「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 73 74 次へ＞- Also, the terminal section comprises one pattern piece 34, and the water leakage detecting system is constituted in such a manner that a water leaking state is detected by the variation of a resistance value in the feeding of power to the pattern piece.
または、端子部は、１つのパターン片３４からなり、このパターン片に対する通電の抵抗値の変化により水濡れ状態を検知する構成とする。 - 特許庁 - To provide a substrate-evaluating system and a substrate-evaluating method that can simply and quickly conform the presence or absence of the pattern falling of a resist pattern in development treatment.
現像処理時におけるレジストパターンのパターン倒れの存否の確認を簡易かつ迅速に行うことができる基板評価システム及び基板評価方法を提供すること。 - 特許庁 - PN PATTERN TRANSMITTER AND ITS METHOD, PN PATTERN RECEIVER AND ITS METHOD, AND TRANSMISSION PATH BIT ERROR MEASURING SYSTEM AND ITS METHOD
ＰＮパターン送信装置、ＰＮパターン受信装置及び伝送路ビット誤り測定システム、ＰＮパターン送信方法、ＰＮパターン受信方法及び伝送路ビット誤り測定方法 - 特許庁 - To provide a disk storage device capable of applying burst signals reproduced from a spiral servo pattern to a head position error computing system based on a radial servo pattern.
スパイラルサーボパターンから再生されるバースト信号を、放射状サーボパターンに基づいたヘッドの位置誤差演算方式に適用できるディスク記憶装置を提供することにある。 - 特許庁 - The BIST system 100 includes a demodulator 136 having a BIST pattern generator 137 that injects a BIST pattern to a data stream of a communication satellite 130.
ＢＩＳＴシステム１００は、通信衛星１３０のデータ・ストリームにＢＩＳＴパターンを注入するＢＩＳＴパターン発生器１３７を有する復調器１３６を含む。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition which can form a resist pattern good in shape and is preferable for use in manufacturing a system LCD, and provide a method for forming the resist pattern.
形状の良好なレジストパターンを形成でき、システムＬＣＤ製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In this traffic information management system, the pattern of the traveling required time of an automobile(moving object) x on a route L_i is recognized by a pattern recognition unit 11.
本発明の交通情報管理システムによれば、パターン認識ユニット１１により経路Ｌ_ｉ における自動車（移動体）ｘの移動所要時間のパターンが認識される。 - 特許庁 - An analog signal pattern 28 connecting the analog system terminals 16a and 20a and a digital signal pattern 32 connecting the digital system terminal 22a and a digital signal processing circuit 30 are formed, and ground patterns 34 and 36 are formed.
アナログ系端子１６ａ，２０ａを結ぶアナログ信号用パターン２８と、デジタル系端子２２ａとデジタル信号処理回路３０とを結ぶデジタル信号用パターン３２を形成し、さらにグランドパターン３４，３６を形成する。 - 特許庁 - To provide a phased array antenna system having sum pattern and difference pattern and a power synthesizing method therefor, with which the number of phase shifters capable of adjusting a phase shift quantity can be decreased in comparison with a conventional system.
移相量を調整可能な移相器の数を従来の方式に比べて減ずることができる和パターンと差パターンを有するフェーズドアレーアンテナシステムとその電力合成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a system and a method that can be used to substantially reduce or eliminate the slipping of a pattern generator to a stage system that controls the position of the pattern generator during a scanning exposure process.
スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。 - 特許庁 - The exposure system 10 has a CAD/CAM system 16 which designs a via hole of a substrate 12 and a pattern covering the via hole and determines their arrangement positions, and sends pattern information 26 and via hole information 28 as digital data.
露光システム１０は、基板１２のビアホールと、ビアホールを覆うパターンと、を設計して配置位置を決定し、デジタルデータとしてパターン情報２６及びビアホール情報２８を送信するＣＡＤ／ＣＡＭシステム１６を有する。 - 特許庁 - The lithographic device includes the radiation source that generates the radiation, an illuminating system that adjusts the radiation, a pattern giving device that gives a pattern to the adjusted radiation, and a projection system that projects the pattern given radiation onto the targeted section of a substrate.
本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁 - The microscopic inspection apparatus for cataract operation comprises a microscopic inspection optical system and a pattern developer, wherein the microscopic inspection optical system forms an image showing the flat surface of an object and the pattern developer forms a pattern for overlapping on the image.
