The system control device includes a pattern storage part 3 for storing operation patterns indicating operation applied to the power supply switch 1 in order to set to allow power supply control based on the operation to the power supply switch. パターン記憶部3は、電源スイッチに対する操作にもとづく電源制御を許可する状態に設定するために電源スイッチ1になされる操作を示す操作パターンを記憶する。 - 特許庁
To provide a film thickness inspection device for facilitating system construction to a great number-of-points measurement by obtaining spectral information in the inside of a pattern of the inside of a color filter and improving controllability. カラーフィルタ内のパターン内部の分光情報を高速で得ることができ、制御性が向上し、多数点測定に対するシステム構築が容易になる膜厚検査装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a desired result in a short period of time by allowing a user to change, in accordance with operation, the color, thickness, modification pattern or the like of a temporarily drawn line in graffiti of an image print system. 画像プリント装置の落書きにおいて、利用者が一度線描した線の色、太さ、装飾模様などを、操作に応じて変更し、所望の結果を短時間で得られるようにすること。 - 特許庁
A control unit 161 extracts the aging trend of the line width of the pattern formed by the coating development treatment system 1 on the basis of measuring information accumulated in the accumulating unit 160. 制御装置161では,蓄積装置160に蓄積された測定情報に基づいて,塗布現像処理システム1で形成されるパターンの線幅の経時的な傾向を導出する。 - 特許庁
To effectively enhance illumination efficiency by providing a projection system in which the projection pattern of a light beam projected to an optical path switching device is fully enclosed by the light receiving area of the optical path switching device. 光路スイッチング装置へ投影された光線の投影パターンが、光路スイッチング装置の受光域に完全に入れる投影システムを提供し、照明効率を効果的に高める。 - 特許庁
To deliver the argument and the return value of a pattern at high speed, which frequently appears, under an environment to be executed in the coexisting of two programs being different in the recording system of the argument or the return value. 引数、あるいは戻り値の記録方式が異なる2つのプログラムが混在して実行される環境下で、頻繁に現れるパターンの引数、戻り値の引き渡しを高速化する。 - 特許庁
To provide an inspection system, an industrial product and an inspection method which can inspect an assembled part easily by reading a pattern having identification information on the industrial product. 工業製品が備える識別情報を備えたパターンを読み取ることで容易に組み込まれた部品の検査を行うことができる検査システム、工業製品および検査方法を提供する。 - 特許庁
When the system receives desired edit items designated for the structural pattern by the user, the edit object item determining means determines the desired edit items as the edit object items. 構造パターンについてユーザにより指定された編集希望項がシステムに与えられる場合、編集対象項決定手段は、当該編集希望項を編集対象項として決定する。 - 特許庁
To provide an electric wiring formation system for eliminating influence on an environment by waste liquid at the time of manufacture, shortening manufacture time and lowering the price of a metallic material for wiring pattern formation. 製作時の廃液による環境への影響をなくし、製作時間を短縮でき、しかも、配線パターン形成用金属材料が低価格ある電気配線形成システムを提供する。 - 特許庁
To provide the surface decorating system of an automotive decorative part, by which decoration is made by precisely giving a pattern on the curved surface of raw material for an automotive part wile suppressing production cost. 製造コストを抑えつつ、自動車用部品素材の曲面上に絵柄を正確に付加して装飾することができる自動車用加飾部品の表面加飾システムを提供すること。 - 特許庁
The antenna element 4 is provided projecting onto a first surface of the circuit board 2 on a front side of the antenna system 1 to constitute a portion of a loop of the loop antenna 10 differently from the conductive pattern 3, a radio circuit portion 12, etc., provided on a second surface of the antenna system 1 on a back side of the antenna system 1 on the circuit board 2. アンテナエレメント4は、回路基板2上のアンテナ装置1の背方側の第2面上に設けられている導電性パターン3や無線回路部12等とは異なり、回路基板2のうちアンテナ装置1の前面側の第1面上に突出しループアンテナ10のループの一部を構成するように設けられている。 - 特許庁
To provide a method for tuning a lithography system so as to be capable of forming a different pattern image in a different lithography system employing a known process which does not necessitate the process of trial and error which is carried out so as to optimize the settings of a process and a lithography system for individual lithography systems. それぞれの個別リソグラフィシステム用にプロセス及びリソグラフィシステム設定を最適化するように実行される試行錯誤のプロセスを必要としない既知のプロセスを使用して、異なるリソグラフィシステムで異なるパターンを結像できるようにリソグラフィシステムをチューニングするための方法を提供することにある。 - 特許庁
