「pattern system」を含む例文一覧(3675)

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  • A pattern drawn on the surface of a master disk 4 in a vacuum environment is projected to a wafer by a projection optical system, and at least a substrate of the master disk and the substrate is relatively moved to the projection optical system by a stage device, thereby repeatedly exposing the pattern of the master disk 4 to the substrate.
    真空環境下で原盤４の面に描かれたパターンを投影光学系を介してウエハに投影し、該投影光学系に対し該原盤と基板のうちの少なくとも基板をステージ装置により相対的に移動させることにより、原盤４のパターンを基板に繰り返し露光する。 - 特許庁
  • Separately from the connection of the electronic component 14 for power to the circuit pattern 3 for the lead frame 1, the electronic component 21 for control can be connected to the wiring pattern 24 of the control substrate 22, thus independently and separately assembling the power system block section 11 and the control system block section 21.
    リードフレーム１の回路パターン３に電力用電子部品14を接続するのとは別に、制御基板22の配線パターン24に制御用電子部品21を接続することができるので、電力系ブロック部11と制御系ブロック部21を独立して別々に組立てることが可能になる。 - 特許庁
  • The exposure device has a projection optical system which projects a specific pattern on the body to be processed and the projection optical system has a lens which has three projection parts and projects the pattern and a lens holding member which supports the lens at three points through the projection parts.
    所定のパターンを被処理体上に投影する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影光学系は、３つの凸部を有して前記パターンを投影するするレンズと、当該レンズを前記凸部を介して３点支持するレンズ保持部材とを有する。 - 特許庁
  • The memory write and read control circuits 73, 75 are capable of acquiring pattern writing system information 71 of the image output units 76, 77, and control the writing and reading systems in/from the image memory 74, based on the pattern writing system information 71.
    メモリ書込制御回路７３およびメモリ読出制御回路７５は、画像出力装置７６，７７の描画方式情報７１を取得することが可能となっており、この描画方式情報７１に基づいて画像メモリ７４への書込方式および読出方式を制御することができる。 - 特許庁
  • The light module (10) includes a light source (12), a primary optical system (18) for converging light, a secondary optical system (20) for projecting the converged light on a road surface as a light distribution pattern (202), and a shield unit (26) which is arranged in an optical path between the primary optical system (18) and the secondary optical system (20).
    ライトモジュール（１０）は、光源（１２）と、光を集光する一次光学系（１８）と、集光された光を配光パターン（２０２）として路面に投光するための二次光学系（２０）と、一次光学系（１８）と二次光学系（２０）との間の光路に配置されたシールドユニット（２６）とを含む。 - 特許庁
  • To provide a virtual 3D body preparation system capable of easily obtaining 3D body data adapted to a customer's figure at a low cost even when a 3D scanner system is not installed in each store and to provide an order made pattern preparation system provided with the virtual 3D body preparation system.
    ３Ｄスキャナシステムを各店舗毎に設置しなくても顧客の体型に即した３Ｄボディデータを安価にかつ簡単に得ることができるバーチャル３Ｄボディ作成システム、及びそのバーチャル３Ｄボディ作成システムを備えるオーダーメイド用型紙作成システムを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a system for installing such a game application as to inhibit multiple times of execution of the same pattern while making it hard for a system operator to grasp the circulation of values within the whole system in an IC card system having highly advanced information storage capacity and capable of realizing high security.
    高度な情報記憶能力を持ち、高いセキュリティを実現できるＩＣカードシステムにおいて、同じパターンの複数回実行が不可能で、システム運用者がシステム全体の中での価値の流通の把握が困難であるような、ゲームアプリケーションを搭載するための方式を提供する。 - 特許庁
  • In a fourth processing step, coatings 29, 31 covering the initial surface pattern are applied, especially by a sputtering method, preferably as an alternating layer system.
    第４処理ステップにて、初期表面パターンを覆うコーティング２９、３１を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用。 - 特許庁
  • Each signal pattern is generated by inputting an output from a counter for successively counting up code bits to the encoder of a prescribed encoding system.