白内障手術用顕微鏡検査装置は、顕微鏡検査光学系とパターン発生器とを含み、前記顕微鏡検査光学系は、前記顕微鏡検査光学系の物体平面の像を形成し、前記パターン発生器は、前記像に重畳されるパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide an antenna system which controls a radiation pattern within a perpendicular plane even in a low elevating angle direction, a radiation pattern within a horizontal plane, and also a radiation pattern within the vertical plane at the same time, and also to provide communication terminal equipment provided with the antenna system.
垂直面内の放射パターンをより低仰角方向へも制御できるようにし、また、水平面内の放射パターンを制御するとともに垂直面内の放射パターンを同時に制御できるようにしたアンテナ装置およびそれを備えた通信端末装置を構成する。 - 特許庁 - To provide a self-evolution type pattern recognition system for efficiently executing the processing of pattern recognition with a high recognition rate by developing system configurations like self-evolution by integrally controlling the processing in a feature extracting part and processing in a pattern recognizing part.
特徴抽出部での処理及びパターン認識部での処理を統括的に制御してシステム構成を自己進化的に発展させることにより、パターン認識の処理を高い認識率でかつ効率的に行うことができる自己進化型パターン認識システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a coated building plate not largely impairing a coating appearance even if a coating position of a colored pattern is slightly deviated relative to a recession/projection pattern in the coated building plate in which the colored pattern is formed by an ink jet system while synchronizing it to the recession/projection pattern of a building plate.
建築板の凹凸模様に同調させて色柄模様をインクジェット方式で塗装した塗装建築板において、凹凸模様に対して色柄模様の塗装位置が多少ずれていても、塗装外観が大きく損なわれることがない塗装建築板を提供する。 - 特許庁 - The system acquires two or more synthetic light emission integration images while changing an end test pattern address, and carries out comparison of synthetic light emission integration images on good and defective semiconductor devices in an ascending order of the end test pattern addresses, i.e., in ascending order of the end test pattern addresses close to the starting test pattern address.
終了テストパターンアドレスを変化させながら複数の合成発光積分画像を取得し、終了テストパターンアドレスが小さい順、すなわち開始テストパターンアドレスに近い終了テストパターンアドレスから順に良品および不良品半導体装置の合成発光積分画像の比較を行う。 - 特許庁 - The system for evaluating the hole pattern shape comprises a means for shifting the center of a hole pattern to the center of polar coordinate development, and means for forming a two-dimensional image where the radial coordinate axis and the angular coordinate axis of the hole pattern are one-dimensional by performing polar coordinate development of a hole pattern image about one point thereof.
極座標展開中心へ、ホールパターンの中心を移動させる手段と、ホールパターン像の一点を中心として極座標展開し、ホールパターンの半径方向の座標軸と角度座標軸をそれぞれ一次元とする二次元画像を形成する手段とを備える。 - 特許庁 - This virtual biological system to which pattern information is inputted from a plurality of types of signal sources and which recognizes the pattern information and updates an internal state on the basis of the recognition results, has a pattern leaning means which learns the inputted pattern when the internal state meets a prescribed condition.
複数種類の信号源からパタン情報を入力され、それらのパタン情報を認識し、その識結果に基づいて内部状態を更新する仮想生物システムにおいて、内部状態が所定の条件を満たすときに、前記入力パタンを学習するパタン学習手段を有する。 - 特許庁 - A process for forming an electric conductor pattern on a surface of a glass plate is provided which comprises forming a pattern of the toner on the surface of the glass plate by an electronic printing system using the developer for electronic printing, and heating the glass plate to a predetermined temperature to convert the pattern of the toner by firing to a pattern of an electric conductor.
該電子印刷用現像剤を使用し、ガラス板面に電子印刷方式で該トナーからなるパターンを形成した後、ガラス板を所定温度に加熱することにより前記トナーパターンを焼成して導電体パターンに変換する導電体パターンをガラス板面に形成する方法。 - 特許庁 - To provide a pattern variable display system of a game machine capable of dissolving obscurity of the ending time to display a display pattern variation cycle perfectly when a game ball passes a starting area to start the variation cycle of a display pattern of a pattern display device.
遊技球が始動領域を通過して図柄表示装置の表示図柄の変動サイクルが開始したとき、その終了時点が不明瞭であるのを解消し、表示図柄変動サイクルを一目瞭然に表示する遊技機の図柄変動表示方式を提供すること。 - 特許庁 - The same set attribute pattern as an operation attribute pattern comprising a combination of attribute parameters for use during the operation of the energy supply system is selected and each of the energy supply devices is controlled to start or stop according to the start/stop pattern that corresponds to the set attribute pattern selected.
