「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 49 50 51 52 53 54 55 56 57 .... 73 74 次へ＞- An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.
露光光ＢによりマスクＲのパターンを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する露光装置９において、マスクＲのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Ｂの露光量を制御する制御装置２３とを備える。 - 特許庁 - This system comprises a correlation data forming means for forming traffic jam correlation data of a predetermined link with another link based on the past road traffic information of every link; and a traffic jam pattern data forming means for forming traffic jam pattern data in the predetermined link based on the past road traffic information of every link.
リンク毎の過去の道路交通情報に基づいて所定のリンクに対する他のリンクとの渋滞相関データを作成する相関データ作成手段と、リンク毎の過去の道路交通情報に基づいて所定のリンクにおける渋滞パターンデータを作成する渋滞パターンデータ作成手段とを備える。 - 特許庁 - The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.
投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁 - An image encoding device is equipped with a decision part which divides inputted image data into blocks each consisting of a plurality of pixels and decides the image pattern of the input image data and a selection part which selects a prediction system for predicting pixel values in one frame by using pixel values in the frame to generate predicted pixel values on the basis of decided image pattern.
入力した画像データを複数画素で構成されるブロックに分割して、入力画像データの画像パターンを判定する判定部と、判定された画像パターンに基づいて、フレーム内の画素値を用いて同一フレーム内の画素値を予測して予測画素値を生成する予測方式を選択する選択部とを備える。 - 特許庁 - In this method, first series calibration spectra are calculated from at least one reference pattern, and each spectrum of which is calculated by using at least one known value of different structure parameter among individual reference patterns to be stored in central library without considering parameters of the system used for generation of the reference pattern.
第一系列の較正スペクトルが少なくとも１つの基準パターンから計算され、各スペクトルは基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに個々の基準パターンの少なくとも１つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、各スペクトルが中央ライブラリに記憶される。 - 特許庁 - The light transmission device 20 for acquisition and tracking of light is provided with a radiation optical system with a laser light source 22 and the light transmission device 20 with a pattern light forming part which provides the laser light emitted from the laser light source 22 with a radiation pattern whose central position can be specified from at least a part of it.
光の捕捉追尾用の送光装置２０において、レーザ光源２２を備える放射光学系と、該レーザ光源２２から発せられたレーザ光に、その少なくとも一部分から中心位置を特定可能な放射パターンを付与するパターン光形成部とを備える送光装置２０を提供する。 - 特許庁 - This printing system includes an application (11) and a user interface driver (14), the user interface driver draws pattern data to a page on the basis of a start instruction from the application (S108) and the application draws document text data to the page in which the pattern data is drawn by the user interface driver (S109).
アプリケーション（１１）とユーザインターフェースドライバ（１４）とを有する印刷システムであって、前記ユーザインターフェースドライバは、アプリケーションからの開始命令に基づき模様データをページに描画し（Ｓ１０８）、前記アプリケーションは、前記ユーザインターフェースドライバにより模様データの描画されたページに文書データを描画すること（Ｓ１０９）を特徴とする。 - 特許庁 - A vehicular traffic system is provided with a movement control section 20 which moves vehicles 1, ..., 1 in the moving pattern corresponding to a transportation demand along an exclusively used road R1 on which the vehicles 1 can run in platoons 2 and a route 10 composed of the road R1 and ordinary roads R2 passing through urban districts in the moving pattern in accordance with a transportation demand.
車両交通システムは、車両１…１のプラトーン２走行が可能な専用道Ｒ１と、この専用道Ｒ１と市街地を通る一般道路Ｒ２とで構成される路線１０上に沿って車両１を輸送需要に応じた運行パターンで運行させる運行制御部２０とを備える。 - 特許庁 - In this traffic information management system, the traveling required time of an automobile x on a route L_i is predicted based on a "similar pattern" similar to the current pattern (of the traveling required time of an automobile(traveling object) on the route L_i) in a current time zone by a traveling required time predicting unit 14.
本発明の交通情報管理システムによれば、移動所要時間予測ユニット１４により現時間帯における（経路Ｌ_ｉ における自動車（移動体）ｘの移動所要時間の）現パターンに類似する「類似パターン」に基づき、経路Ｌ_ｉ における自動車ｘの移動所要時間が予測される。 - 特許庁 - The aligner comprising an illumination optical system for illuminating the pattern of an original plate, and a projection optical system for guiding light from the pattern onto a substrate and exposing the substrate is further provided with at least one reflective member, and a noncontact pressure applying means for applying a force to at least one reflective member such that gravitational deformation thereof is reduced.
