, both lighting patterns of the sub-field pair are converted to the prescribed lightening patterns, the dither system and the frame modulation system are applied and displayed.
同時スキャン方式を適用するサブフィールド対の点灯パターンが特定パターンである場合に、サブフィールド対の双方の点灯パターンを所定の点灯パターンに変換し、ディザ方式と前記フレーム変調方式とを適用して表示する。 - 特許庁 - To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.
反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a test pattern forming system, where the test pattern can be immediately used for the simulation by carrying out simulation, in an environment which approximates actual operation.
実際の運用に近い環境でのシミュレーションを行い、シミュレーションのテストパターンとしてすぐに使用可能なテストパターン作成システムを提供する。 - 特許庁 - The transmitted light optical system projects for example an intermediate image of a second pattern as an image inverted in a prescribed direction to an intermediate image of a first pattern.
送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 - 特許庁 - The plurality of stripe patterns projected by the projection system are inclination pattern light where each has concentration gradient and are composed by the multivalue pattern.
投光系にて投射される複数のストライプパターンは、それぞれが濃度勾配を持った傾斜パターン光であり、かつ多値のパターンにより構成される。 - 特許庁 - It is recommended that an identification system have a configuration, by which the moire pattern of the photographed moire interference fringes is binarized and the object be identified by a pattern obtained by the binarization.
撮影したモアレ干渉縞のモアレパターンを、２値化処理し、これにより得られたパターンにより物体を識別するよう構成することが推奨される。 - 特許庁 - MOVING BODY SYSTEM AND MOVING BODY DRIVING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE METHOD FOR MANUFACTURING
移動体システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