    前記信号パタンは、符号ビットを順次カウントアップするカウンタの出力を所定の符号化方式の符号化器に入力して生成する。 - 特許庁
  • An EUV light radiated from a light source passes through an illumination optical system and is inputted onto a device pattern 21 on a reflection mask 8 from a tilted direction.
    光源部から照射されたＥＵＶ光は、照明光学系を経て、反射型マスク８上のデバイスパターン２１に斜めに入射する。 - 特許庁
  • To provide an immersion multiple exposure method capable of reducing pattern defects in executing multiple exposure; and an immersion exposure system.
    多重露光を行う際にパターン欠陥を低減できる液浸多重露光方法及び液浸露光システムを提供することを目的としている。 - 特許庁
  • To provide a servo write system for generating and recording correction data which compensate the synchronous vibrations by the write error of a servo pattern in a short time.
    サーボパターンの書込み誤差による同期振動を補償する補正データを短時間で生成して記録するサーボライト方式を提供する。 - 特許庁
  • In a radio communication system consisting of a plurality of base stations, each base station has a specified antenna pattern according to an instruction from a control station.
    複数の基地局からなる無線通信システムにおいて、それぞれの基地局は制御局からの指示に従いアンテナパターンが指定されている。 - 特許庁
  • A preferred embodiment in an ArF excimer laser system is configured as a MOPA (Master Oscillator Power Amplifier) and specifically designed for use as a light source for integrated-circuit pattern lithography.
    好適な実施形態は、MOPAとして構成され、特に集積回路パターン転写用の光源用として設計されたArFエキシマレーザシステムである。 - 特許庁
  • A projection optical system 150 of a projector 100 projects a pattern image MI for measurement which includes a measurement line LM1 onto a projection screen SC.
    プロジェクタ１００の投写光学系１５０は、測定線ＬＭ１を有する測定用パターン画像ＭＩを、投写スクリーンＳＣに投写する。 - 特許庁
  • Here, an amount of the extension of the sub-scanning length of the reference color pattern is the maximum value of the sub-scanning displacement between two colors considered as a system.
    ここで、基準色パターンの副走査長さ延長量は、システムとして見込まれる２色間の副走査位置ずれの最大値とした。 - 特許庁
  • To establish a security system of an image forming device by using personal identification function by recognizing a fingerprint a vein pattern of the back of the hand.
    指紋及び手の甲の静脈パターンの認識による個人識別機能を用いて、画像形成装置のセキュリティシステムを確立すること。 - 特許庁
  • The respiratory physiological model adjusts the simulated respiratory pattern of the respiratory system at least partially based on a treatment administered to a patient simulator.
    呼吸生理的モデルは、少なくとも部分的に、患者シミュレータに与えられた治療に基づき、呼吸システムの呼吸パターンを調整する。 - 特許庁
  • METHOD OF OPTIMIZING LOADING PATTERN IN VEHICLE TRANSPORTATION SYSTEM AND BASE SERVER FOR THE SAME AND MEMORY MEDIUM RECORDED WITH PROGRAM FOR THE SAME
    車両輸送システムにおける積載パターンの最適化方法ならびにその拠点サーバ、および同方法がプログラムされ記録された記憶媒体 - 特許庁
  • This interferometer system is provided with a beam production mechanism, a beam reflecting mirror, and a sensing device for detecting interference pattern of overlapped reflection beam.
    干渉計装置は、ビーム生成機構、ビーム反射鏡、および重複する反射ビームの干渉パターンを検出する検出デバイスを有する。 - 特許庁
  • To execute appropriate pulse width modulation according to irregularity of an element or a driving system in case of executing pulse width modulation according to a digital data pattern.
    デジタルデータのパターンによるパルス幅変調を行う場合において、素子或いは駆動系のバラツキに応じて、適切なパルス幅変調を行う。 - 特許庁
  • This position measurement system is provided with a plurality of concentric circle pattern projection devices 3a, 3b and 3c in the neighborhood of a display 2 of a computer (PC) 1.