原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも１つの反射部材と、前記少なくとも１つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも１つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。 - 特許庁 - The decoration control circuit emits the light by creating a light emission control means for emitting the light from the the light emitter by analyzing the reception content by receiving command information from a lot-drawing determining means 94 (a main control system), a pattern control system 43 and an operation control system 44 (an output control part, a shooting control part 44b and a dispensation control part 44c).
装飾制御回路は、抽選判定装置９４（メイン制御装置）と図柄制御装置４３と動作制御装置４４（出力制御部、発射制御部４４ｂ、払出制御部４４ｃ）とからのコマンド情報を受信し、その受信内容を分析するとともに発光体を発光させる発光制御手段を創出して発光させる。 - 特許庁 - In the charged particle beam exposure system comprising a charged particle beam source, an illumination optical system for irradiating a reticle with a charged particle beam from the charged particle beam source and a projection optical system for projecting a focused image of pattern formed to the reticle on a sensitive substrate, and a reticle-cleaning mechanism is further included for cleaning the reticle.
荷電粒子線源と、前記荷電粒子線源からの荷電粒子線をレチクルに照射する照明光学系と、前記レチクルに形成されたパターンを感応基板上に投影結像する投影光学系とを有する荷電粒子線露光装置において、 前記レチクルを洗浄するレチクル洗浄機構をさらに有するようにした。 - 特許庁 - To provide a scanning position detector of a scanning optical system with which linearity is measured in a short time and with high precision without requiring a special evaluation pattern and with which versatility is made high, a scanning position detecting method of the scanning optical system, the scanning optical system which is provided with the scanning position detector or the scanning position detecting method and an image forming apparatus.
リニアリティを短時間に高い精度で測定でき、特別な評価用パターンを必要とせず汎用性の高い走査光学系の走査位置検出装置、走査光学系の走査位置検出方法を提供し、かかる走査位置検出装置あるいは走査位置検出方法を具備した走査光学系および画像形成装置を得る。 - 特許庁 - The apparatus further includes a heating irradiation mechanism 7 for radiation heating of the optical imaging system during measurement operation so that the heating effect of radiation applied to the optical imaging system 1 to be measured becomes equal to the heating effect of radiation that passes through the effective pattern during the imaging operation of the optical imaging system within a tolerance that can be determined in advance.
装置は更に、測定される光学撮像システム1に加えられる放射の加熱効果が、予め決定できる許容範囲内で、光学撮像システムの撮像動作中に有効パターンを介して通過する放射の加熱効果と等しくなるように、測定動作中の光学撮像システムの放射加熱用の加熱照射機構7を含む。 - 特許庁 - The apparatus comprises a projection optical system PL for projecting a transfer pattern image of a reticle R on a wafer W, an alignment system 22 for measuring the position of either the reticle R or the wafer W to relatively align the reticle R with the wafer W, and an instrument 31 for measuring the wave front aberration of the alignment system 22.
レチクルＲに形成された転写パターン像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、レチクルＲとウエハＷとの相対的な位置合わせを行うためにレチクルＲとウエハＷとの少なくとも一方の位置を計測するアライメント系２２と、アライメント系２２の波面収差を計測する波面収差計測装置３１とを備える。 - 特許庁 - The aligner for filling at least a part of the projecting optical system and the substrate P with liquid and exposing the substrate P by projecting a pattern image to the surface of the substrate P by the projecting optical system and the liquid is provided with a bubble detector 20 for detecting bubbles in the liquid filled between the projecting optical system and the substrate P.
露光装置は、投影光学系と基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系と基板Ｐとの間の液体中の気泡を検出する気泡検出器２０を備えている。 - 特許庁 - When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.
レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁 - Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁 - Apart from observation lighting and its lighting optical system for positioning a sample on which a thin film pattern is formed and identifying a cell to be measured, measuring lighting and its lighting optical system are provided for measuring an intra-cell film thickness of the cell to be measured.
薄膜パターンを形成した試料の位置決め及び測定対象セルの識別を行うための観察用照明及びその照明光学系とは別に、測定対象セルのセル内における膜厚を測定するための測定用照明及びその照明光学系を設けた。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - An area AR2 is provided in which error-corrected and encoded data are recorded by a CIRC4 system and data are error-corrected and encoded by a CIRC7 system, and data to be decoded by both of the CIRC4 and CIRC7 systems are recorded in a predetermined pattern on a part therein.
