「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 29 30 31 32 33 34 35 36 37 .... 73 74 次へ＞- To provide a projection optical system which can project the image of a pattern for multiplex exposure efficiently on a substrate by controlling fall of throughput.
スループットの低下を抑制し、多重露光するためのパターンの像を基板上に効率良く投影できる投影光学系を提供する。 - 特許庁 - To provide a system and a method which make a pattern sorter learn using face images and analogous face images, and detect a face using it.
顔映像及び類似顔映像を利用してパターン分類器を学習し、それを利用して顔を検出するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a holding apparatus for holding a printed circuit substrate, for a scanner system for scanning for directly writing a pattern on the surface of the printed circuit substrate.
印刷回路基板へパターンを直接書込むための走査器システムに用いる回路基板を保持するための保持装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a form processing system which can improve use efficiency of dot pattern printed as position information on a document of a form.
帳票の書面に位置情報として印刷されるドットパターンの利用効率を向上させることのできる帳票処理システムを提供する。 - 特許庁 - To precisely and speedily transfer a pattern by providing an accurate alignment system suitable to a charged particle beam exposure device of a reflection type.
反射型の荷電粒子ビーム露光装置に適した高精度なアライメント方式を提供し、高精度・高速度なパターン転写を可能とする。 - 特許庁 - A test data generation part 6 generates test data of a system which can be inputted to a simulator, based on information generated in the pattern generation part 5.
テストデータ生成部６はパターン生成部５で生成された情報等を元に、シミュレータへ入力できる形式のテストデータを生成する。 - 特許庁 - Therefore, transfer of a pattern onto an almost defocus-free wafer (substrate) can be achieved without necessarily arranging a focal position detection system or the like.
従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 - 特許庁 - An authentication information generating system generates authentication information and then a two-dimensional code C pattern based on inputted prescribed information (a).
認証情報生成装置は、入力された所定の情報に基づいて認証情報を生成し二次元コードＣのパターンを生成する（ａ）。 - 特許庁 - To provide a wiring design system allowing relatively reasonable wiring design, and capable of creating a reasonable and high-density wiring pattern in a single-layer board.
より合理的な配線設計を可能とし、単一層の基板において、合理的で且つ高密度な配線パターンの作成を可能とする。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer reproduction system which can easily, efficiently remove and reproduce a pattern of a silicon wafer, and to provide its method.
シリコンウェハーのパターンを簡単且つ効率よく除去して再生することが可能な、シリコンウェハーの再生システムおよびその方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR ACHIEVING OPTIMUM FEATURE REPRESENTATION FOR MASKLESS LITHOGRAPHY REAL-TIME PATTERN RASTERIZATION BY USING COMPUTATIONALLY COUPLED MIRRORS
マスクレス・リソグラフィのリアルタイム・パターン・ラスタ化のための、コンピュータ的に結合されたミラーを使用して最適フィーチャ表現を達成する方法及びシステム - 特許庁 - The system controller 111 controls and makes a reproduction processing part 116, read the pattern data from the optical disk 121 with reproduction optimum focus bias.
システムコントローラ１１１は、再生処理部１１６を制御し、再生最適フォーカスバイアスでそのパターンデータを光ディスク１２１より読み出させる。 - 特許庁 - The optical system divides the light into information light including information indicated by the bit pattern and reference light having the same wavelength as that of the information light.
光学系は、光を、ビットパターンで示される情報を含む情報光と、情報光と同一波長である参照光とに分割する。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE
電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁 - SYSTEM/METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, APPARATUS/METHOD FOR PREPARING LAYOUT PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, AND APERTURE
荷電ビーム露光装置、荷電ビーム露光方法、レイアウトパターンの作成装置、レイアウトパターンの作成方法、半導体装置の製造方法、及び、アパーチャ - 特許庁 - An electron beam writing system includes an electron beam patterning machine operable to emit an electron beam to form a pattern on a substrate.
電子ビーム描画システムは、基板上にパターンを形成するために、電子ビームを放射するべく動作可能な電子ビームパターニング装置を備えている。 - 特許庁 - To provide an individual identifying system for improving accuracy of person identification by performing collation of a blood vessel pattern of a fingertip as well as fingerprint collation.