そして、エネルギー供給システムの運転時における属性パラメータの組み合わせからなる運転時属性パターンと同一の設定属性パターンを選択し、この選択した設定属性パターンに対応する発停パターンにしたがって各エネルギー供給機器の発停を制御する。 - 特許庁 - The pattern manufacturing system comprises imaging a plurality of kinds of copper thicknesses of test substrates forming a test pattern including the pattern lines of various line widths by an image recognizing means 60, and preparing a correction table indicating corresponding relationship of the copper thickness, the line width and an exposure correction amount by really measuring the line width of the pattern line.
様々な線幅のパターン線を含むテストパターンが形成された複数種類の銅厚のテスト基板を画像認識手段６０により撮像し、パターン線の線幅を実測して銅厚、線幅、及び露光補正量の対応関係を示す補正テーブルを作成する。 - 特許庁 - The method includes: controlling an emission beam; imparting a pattern to the emission beam by a reticle having a pattern image area and a reticle mark so as to form an emission beam with the pattern; and projecting the emission beam with the pattern on a target part of a substrate through a projection system.
方法は、放射ビームを調節すること、パターン付き放射ビームを形成するためにパターン像領域及びレチクルマークを有するレチクルによって放射ビームにパターンを与えること、及び、投影システムによってパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影することを含む。 - 特許庁 - The system includes a transmission pattern storage part 7 for storing information of a transmission pattern of a signal, and a signal kind determination part 6 for determining the kind of the signal based on the information of the transmission pattern stored in the transmission pattern storage part 7 after receiving each signal by regarding it entirely as the same kind of signal.
信号の送信パターンの情報を記憶する送信パターン記憶部７と、信号を全て同種類の信号とみなして受信した後、送信パターン記憶部７に記憶されている送信パターンの情報に基づき、信号の種類を判定する信号種類判定部６とを備える。 - 特許庁 - To provide an edge blending device which can easily carry out a switching of a light shielding pattern corresponding to a change in a pattern of an overlap area in which projection lights projected from projection units overlap each other and to provide a multi-projection system which can quickly set a light shielding pattern corresponding to a pattern of an overlap area.
投写部からの投写光が重なり合う重複領域のパターンの変化に対応した遮光パターンの切り替えを容易に行えるエッジブレンディング装置、および重複領域のパターンに対応した遮光パターンを素早く設定することができるマルチプロジェクションシステムを提供する。 - 特許庁 - When executing the game program, the game processing part 21 requests a system operation disabling function 11-2 to disable the system operation execution function 11-3 from performing the system operation based on the motion pattern.
そこで、ゲーム処理部２１は、ゲームプログラム実行の際、システム動作抑止機能１１−２に要求して、システム動作実行機能１１−３の動きパターンに起因するシステム動作を抑止する。 - 特許庁 - To provide an optical pickup for implementing a tracking control system substituting a DPP system by using a general purpose light receiving pattern used when performing tracking control by using the DPP system.
ＤＰＰ法を用いたトラッキング制御を行う際に使用される汎用の受光パターンを使用して、ＤＰＰ法に代わるトラッキング制御方式を実現できる光ピックアップを提供する。 - 特許庁 - A user trying to develop a system connects his (or her) own terminal to a network having an automatic business system generation server and specifies a business pattern (e.g. a customer consultation window system) to be prepared (S101).
システムの開発を行なう者は、業務システム自動生成サーバのあるネットワークに接続し、作成したい業務パターン（たとえば顧客相談窓口システム）を指定する（Ｓ１０１）。 - 特許庁 - The lithography system includes an illumination system for providing a radiation beam, a support for supporting a pattern forming device, a substrate table, and a projection system.
本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系、パターン形成装置を支持するように構成された支持体、基板テーブル及び投影システムを含む。 - 特許庁 - A system developer makes a connection to a network having an automatic business system creation server and designates a business pattern (e.g. customer advice counter system) which he or she wants to create (S101).
システムの開発を行なう者は、業務システム自動生成サーバのあるネットワークに接続し、作成したい業務パターン（たとえば顧客相談窓口システム）を指定する（Ｓ１０１）。 - 特許庁 - The image of the pattern of a reticle is projected on a wafer W via a projection optical system, composed of a first image-forming optical system K1 and a second image-forming optical system K2, consisting of a catadioptric system.
レチクルＲのパターンの像を、屈折系よりなる第１結像光学系Ｋ１と、反射屈折系よりなる第２結像光学系Ｋ２とから構成される投影光学系を介してウエハＷ上に投影する。 - 特許庁 - The lithography system includes an illumination system for providing projection beams, a mask table for supporting a mask that gives a pattern to the cross-section of the projection beams, a substrate table that holds the substrate, and a projection system that projects the pattern-formed beams to the target portion of the substrate.