ＣＩＲＣ４方式でエラー訂正符号化されたデータを記録すると共に、ＣＩＲＣ７でデータがエラー訂正符号化される領域ＡＲ２を設け、その中の部分に、ＣＩＲＣ４方式でもＣＩＲＣ７方式でも復号可能なデータを所定の位置に所定のパターンで記録する。 - 特許庁 - An exposure device EX exposes a substrate P by projecting a pattern image on the substrate P through a projection optical system PL and liquid 1, and comprises a liquid supply mechanism 10 supplying the liquid 1 to a location between the projection optical system PL and the substrate P.
露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターン像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間へ液体１を供給する液体供給機構１０を備えている。 - 特許庁 - To provide a headlight control system which restricts glaring state against a driver of own vehicle under reflection light of illumination of the own vehicle, in a system for performing an automatic switching operation for light distribution pattern so as not to give glaring state to an oncoming car or oncoming walker in response to circumstances around the own vehicle.
自車周囲の状況に応じて対向車や歩行者にグレアを与えないように配光パターンの自動切替を行うシステムにおいて、自車の照明の反射光による自車運転者に対するグレアも抑制可能な前照灯制御システムを提供する。 - 特許庁 - To provide an imaging system capable of appropriately controlling light emission luminosity of a flash in consideration of exact illuminance and pickup image quality of an object at the time of flash photography, etc., a light emission system capable of changing a light emission pattern in response to sound and electronic equipment equipped with them.
フラッシュ撮像時の被写体の正確な照度や撮像画像品質などを考慮してフラッシュの発光光度を適切に制御することができる撮像システム、音に反応して発光パターンを変化させることができる発光システム、およびこれらを備えた電子機器を提供する。 - 特許庁 - Lithography data having the identification display of the cell in which the unit lithography area is included, the size of the unit lithography area, the arrangement position of the cell in a coordinate system, the size of a pattern included in the unit lithography area, and the arrangement position of the unit lithography area in the coordinate system are created.
単位描画領域が含まれるセルの識別表示と単位描画領域の大きさとセルの座標系に対する配置位置と単位描画領域に含まれるパターンの大きさと単位描画領域の座標系に対する配置位置を有する描画データを作成する。 - 特許庁 - To prevent a carbon film from depositing on a reflection mask, a lighting optical system for irradiating a soft X ray to the reflection mask, or a reduction projection optical system for forming the image of the pattern of the reflection mask in a soft X-ray reduction projection aligner using the soft X ray as the light source.
軟Ｘ線を露光光源として用いる軟Ｘ線縮小投影露光装置において、反射型マスク、軟Ｘ線を反射型マスクに照射させる照明光学系、又は反射型マスクのパターンを結像させる縮小投影光学系にカーボン膜が堆積しないようにする。 - 特許庁 - The the condenser lens 7 irradiates a part of a mask held by a mask holder 8 so as to generate the infinite image of the wiring pattern of the mask at the position of an aperture diaphragm 9 in a projection optical system 9, that is, the position of the aperture diaphragm 91 of the projection optical system 9 functions as a Fourier transformation plane of the mask.
コンデンサレンズ７は、投影光学系９の開口絞９１の位置に、マスクの配線パターンの無限遠像が生じるように、すなわち、投影光学系９の開口絞９１の位置がマスクのフーリエ変換面となるように、マスクホルダ８によって保持されたマスクの一部を照射する。 - 特許庁 - In a system substrate 50 whereon a BGA package 51 with a solder ball 53 is mounted, a wiring pattern 57 which is led out from solder balls 53(53a, 53b, 53c, 53d) in a plurality of places of the BGA package 51 is formed when the system substrate 50 is mounted on an electronic equipment.
半田ボール５３を有するＢＧＡパッケージ５１が実装されたシステム基板５０にて、このシステム基板５０が電子機器に実装された際、ＢＧＡパッケージ５１の複数箇所の半田ボール５３(５３ａ,５３ｂ,５３ｃ,５４ｄ)から各々導出される配線パターン５７を有する。 - 特許庁 - The light condensing system includes a back light system equipped with a light source and a primary light condensing part (X) capable of condensing the light emitted from the light source within the extent of ±60° in the front direction and a light condensing film having no pattern structure as a secondary light condensing element (Y).