指紋照合に加えて指先の血管パターンの照合を行って本人確認の精度を向上させる個人識別システムを提供する。 - 特許庁 - The system includes synchronization circuitry 122 that allows response signals generated at random times after a stimulus to be synchronized with a pattern generator 120.
システムは、刺激後のランダムな時間に生成される応答信号がパターン発生器１２０と同期できるようにする同期回路１２２を含む。 - 特許庁 - To provide a technique of transferring a diffraction structure in an optional pattern by printing an ultraviolet curing adhesive by an inkjet system.
インクジェット方式にて紫外線硬化型接着剤を印刷することにより、回折構造体を任意のパターンで転写する技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam projection exposure system for efficiently determining the sectional shape of an electron beam for exposing to a pattern to be exposed to light.
露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁 - The image display system includes: a substrate having a display region and a peripheral region; and a mosaic color filter pattern formed in the peripheral region.
画像表示システムは、ディスプレイ領域と周辺領域を有する基板と、周辺領域に形成されるモザイクカラーフィルターパターンと、からなる。 - 特許庁 - Even after class system collapsed due to the Meiji Restoration, the high-toned formality of the 'Chayatsuji' pattern was accepted by populace.
明治維新によりこれらの制度も崩壊したが、「茶屋辻」のその文様の形式は、一般庶民にも格の高い物として受け入れられた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - To realize a machine translating system which easily prepares a pattern of negative expression and can correctly perform translation, without considering matchings with other patterns.
否定表現のパターンが作成し易く、他のパターンで整合を考慮する必要がなく、正しく翻訳できる機械翻訳装置を実現する。 - 特許庁 - To provide a display device with high reliability in which wearing of a position information pattern accompanying a handwriting input is prevented, and further to provide an input system.
手書き入力に伴う位置情報パターンの磨耗が防止された信頼性の高い表示装置、及び入力システムを提供する。 - 特許庁 - Moreover, optical characteristic of the projection type optical system is calculated (step 125) based on the position information of a plurality of detected pattern images.
そして、検出された複数のパターン像それぞれの位置情報に基づいて、投影光学系の光学特性を算出する（ステップ１２５）。 - 特許庁 - To provide an antenna system and high frequency sensor capable of obtaining a preset radiation direction (angle) and a preset radiation pattern of a radio wave while maintaining compactness.
コンパクトさを維持しつつ、予め設定した、電波の放射方向（角度）や放射パターンを得ることができる高周波センサを提供する。 - 特許庁 - Then, a fingerprint discriminating unit is provided on a mouse or a pulse pattern is recognized by a hand grip, to provide a security system more excellent than authentication.
そして、マウスに指紋判別機とか、ハンド・コンテインに脈パターン認識をさせて、認証を行うより優れたセキュリティー・システムを提供する。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING/ANALYZING DEFECT AND INSPECTION DEVICE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE PATTERN
半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析方法、半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析システム、および、半導体デバイスパターンの検査装置 - 特許庁 - For further magnification of the image or diffraction pattern, the viewing screen in a two-lens system is replaced with subsequent intermediate and projector lenses.
像または回折図形のさらなる拡大のためには、2レンズ系の観察スクリーンは、その後に続く中間および投影レンズに置き替えられる。 - 科学技術論文動詞集 - The system management device constructs a structure pattern for virtual servers which configure a business system when receiving an additional request for a business system, obtains traffic condition of network routes, locates points in the traffic condition at which traffic quality highly degrades, and selects a pattern having a route with the smallest traffic variance as the system structure of the requested business system based on traffic information for the located point of quality deterioration in patterns.
また、システム管理装置は、業務システムの追加要求を受けた時に業務システムを構成する仮想サーバ群の構成パターンを構築しネットワークの経路のトラフィック状態を把握し、トラフィック状態の中で最もトラフィック品質を劣化する場所を特定し、各パターンで特定された品質劣化の場所のトラフィック情報を基に、トラフィックのばらつきが最も小さい経路を持つパターンを要求された業務システムのシステム構成を決定する。 - 特許庁 - To an action control box 92 displayed in a window 91 for setting an action control pattern, the item YI2 of a priority operation control system, the item MI3 of a magic control system and the item TI1 of a special control system are fitted in respectively different surface areas and thus, the action control pattern of an ally character indicated by an icon 84 is set.