    本位置計測システムは、コンピュータ（ＰＣ）１のディスプレイ２の近傍に複数の同心円模様投影装置３ａ，３ｂ，３ｃを備える。 - 特許庁
  • Therefore, the transfer of the pattern onto the wafer (substrate) substantially free of defocusing can be actualized without always providing a focus position detection system etc.
    従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 - 特許庁
  • When a part to be image-processed is extracted from an input image by template matching in a pattern matching system 220, a moderate template is used.
    パターンマッチングシステム２２０にて、入力画像からテンプレートマッチングにより画像処理対象部分を抽出する際、緩和テンプレートを用いる。 - 特許庁
  • To provide a basic frequency pattern generation system which is robuster and is richer in expression than heretofore, is conspicuous in intonation, and is more natural.
    従来と比べて頑健かつ表現豊かであり抑揚の際立ったより自然な基本周波数パターン生成装置を提供すること。 - 特許庁
  • The motor is used to move a stage, and the stage supports an optical system for forming the pattern of a reticle on an object in an aligner.
    モータは、ステージの移動に用いられ、そのステージは、露光装置において、レチクルのパターンの像を物体に形成するための光学系を支持する。 - 特許庁
  • This reproduction system slices out each of the contents, based on the pattern of predetermined slicing for which at least reproduction time is set, and reproduces it continuously.
    本発明は、少なくとも再生時間が設定された所定の切り出しのパターンに基づいて、各コンテンツを切り出して連続して再生する。 - 特許庁
  • To provide a method for exposing a substrate by which a high precision and high resolution pattern of a photosensitive resin layer can be formed, and to provide an exposure system.
    高精度かつ高解像度の感光性樹脂層パターンの形成を可能にする基板露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁
  • SHEET WITH ELECTROSTATIC ELIMINATING FUNCTION, SHEET ELECTROSTATIC ELIMINATING SYSTEM, AND SIMULTANEOUS PATTERN-FORMING METHOD, PRINTING METHOD AND EVAPORATION METHOD USING SHEET WITH ELECTROSTATIC ELIMINATING FUNCTION
    除電機能付きシート、シート除電システム、並びに、除電機能付きシートを使用する絵柄同時成形方法、印刷方法、及び、蒸着方法 - 特許庁
  • A respiratory system including a pair of lungs is positioned within a patient body having simulated body portions to simulate a respiratory pattern.
    シミュレートされた本体を有する患者本体に、一対の肺を含む呼吸システムが患者本体内に位置決めされ、呼吸パターンをシミュレートする。 - 特許庁
  • An electron-beam exposure system is focused while the stepped pattern 11 is irradiated with a drawing electron beam and the secondary-electron image of the edge 15 is observed.
    電子線描画のフォーカス合わせを、段差状パターン１１に描画電子ビームを当ててエッジ１５の二次電子像を観察しながら行う。 - 特許庁
  • To provide a pattern drawing apparatus capable of performing high accuracy exposure drawing in which the amount of light can be changed properly in an irradiation optical system.
    照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁
  • The pattern in which low-pressure system advances to the east in the vicinity of the baiu front which is stationary in the south Japan Sea tends to cause torrential rain on the Japan Sea side.
    日本海側で豪雨になりやすいのが、日本海南部に停滞する梅雨前線付近を低気圧が東に進むパターンである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • An electronic form system 9 opens the main form 11, selects a business pattern, and records the concerned entry form information in a common information file 13.
    電子フォームシステム９は、メインフォーム１１を開き、業務のパターンを選択し、該当記入フォーム情報を共通情報ファイル１３に記録する。 - 特許庁
  • A resist pattern 7 is irradiated with VUV light 9 radiated from a light source 10 through a unit image formation optical system 11 and the mask 8.