An optical electronic apparatus with a vibration-proof function having a vibration-proof system has control means (PWM1 and PWM2) which change the driving pattern of the vibration-proof system before and after the change of energy consumption of actuators of a shutter for exposure control, etc., when energy consumption of the actuators are changed during driving of the vibration-proof system. 防振システムを有する防振機能付き光学電子機器において、防振システム駆動中に、露出制御用のシャッタ等の他のアクチュエータの消費エネルギーを変化させる場合は、該他のアクチュエータの消費エネルギー変化の前後で、前記防振システムの駆動パターンを変化させる制御手段(PWM1とPWM2)を有する。 - 特許庁
In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL. 露光光源16からの露光光で、照明系IL1,IL2を介してレチクルステージ系RSTに保持されているレチクルR1を照明し、レチクルR1のパターンの像を投影光学系PLを介してウエハステージ系WSTに保持されているウエハW1上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁
This exposure device has an illumination optical system (IL) for illuminating a mask (M) formed with prescribed patterns and the projection optical system (PL) having the plural projection optical units (PL1 to PL5) arranged along a prescribed direction and subjects the pattern images of the mask to projection aligning on a photosensitive substrate (P) by means of the projection optical system. 所定のパターンが形成されたマスク(M)を照明するための照明光学系(IL)と、所定方向に沿って配列された複数の投影光学ユニット(PL1〜PL5)を有する投影光学系(PL)とを備え、投影光学系を介してマスクのパターン像を感光性基板(P)へ投影露光する露光装置。 - 特許庁
When the system serves the service, if any trouble takes place in the wireless tag or a reception antenna 12 or the like and the system cannot acquire the user ID from the wireless tag, the system uses a bar code reader 13 to acquire the pattern information of the bar code printed on the ticket 20 possessed by the user to provide the service. サービス提供時に、無線タグもしくは受信アンテナ12等のなんらかのトラブルが発生し、無線タグからユーザーIDを取得することができない状況となっている場合には、バーコードリーダー13により利用者が持つチケット20に印刷されたバーコードのパターン情報を取得してサービスの提供を行う。 - 特許庁
The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam. 本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁
A system and method for inserting an intraocular lens in a patient's eye includes a light source for generating a light beam, a scanner for deflecting the light beam to form an enclosed treatment pattern that includes an registration feature, and a delivery system for delivering the enclosed treatment pattern to target tissue in the patient's eye to form an enclosed incision therein having the registration feature. 患者の眼に眼内レンズを挿入するためのシステム及び方法は、光ビームを発生させるための光源と、光ビームを偏向させて、位置合わせ特徴部を含む封入治療パターンを形成するためのスキャナと、患者の眼のターゲット組織へ封入治療パターンを送出して、そこに位置合わせ特徴部を有する封入切開部を形成するための送出システムとを含む。 - 特許庁
To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate. 光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁
An information processing system being a print control system for controlling attachment of a tint pattern to printed matters is characterized in to include: a means that has settings associated with forms on a tint pattern print setting user interface and registers the generated form to the printer; and a means that maintains the originality by attaching an electronic signature to the generated form when registering the generated form to the printer. 印刷物に対して地紋パターンの付加を制御する印刷制御システムであって、地紋印刷設定ユーザインタフェース上にフォームに関する設定を有し、前記生成されたフォームをプリンタに登録する手段を有し、前記生成されたフォームをプリンタに登録する際に電子署名を添付することにより原本性を維持する手段を有することを特徴とする情報処理システム。 - 特許庁
To provide a special paper management system and a special paper identification method in which even special papers of the same type having the same dot pattern are respectively identified as different special papers in an electronic pen system for digitizing a character or a graphic of handwriting on a special paper by reading a dot pattern printed on the special paper with an electronic pen. 特殊ペーパ上に印刷されたドットパターンを電子ペンで読み取ることによって特殊ペーパ上に手書きした文字や図形をデジタル化する電子ペンシステムにおいて,同一ドットパターンを有する同じ種類の特殊ペーパであってもそれぞれ別の特殊ペーパとして識別することができる特殊ペーパ管理システムおよび特殊ペーパ識別方法を提供すること。 - 特許庁