光源および光源からの出射光を、正面方向に対して、±６０°以内に集光することができる一次集光部（Ｘ）を有するバックライトシステム、ならびに、パターン構造を有さない集光フィルムを二次集光素子（Ｙ）として含有することを特徴とする集光システム。 - 特許庁 - An image of a wedge mark group for measuring the best focusing position and images of box and in-box marks for measuring a coma aberration of the projection optical system are exposed at a plurality of focusing positions Z1 to Z5 at positions near a wafer by a micro-step system, and a resist pattern is formed by the following development.
ベストフォーカス位置計測用の楔型マーク群の像、及び投影光学系のコマ収差計測用のボックス・インボックスマークの像を、複数のフォーカス位置Ｚ１〜Ｚ５でウエハ上の近接した位置にマイクロ・ステップ方式で露光し、その後の現像によってレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - When displacing an imaging optical system of an imaging apparatus CA in order to image a document DCM, at a point in time when a partial image of a main PCB stored as a pattern beforehand enters a photographing screen, a control section interrupts driving of an actuator that drives the imaging optical system.
書類ＤＣＭを撮像するために撮像装置ＣＡの撮像光学系を変位させるに当たり、予めパターンとして記憶されている本体ＰＣＢの一部の画像が、撮影画面内に入った時点で、制御部は撮像光学系を駆動するアクチュエータの駆動を中断する。 - 特許庁 - To output general display system contents (Web page, image, television picture, contents for mobile phone, etc.) normally to an output component by a system which provides a portal site for individual where a plurality of output components capable of outputting contents independently of one another are arranged in specified pattern.
それぞれ独立にコンテンツを出力可能な複数の出力コンポーネントが所定パターンで配置された個人用ポータルサイトを提供するシステムにおいて、一般の表示系コンテンツ（Ｗｅｂページ、画像、テレビ映像、携帯電話用コンテンツ等）が出力コンポーネントに正常に出力されるようにする。 - 特許庁 - To provide a connection optical system by which an optical axis in the connection optical system between a light source device and an alignment can be adjusted easily, accurately and in a short time without manpower and an illuminating light can be supplied uniformly on a pattern in the main body of the aligner.
光源装置と露光装置本体との間の接続光学系における光軸の調整を、人手によることなく短時間に容易かつ正確に行うことができ、露光装置本体内のパターン上に均一な照明光を供給可能な接続光学系を提供する。 - 特許庁 - To obtain an arch-like or ring-like irradiation beam by providing a scattering device, which checks diffusion of irradiation beam to a projection system with which the pattern image of a mask in a lithography projection system is irradiated on a substrate and forming a fan-like curved line by reflecting a fine collimated incident beam.
リソグラフ投影装置におけるマスクのパターンイメージを基板に照射する投影システムに照射ビームの拡散を制御する散乱装置を設けて、細いコリメート入射ビームを反射させて扇曲線形とすることにより、アーチ状あるいはリング状の照射ビームを得る。 - 特許庁 - The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁 - To provide a pattern discrimination method and discrimination system attaining small processing load, low cost in discriminating process of an object or a circular object to be discriminated, and low cost and small size of the system in the case of employing a method using an optical image.
光学画像を用いる方式を採用した場合において、被識別物や被識別円形物の識別処理を行うにあたって処理負荷が小さく低コストであって、装置の低廉化及び小型化を図るパターン識別方法および識別装置を提供することにある。 - 特許庁 - A command device of an electric power conversion apparatus receives return pattern information, which is calculated by a plan server and constituted of time and output upper limit without any sudden change in a frequency of a separate system, and commands the output upper limit of the power conversion system.
電力変換機器の指令装置が計画サーバにおいて計算された、分離系統の周波数が急峻な変化を生じないような、時刻と出力上限値で構成される復帰パターン情報を受信し、電力変換装置の出力上限値を指令する。 - 特許庁 - An immersion exposure system wherein the pattern of an original plate is exposed over a substrate by means of a liquid layer between a projection optical system and the substrate is provided with a means to remove an immersion liquid adhered onto the substrate or filled thereon by turning or moving a substrate holding member.
投影光学系と基板との間の液体層を介して原版のパターンを基板に露光する液浸露光装置を、基板保持部材を回動または移動させることにより、基板上に付着した、または基板上に満たされた液浸液を除去する手段を備えたものとする。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁 - On the simulator 10, the ideal feedback control unit 40 determines input to the actual system model 60 from the state quantity and an operation instruction pattern of a control object model 90, and decides a feedback loop, and outputs input to the actual system model 60 to a memory 15 as time-series data.