    光源１０から放射されたＶＵＶ光９は、等倍結像光学系１１およびマスク８を介してレジストパターン７を照射する。 - 特許庁
  • To provide a program, an information storage medium, a terminal device, a display system, and the like which realize switching of predetermined pattern images with a simple operation.
    所定のパターン画像の切り替えを簡単な操作で実現するプログラム、情報記憶媒体、端末装置、及び表示システム等を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image processing system, with which a pattern can be plotted easily to watch on a background picture almost without loading burden to a CPU.
    ＣＰＵに殆ど負担をかけることなく背景画面上にパターンを見やすく描画することができる画像処理システムを提供する。 - 特許庁
  • To make readable a hologram pattern representing information even in an image pickup system whose exposure time is relatively long and also to make readable it regardless of the carrying direction.
    情報を表すホログラムパターンを露光時間が比較的長い撮像系であっても読み取り、また、搬送方向に関係なく読み取る。 - 特許庁
  • To provide a lighting control device and a lighting control system capable of easily and surely identifying a pattern data in the course of light control.
    点灯制御中のパターンデータを容易且つ確実に特定することができる点灯制御装置及び点灯制御システムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern writing system in which an intermediate quantity of light can be utilized without performing control using the intermediate value of a voltage being applied to each micromirror.
    各マイクロミラーに印加する電圧の中間値を用いて制御せずに、中間光量を利用できるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁
  • To detect a focusing position of a projection optical system in an aligner which projects and transfers the pattern of a reflection type original plate to a substrate.
    反射型原板のパターンを基板に投影し転写する露光装置において、投影光学系の焦点位置の検出を可能にする。 - 特許庁
  • According to the generated speed pattern, a servo motor 7 is driven to move a controlled system 1, thereby detecting the displacement of vibration in positioning and stopping.
    生成された速度パターンに応じてサーボ・モータ７を駆動、制御対象１を移動して位置決め、停止時の振動の変位を検出する。 - 特許庁
  • A mask M is illuminated with linearly polarized illumination light to transfer a pattern of the mask M onto a wafer W through a projection optical system PL.
    直線偏光の照明光でマスクＭを照明し、マスクＭのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁
  • The execution of the modulation by the small vibrational amplitude can stabilize the vibration pattern of the vibrating plate and consequently stabilize a test system.
    また小振幅による変調を実行することによって、振動板の振動パターンを安定化でき、ひいては試験系を安定化し得る。 - 特許庁
  • Then, the terminal section comprises two or more pattern pieces 34A and 34B, and the water leakage detecting system is constituted in such a manner that a water leaking state is detected when the terminal sections are turned on.
    そして、端子部は、２以上のパターン片３４Ａ，３４Ｂからなり、これらの通電により水濡れ状態を検知する構成とする。 - 特許庁
  • Thus, adjustment data of optical characteristic of the optical system can be calculated based on information about the pattern of an object to be image-formed.
    これにより、像形成対象のパターンに関する情報に基づいた光学系の光学特性の調整データの算出が可能となる。 - 特許庁
  • The slit type image is configured to generate a curved pattern image of a patterned radiation beam on the image flat plane of a projection system.
    スリット型の像は、パターニングされた放射ビームの湾曲パターンイメージ部分を投影システムの像平面に生成するように構成されている。 - 特許庁
  • To calculate various discounted fare service according to boarding pattern of a passenger without increase of load of a fare calculating system.
    旅客の乗車パターンに応じた多様な割引運賃サービスの計算を、運賃計算システムの負荷を増大させることなく実現することにある。 - 特許庁
  • The pattern of electric heating wires 6 is divided in a plurality of systems and the electric heating wires 6 of each system can be fed appropriately with electric powers, respectively.
    電熱線６のパターンは複数の系統に分割されており、各系統の電熱線６にそれぞれ適宜通電することができる。 - 特許庁
  • METHOD AND SYSTEM OF DRIVING MOVABLE BODY, METHOD AND DEVICE OF FORMING PATTERN, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND MEASURING METHOD
    移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びに計測方法 - 特許庁
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