投影ビームを提供する照明システムと、投影ビームの断面にパターンを与えるマスクを支持するマスクテーブルと、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含むリソグラフィシステムに関する。 - 特許庁 - To provide a data communication system having a simple and inexpensive configuration and higher confidentiality than that of the conventional systems by enhancing a unique word(UW) pattern control system.
ユニークワード（ＵＷ）パターン制御方式を改良することにより、簡単かつ安価な構成で従来よりも秘匿性の高いデータ通信システムを提供する。 - 特許庁 - After a logical partition is created in a storage system, the storage system is made to change the resource allotment to the logical partition on the basis of a predetermined pattern.
ストレージシステムにおいて論理区画を作成した後、ストレージシステムが、所定のパターンに基づいて、論理区画への資源割当を変更するようにする。 - 特許庁 - The system is characterized in that a microlens pattern that concentrates the light is disposed at the bottom of a color filter array that colorizes the light incident from the outside of the system.
本発明は外部から入射した光をカラー化するカラーフィルターアレイの底に光を集光するマイクロレンズパターンを配置したことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a reflection type projection optical system which can project an image of a desired pattern at a desired magnification with the high accuracy, and an exposure system using the same.
所望のパターンの像を所望の倍率で高精度に投影することが可能な反射型投影光学系、及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁 - This lithographic apparatus further includes a projection system configured so as to project a pattern-formed beam on a target portion of the substrate, and a liquid supplying system.
このリソグラフィ装置はさらに、パターン形成されたビームを基板の標的部分に投影するように構成された投影系と、給液系とを含む。 - 特許庁 - An exposure apparatus exposes a substrate by projecting a pattern of the original onto the substrate by a projection optical system after illuminating the original by an illumination optical system.
露光装置は、照明光学系によって原版を照明し該原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。 - 特許庁 - A test communication performing part 26 refers to the transmission system selection table and creates a test telegraphic message according to the transmission system included in each transmission pattern.
テスト通信実行部２６は、伝送方式選択テーブルを参照し、各送信パターンに含まれる伝送方式に従ってテスト電文を作成する。 - 特許庁 - The system further comprises an image-processing system (26) that is operable to capture an image (20) of the fringe pattern modulated by the object (12).
このシステムはさらに、物体（１２）によって変調された干渉縞パターンの画像（２０）を取得するように動作可能な画像処理システム（２６）を備える。 - 特許庁 - BANK ACCOUNT TRANSACTION SYSTEM AND BANK ACCOUNT TRANSACTION METHOD FOR ALIGNING NUMBER OF DEPOSIT BALANCE IN PREDETERMINED PATTERN
預金残高の数字を所定のパターンに整列させる銀行口座取引システム、及び銀行口座取引方法 - 特許庁 - The image of a pattern is projected, by exposure light, to a substrate 112 through the optical element of a projection optical system 114.
露光光によりパターンの像を投影光学系１１４の光学素子を介して基板１１２に投影する。 - 特許庁 - The collimated optical pattern is so reflected as to be substantially parallel to the optical axis of an image pick-up system 200.
コリメートされた光パターンは、実質的に撮像システム２００の光軸と平行になるように反射される。 - 特許庁 - The exposure device transfers a pattern formed on an original plate 2 through a projection optical system 5 to a substrate 8.
原版２に形成されたパターンを投影光学系５を介して基板８に転写する露光装置に関する。 - 特許庁 - METHOD, SYSTEM AND COMPUTER READABLE RECORD MEDIUM FOR REFINING WEB DOCUMENT USING TEXT PATTERN EXTRACTION
テキストパターン抽出を用いてＷｅｂ文書をリファインするための方法、システム及びコンピュータ読み出し可能記録媒体 - 特許庁 - To provide a method, a system and a computer program product for evaluating an evaluated pattern of a mask.
マスクの評価すべきパターンを評価するための効率的な方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供する。 - 特許庁 - Further, the optical system unit U1 forming a light-irradiation pattern with a cutoff line can make aiming adjustment.
又、カットオフラインを有する光照射パターンを形成する光学系ユニットＵ１をエイミング調整可能とする。 - 特許庁 - The exercise pattern selection system selects either one of a plurality of musical instrument types according to the operation of the user.
運動パターン選択システムは、ユーザの操作に応じて複数種類の楽器種別のうちいずれかを選択する。 - 特許庁 - To provide a system and a method for reducing noise in a pattern recognition signal by accurately estimating the noise.
雑音を正確に推定してパターン認識信号中の雑音を低減するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
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