The radio transmission device which is used for the radio communications system of the OFCDM system comprises a selecting means for selecting an interleave system from among a plurality of interleave systems, in response to radio transmission path, and a symbol arranging means for arranging information symbols in a certain predetermined pattern in the frequency axis direction and the time axis direction, in accordance with the interleave system, selected by the selecting means. 本発明によるOFCDM方式の無線通信システムに使用される無線送信装置は、無線伝搬路に応じて複数のインターリーブ方式の中からインターリーブ方式を選択する選択手段と、前記選択手段で選択されたインターリーブ方式に従って、情報シンボルをあるパターンで周波数軸方向及び時間軸方向に並べるシンボル配置手段とを備える。 - 特許庁
Equipment for measuring the wave aberration of an optical system for soft X-rays comprises a light intensity detector for irradiating the optical system with a light having wavelength of 150-300 nm and detecting an interference pattern of a light passed through the optical system and measuring wave aberration of the optical system based on the detection results from the light intensity detector. 軟X線に用いる光学系の波面収差を測定する装置であって、波長150nm乃至300nmの光を前記光学系に照射し、前記光学系を通過した前記光の干渉縞を検出する光強度検出器を有し、該光強度検出器の検出結果に基づいて前記光学系の波面収差を測定することを特徴とする測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system. 所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁
This illuminance-measuring device measures the illuminance of illumination light on an image-forming surface of the projection optical system of an aligner for allowing the image of a pattern from a lighted mask to project on a substrate that is retained on a substrate stage by the projection optical system. 照明されたマスクからのパターンの像を、基板ステージ上に保持される基板上に投影光学系により投射するようにした露光装置の該投影光学系の結像面における照明光の照度を計測する照度計測装置である。 - 特許庁
In the mixed conductive multiple oxide, the main crystal system is a cubic system, Ce and Zr are regularly oriented and the diffraction pattern has peaks respectively in 2θ=13.8-14.6, 36.0-37.4 and 43.2-44.9. また、この混合伝導性複合酸化物は、主要な結晶系が立方晶でありCeとZrとが規則的に配列しており、粉末X線回折測定では、回折パターンが、2θ=13.8〜14.6、36.0〜37.4、43.2〜44.9にそれぞれ1本ずつのピークを呈する。 - 特許庁
A controller calculates fluctuation information of wavefront aberration of an optical system accompanying irradiation with an energy beam (step 222), and calculates adjustment data of the optical system based on the calculated fluctuation information of the wavefront aberration and information about a pattern (steps 208 to 216). 制御装置が、エネルギビームの照射に伴う光学系の波面収差の変動情報を算出(ステップ222)、その算出された波面収差の変動情報と、パターンに関する情報とに基づいて、光学系の調整データを算出する(ステップ208〜216)。 - 特許庁
The exposure device exposes the substrate by projecting an image of the pattern on the substrate via the projection optical system and the liquid, and prepares a liquid-removing mechanism removing the liquid left on a part, arranged near the image of the projection optical system. 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 - 特許庁
After occurrence of a fault is detected in a power system, a required control amount of a control object generator is calculated online from system information after fault, and then optimal power flow calculation is carried out online by assuming a control pattern of the generator within a range satisfying the required control amount. 電力系統の事故発生を検出した後、事故後の系統情報から、制御対象発電機の必要制御量をオンラインで算出し、必要制御量を満たす範囲で発電機の制御パターンを想定して最適潮流計算をオンラインで行う。 - 特許庁
The exposure apparatus projects a pattern image on the substrate via the projection optical system, and the liquid and exposes the substrate; and the exposure apparatus includes a liquid removing mechanism that removes the liquid left on a component disposed near the image surface of the projection optical system. 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 - 特許庁
To attain highly precise pattern recognition while suppressing calculation amounts by efficiently integrating a core line extraction type recognition system and a contour tracing type recognition system. この発明は、芯線抽出型の認識方式と輪郭追跡型の認識方式とを効率的に統合させ、計算量を抑えながら高精度なパターン認識を行なうことを可能としたパターン認識装置及びパターン認識方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
An exposure apparatus exposes a substrate by projecting an image of a pattern on the substrate via a projection optical system and liquid, and comprises a liquid-removing mechanism for removing the liquid left on a component, arranged in the vicinity of an image surface of the projection optical system. 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 - 特許庁