理想フィードバック制御器４０は、シミュレータ１０上において、制御対象モデル９０の状態量と、動作指令パターンから実システムモデル６０への入力を決定し、フィードバックループを策定すると共に、実システムモデル６０への入力を時系列データとしてメモリ１５に出力する。 - 特許庁 - The processing procedure constituted in the image processing procedure design expert system is thereby equal to the processing procedure constituted when the sample pattern 12 is same to the image in the area desired to be extracted from the original image 11, even when the sample pattern 12 is a little bit larger or smaller than the image in the area desired to be extracted, so as to constitute the highly reliable pattern extracting procedure.
これによってサンプル図形１２が、原画像１１から抽出したい領域の画像よりも多少大きくなる場合、または小さくなる場合であっても、画像処理手順設計エキスパートシステムにおいて構成される処理手順が、サンプル図形が抽出したい領域の画像と同一である場合に構成される処理手順と等しくなり、より信頼性の高い図形を抽出する処理手順を構成することができる。 - 特許庁 - In an information transfer system 1, a special pictograph generated by an information providing server 2 always includes a base block image pattern so that a notebook computer 4 with a camera can easily specify the special pictograph, and a data block image pattern of the specified special pictograph represents ASCII codes so that the ASCII codes corresponding to the special pictograph can be correctly recognized only by analyzing the data block image pattern.
情報伝達システム１において、情報提供サーバ２が生成した特殊絵文字においては必ずベースブロック画像パターンが含まれていることにより、カメラ付ノートパソコン４は特殊絵文字を容易に特定し得、また当該特定した特殊絵文字におけるデータブロック画像パターンはASCIIコードを表していることにより、当該データブロック画像パターンを解析するだけで特殊絵文字に対応するASCIIコードを正確に認識することができる。 - 特許庁 - To provide an energy demand forecasting method and a prediction system which cope with a sporadic demand peak, and which correct energy demand forecast even for an irregular life and behavior pattern of consumers.
需要ピークが散発的に発生する場合にも対応可能であり、需要家の不規則な生活行動パターンに対してもエネルギー需要予測を修正可能なエネルギー需要予測方法及び予測装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal laser marker which employs an optical system realizing printing in a wide range using a small polarization beam splitter nonetheless can keep satisfactory contrast even in the outer circumferential part of a printed pattern.
広範囲の印字を小さな偏光ビームスプリッタを用いて実現する液晶レーザマーカの光学系にもかかわらず、印字されたパターン外周部もコントラストを良好に保つことが出来る液晶レーザマーカを提供すること。 - 特許庁 - To provide a face authentication system for simplifying pattern matching processing by collating a registered face image subjected to feature-processing by image processing with a face image obtained by applying feature-processing to the photographed face image of a visitor.
画像処理によって特徴処理済み登録顔画像と、訪問者の撮像顔画像からの特徴処理した顔画像と、を照合させることによってパターンマッチング処理を簡易にした顔認証システムにある。 - 特許庁 - On the pattern of the conductive metal portion 16 formed with the metal colloidal solution 14, a conductive development promoting solvent 18 being compatibility with the solvent of the metal colloidal solution 14 is applied by a deposition system.
金属コロイド溶液１４により形成された導電性金属部１６のパターン上に、金属コロイド溶液１４の溶媒と相溶性を有する導電性発現促進溶媒１８をデポジション方式により塗布する。 - 特許庁 - A conduction pattern for the winding of each of the phases of the motor is selectively set from among a plurality of conduction patterns on the basis of a rotation angle detected by the rotation angle detecting system, thereby controlling the rotation of the motor.
回転角検出系によって検出した回転角に基づいて、モータの各相の巻線に対する通電パターンを複数の通電パターンの中から選択的に設定することによって、モータの回転を制御する。 - 特許庁 - To provide an information processing system and an information processing program, capable of detecting the movement history of a reading part for reading an object on the object without forming a position detecting pattern or image on a surface of the object.
対象物の表面に位置検出用のパターン、又は画像を形成することなく、対象物を読み取る読取部の対象物上での移動履歴を検出できる情報処理システム、情報処理プログラム。 - 特許庁 - To provide a position/direction measuring system capable of calculating the designated position of the projector for projecting concentric circular pattern in a real time even in the case a lot of imaging devices or imaging modules are provided in a wide range.
撮像装置または撮像モジュールが広範囲に多数個設置された場合でも同心円模様を投影する投影装置の指示位置をリアルタイムで算出することができる位置・方向計測システムを提供する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