行動制御パターンを設定するためのウィンドウ９１に表示された行動制御ボックス９２には、優先動作制御系のアイテムＹＩ_2や、魔法制御系のアイテムＭＩ_3や、特殊制御系のアイテムＴＩ_1がそれぞれ異なった面領域に嵌め込まれており、これによってアイコン８４で示す味方キャラクタの行動制御パターンが設定されている。 - 特許庁 - An information processing system being a print control system for controlling attachment of a tint pattern to printed matters is characterized in to include: a means that has settings associated with forms on a tint pattern print setting user interface, makes the tint pattern setting user interface issue a print job, and generates a form; and a means that registers the generated form to a printer or the printer driver.
印刷物に対して地紋パターンの付加を制御する印刷制御システムであって、地紋印刷設定ユーザインタフェース上にフォームに関する設定を有し、前記地紋印刷設定ユーザインタフェースから印刷ジョブをおこし、フォームを生成する手段と、前記生成されたフォームをプリンタもしくはプリンタドライバに登録する手段、を有することを特徴とする情報処理システム。 - 特許庁 - An exposure apparatus fills a liquid in at least one part of a space between a projection optical system and a substrate, projects the image of a pattern via the projection optical system and the liquid onto the substrate, and exposes the substrate.
露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁 - The system has a function of verifying the pattern line width with the dimensional specification; and if the line width fails the specification, the system has a function of automatically performing feedback and continuing the dry etching in the vacuum chamber for dry etching.
パターン線幅を寸法規格と照合し、寸法規格に至らない際には、自動でフィードバックしてドライエッチング用真空チャンバー内でドライエッチングを継続して行う機能を備えたこと。 - 特許庁 - The aligner comprises an optical system for projecting a pattern onto a substrate P, and detectors 11, 12 for detecting the positional information of the substrate P with respect to the focus position of the projection optical system from detection light.
パターンを基板Ｐに投影する投影光学系と、投影光学系の結像位置に対する基板Ｐの位置情報を検出光により検出する位置検出装置１１、１２とを備える。 - 特許庁 - To provide an antenna device which maintains a dielectric constant between the feeding terminal of an antenna and a conductor pattern on a constant level and is also used for both a non-contact system and a contact system.
アンテナの給電端子と導体パターン間の誘電率を一定に保つことができ、しかも非接触方式と接触方式の両方に使用することができるアンテナ装置を提供すること。 - 特許庁 - In this exposure apparatus, at least a portion of a space between a projection optical system and a substrate is filled with a liquid, the image of the pattern is projected on the substrate via the projection optical system and the liquid to expose the substrate.
露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁 - To provide a position measurement system for accurately measuring displacement of an edge or a attention portion without being influenced by a coating pattern that varies depending on product types (that is, without requiring changes in the system arrangement in accordance with product types).
品種によって変わる塗工パターンに影響されずに（すなわち品種による段替えが発生せずに）、エッジまたは注目部位の位置ずれを正確に測定する位置測定システムを実現する。 - 特許庁 - In the SIM card, personal authentication data (fingerprint, voiceprint, etc.), of a user, an authentication system startup pattern, data indicating whether or not an authentication system is started up, and personal information of the user are stored.
ＳＩＭカードは、使用者本人の個人認証データ（指紋、声紋等）と、認証システム起動パターンと、認証システム起動中／未起動を示すデータと、使用者本人の個人情報とが記憶されている。 - 特許庁 - Optimization is based on an estimated device structure and/or an estimated dose pattern that utilize one or more of the following factors: the low-pass characteristics of a projection system, the configuration of an illumination system, and the process window characteristics.