To provide a system coordination system of a distributed power generating facility capable of operation in high energy efficiency and an effective use of a power generating facility by making calculation on a changing pattern beforehand, in case a change in load is expected at the site of a customer. 需要家サイトにおいて負荷変動が生ずる場合に、変動前にその変動パターンを予測することにより、高いエネルギー効率で運転が可能であって、発電装置の有効活用が可能な分散型発電装置の系統連系システムを提供する。 - 特許庁
The exposure device exposes the substrate by projecting an image of the pattern on the substrate via the projection optical system and the liquid, and includes a liquid-removing mechanism removing the liquid left on a part, arranged in the vicinity of the image of the projection optical system. 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 - 特許庁
When the detection system differs from a system selected by output switching 110b, the digital AV data according to digital equipment to be connected are outputted with the AV data to be outputted as a fixed pattern data set generated by an adjustment data generator 112c. 検出方式と出力切換110bの選択した方式とが異なる場合には、出力するAVデータを調整データ発生器112cで発生する固定パターンデータセットとして、接続するデジタル機器に応じたデジタルAVデータを出力するようにする。 - 特許庁
To provide a biometrics system for large scale using a vein pattern of a finger capable of authenticating largely scaled users by using only biological information without damaging operability as much as possible, and capable of preventing the erroneous recognition of this system. 指の静脈パターンを用いた認証システムにおいて、大規模な利用者を、操作性を極力損なわず、生体情報のみを用いて認証することができると共に、システムの誤認識を防ぐことができる大規模向け生体認証システムを提供する。 - 特許庁
A connection substrate 23 has a terminal connection section 29b that is electrically connected to an electric circuit pattern 29, classified for each wiring system of a connection section 27 of the ECU substrate 21 to which a pad 29a is connected, and arranged aggregated at each wiring system. 接続基板23は、その電気回路パターン29と電気的に接続され且つ、パッド29aが接続されるECU基板21の接続部27の配索系統ごとに分類されながら当該配索系統ごとに纏めて配置された端子接続部29bを有する。 - 特許庁
The optical element 200 includes a glass optical system 202 having 1,000 μm or less of thickness between the first surface and the second surface, and a pattern 203 arranged on the first surface of attenuating the light incident into the first surface of the glass optical system 202. 光学素子200が、第1の表面と第2の表面との間において1000ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第1の表面に入射する光を減衰させる、第1の表面に配置されているパターン203とを包含する。 - 特許庁
To provide a projection system where related to a lithography projection system used for projecting a mask pattern on a substrate at manufacturing of ICs, etc., such phenomenon as substrate sticking to the support surface of a substrate holder for holding it on a substrate table, resulting in difficulty in release, is eliminated. ICの製造等でマスクパターンを基板上に投影するために使用するリソグラフィ投影装置であって、基板がそれを基板テーブル上に保持するための基板ホルダの支持面に付着して外し難くなる現象をなくした投影装置を提供すること。 - 特許庁
This display device for an air conditioning system displays, on the same screen, pattern graphs such as circle graphs or bar graphs showing the relation between a control state by an adjusting means of the air conditioning system and an energy saving effect obtained by adjustment of the adjusting means. 空調システムの表示装置において、該空調システムの調節手段による制御状況と該調節手段の調節によって得られる省エネルギ効果との関連を示した円グラフや棒グラフ等の図形グラフで同一画面に表示したことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a controller, using a two-dimensional input device, in which a remote controller is installed, for the right control and the left control of a game system, and inserting an external game panel in the game system or performing game software by a predetermined pattern of the game software displayed by a user himself. リモコンが設置される二次元入力装置をゲームシステムの右側コントロールと左側コントロールにし、ゲームシステムに外部のゲームパネルを挿入させるか、或いは自分で表示するゲームソフトの所定の図案によりゲームソフトを実施するコントローラーを提供する。 - 特許庁
The controller controls driving of at least one of an optical element constituting the projection optical system, the first stage, and the second stage so as to reduce the image height dependence of variations in imaging characteristics of the projection optical system on the basis of the positional dependence of the transmittance of the pattern. 制御部は、パターンの透過率の位置依存性に基づき、投影光学系の結像特性の変動の像高依存性を低減するように、投影光学系を構成する光学素子、第1ステージ及び第2ステージの少なくとも一つの駆動を制御する。 - 特許庁