最適化は、投影系のローパス特性、照明系の構成、及びプロセスウィンドウ特性のうちの１つまたは複数を利用するデバイス構造及び／またはドーズ量パターンの推定値に基づく。 - 特許庁 - To provide a print system for cloth and its printing method in which a small lot of design pattern made and selected arbitrarily by a user can be printed onto a material, and to provide a system for making clothing and its making method.
ユーザが任意に制作、選択した小ロットのデザイン柄を素材に印刷可能な布地の印刷システムとその印刷方法、及び被服の制作システムとその制作方法を提供すること。 - 特許庁 - Thereby, the photosensitive resin can be formed uniformly in a shape regardless of the surface state of the exposure system and the unnecessary pattern transfer depending on the stage of the exposure system can be prevented.
これにより、露光機の表面状態に関係なく感光性樹脂を均一なある形状に形成することができ、露光機のステージに依存する不必要なパターン転写を防止することが可能となる。 - 特許庁 - VIRTUAL 3D (THREE-DIMENSIONAL) BODY PREPARATION SYSTEM TO BE USED FOR PREPARING DRESS RESPONDING TO CUSTOMER'S REQUEST AND ORDER MADE PATTERN PREPARATION SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME
顧客の要望に応じた衣服を作成するために用いられるバーチャル（仮想の意）３Ｄ（３次元）ボディ作成システム、及び、そのバーチャル３Ｄボディ作成システムを備えるオーダーメイド用型紙作成システム - 特許庁 - To provide a production system allowing a general user to easily produce a business form for an electronic pen printed with a dot pattern on the basis of a designed design without understanding a mechanism of the system.
一般利用者がシステムの仕組みを理解することなく、設計したデザインに基づいてドットパターンが印刷された電子ペン用帳票を容易に製造することができる製造システムを提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure system in which the connection of a complementary pattern does not increase and which does not increase the chromatic aberration of an electronic optical system and to provide a scattering mask, an exposure method, and a semiconductor manufacturing device.
コンプリメンタリパターンの繋ぎが増えることがなく、電子光学系の色収差を増加させることがない露光装置、散乱マスク、露光方法及び半導体製造装置を提供すること。 - 特許庁 - The reception antenna that is provided at the reception system is provided at a position deviating from the radiation pattern of the transmission antenna 10B that is provided at the transmission system in the apparatus body of the portable terminal apparatus 1.
受信系に設ける受信用アンテナ１０Ａは、携帯端末装置１の装置本体において、送信系に設ける送信用アンテナ１０Ｂの放射パタンから外れた位置に設けられている。 - 特許庁 - To provide an operation control device for a household cogeneration system capable of accurately and simply predicting an energy load pattern and enhancing energy saving performance and economy of the household cogeneration system.
精度よく、かつ簡潔にエネルギー負荷パターンを予測することができ、家庭用コジェネシステムの省エネ性及び経済性を高めることができる家庭用コジェネシステムの運転制御装置を提供すること。 - 特許庁 - The X-rays generated from the plasma 105 is radiated on a mask 110 by an illuminating optical system 109, and a mask pattern image is formed and exposed on a resist 112 by an image forming optical system 111.
プラズマ１０５から発生したＸ線は、照明光学系１０９によりマスク１１０上に照射し、結像光学系１１１によりレジスト１１２上にマスクパターンの像を形成して露光する。 - 特許庁 - A solid-state image pickup device 2 of an image pickup system A and a solid-state image pickup device 6 of an image pickup system B image-pickup an image pickup visual field CE of an image pickup object 16 with a periodic contrast pattern via a half mirror 10.
撮像系Ａの固体撮像素子２と撮像系Ｂの固体撮像素子６とが、ハーフミラー１０を介し、周期性明暗パターンを有する撮像対象１６の撮像視野ＣＥを撮像する。 - 特許庁 - In an optical system 45 of the optical interference unit 4, a shielding pattern 453a is arranged on an aperture narrowed part 453, and the substrate 9 is irradiated with illumination light from a light source 41 by the optical system 45.
光干渉ユニット４の光学系４５において、開口絞り部４５３には遮光パターン４５３ａが配置され、光源４１からの照明光は光学系４５により基板９へと照射される。 - 特許庁
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