To provide a traffic control system in which a control center side can instantly grasp an abnormal position and a traffic light side can immediately operate with an emergency pattern when the earthquake having abnormal seismic intensity occurs and which is inexpensive and is easily introduced and to provide communication equipment used in the traffic control system. 震度異常発生時に、管制センタ側では瞬時に異常地点が把握でき、信号機側では直ちに異常時パターンで動作させることができ、かつ、低コストで導入も容易である交通管制システム及びこれに用いられる通信装置を提供する。 - 特許庁
To provide a technique capable of forming an antenna system of an accurate resonance frequency since especially the capacity of the antenna system is easily adjusted, forming a pattern with excellent workability and making easy and simple equipment sufficient when manufacturing a radio IC tag. 無線ICタグの製造に際して、特にアンテナ系の容量の調節が容易であるため共振周波数が正確なアンテナ系を形成することが可能であり、しかもパターンの形成は作業性に優れ、設備は簡単かつ簡易なもので済む技術を提供する。 - 特許庁
In the calculation system, a random pattern generator 12 generates test patterns 11a, 11b by extracting respective parameters such as data transfer destination, data transfer direction and the number of bursts at random and bus operation models 10a, 10b respectively transfer data on the basis of the patterns 11a, 11b through a system bus 1. ランダムパターンジェネレータ12でデータの転送先・転送方向・バースト数等の各パラメータをランダムに抽出してテストパターン11a,11bを生成し、このパターン11a,11bに基づいてバス動作モデル10a,10bはシステムバス1を介してデータを転送する。 - 特許庁
The exposure equipment, to expose a substrate by projecting a pattern image onto the substrate via the projection optical system and the liquid, comprises a liquid removing mechanism to remove a residual liquid on a component disposed in the vicinity of an image plane of the projection optical system. 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 - 特許庁
When the individual authentication system is used outside under the sunlight, a cover which cuts off near infrared rays included in the sunlight and has a filtering function of transmitting visible light to allow the user to recognize his/her finger is placed, and the individual authentication system has effects of acquiring a pattern of finger veins. また、屋外の太陽光の元で使用する場合、太陽光に含まれる近赤外光をカットし、かつ使用者が自身の指を確認出来るよう可視光を透過させるフィルタ機能のあるカバーを設置し、指静脈パターンの取得が出来る効果がある。 - 特許庁
An information processing system 10 is provided with: a screen 4 on which a coded pattern showing position coordinates is formed; a reading means 1 for reading the coded pattern; a computer device 2 for receiving information on the coded pattern transmitted from the reading device 1, and for performing processing corresponding to the information; and a projector 3 for receiving an image signal from the computer device 2, and for projecting an image on the screen 4. 情報処理システム10は、位置座標を示すコード化パターンが形成されたスクリーン4と、前記コード化パターンを読み取る読取手段1と、読取手段1から送信されたコード化パターンに関する情報を受信して、当該情報に応じた処理を行うコンピュータ装置2と、コンピュータ装置2からの画像信号を受信して、スクリーン4に画像を投影するプロジェクター3とを備える。 - 特許庁
To provide a printing system obtaining a calibration result suitable for an image forming apparatus each time by storing a measurement pattern for density correction generated by an image processor in the image processor and by enabling a user to reuse a measurement pattern for density correction for a calibration function when the user obtains the suitable measurement pattern for density correction by chance. 画像処理装置で生成された濃度補正用測定パターンを画像処理装置内に記憶できるようにし、キャリブレーション機能において、利用者が偶然的に適した濃度補正用測定パターンを手に入れた場合、その濃度補正用測定パターンを再度利用すること事が可能にし、毎回同じようなその画像形成装置に適したキャリブレーション結果を得ることができる印刷システムを提供する。 - 特許庁
There is provided a discovery system using a neural network which executes training in the discovery system to be stimulated so as to generate a new output pattern through perturbations in various forms applied to itself, and an evaluating function neural network which performs training on the spot in the system similarly and can relate availability or value thereof to useful or more important new pattern among those patterns in the former network while actuating reinforced learning of such patterns. 発見システム内の訓練を実行し、自身に適用される各種の形式の摂動を通じて新たな出力パターンを生成すべく刺激を受けるニューラル・ネットワークと、同様に当該システム内のその場で訓練を実行し、前者のネットワーク内でこれらのパターンのうち、より有用またはより貴重なパターンの強化学習を起動しつつ、そのような新たなパターンに自身の有用性または価値を関連付けることができる評価機能ニューラル・ネットワークとを用いる発見システム。 - 特許庁