「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 42 43 44 45 46 47 48 49 50 .... 73 74 次へ＞- To correct non-uniformity of exposure illuminance in a non-scanning direction in a scan exposure apparatus which scans an original and a substrate with respect to a projection optical system for transfer and expose a pattern image formed on the original through the projection optical system onto the substrate.
原版と基板とを投影光学系に対して走査することにより、原版に形成されたパターン像を、投影光学系を介して基板上に転写露光する走査露光装置において、非走査方向の露光照度ムラを修整する。 - 特許庁 - This electron beam transfer equipment is provided with an illumination optical system which illuminates a reticle 12 having a pattern to be transferred on a wafer 16 with electron beam, and a projection optical system which projects an electron beam which passes the reticle 12 and is patterned and forms an image on the wafer 16.
本装置は、ウエハ１６に転写するパターンを有するレチクル１２を電子ビームで照明する照明光学系と、レチクル１２を通過してパターン化された電子ビームをウエハ１６上に投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁 - At the control treatment part 10, a control pattern in which the load circuits C1 to C4 of all the system are turned on at every generation of operation input, and four kinds of control patters in which respective load circuits C1 to C4 are sequentially turned on by every one system in turn are selected in cycles.
制御処理部１０では、操作入力の発生毎に、全系統の負荷回路Ｃ１〜Ｃ４をオンにする制御パターン、各負荷回路Ｃ１〜Ｃ４を１系統ずつ順次オンにする４種類の制御パターンを循環的に選択する。 - 特許庁 - The third position detecting system 14c observes an optional position located inside and outside a lighting range of exposure light, and the standby position of the third position detecting system 14c when the image of an original pattern is projected onto a substrate 8 for exposure is substantially at the same position as a part of its detecting range or adjacent to it.
そして、第３位置検出系１４ｃは露光光の照明領域内外を検出し、原版パターンを基板８に露光する際の待機位置と検出範囲の一部とが実質的に同一の位置或いはその近傍にある。 - 特許庁 - To provide an array antenna system where a time for measuring the excitation amplitude and phase of each element antenna is reduced as to the array antenna system for electronically performing beam scanning or pattern formation by the phase control of a plurality of element antennas.
複数の素子アンテナの位相制御により電子的にビーム走査或いはパターン形成を行うアレイアンテナ装置に関し、各素子アンテナの励振振幅及び位相の測定に要する時間の短縮を図ったアレイアンテナ装置を提供する。 - 特許庁 - This system has a chamber for receiving a sample of the suspension while circulating the suspension in a mechanical system, and an interferometer for generating an interference pattern by combining a reference signal, and a signal emitted from the sample showing a characteristic in the suspension.
懸濁液を機械的システム内に循環させながら、懸濁液のサンプルを受け入れるチェンバと、基準放射信号と、懸濁液内の特性を表すサンプル放射信号を組み合わせることにより、干渉パターンを生成する干渉計とを有する。 - 特許庁 - To provide a system and method for exposure by which the fluctuation of the line width of a transferred pattern caused by the electrification of a substrate to be treated can be prevented, and to provide a method of manufacturing semiconductor device.
被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This multiplex energy pattern computer type tomography(MECT) system (10) is so composed as to scan a subject (22), receive data on the first energy spectrum, and receive data on the second energy spectrum differing from the first energy spectrum by scanning the subject.
対象（２２）を走査し、第一のエネルギ・スペクトルに関するデータを受け取り、対象の走査により第一のエネルギ・スペクトルと異なる第二のエネルギ・スペクトルに関するデータを受け取る。 - 特許庁 - Only by changing the pattern of the interface 1200, the capacity of the memory being connected to the logic circuit 3000 can be easily changed, thus reducing the development period of a memory circuit/logic circuit integration system.
インターフェース１２００のパターン変更のみで、ロジック回路３０００に接続するメモリの容量を容易に変更可能で、メモリ回路／ロジック回路集積システムの開発期間が短縮される。 - 特許庁 - To provide a device and method for acquiring a vein pattern, and a vein template, for improving the security of a vein authentication system while reducing a false rejection rate.
本人拒否率を低下させ、静脈認証システムのセキュリティ性を向上させることが可能な静脈パターン取得装置、静脈パターン取得方法および静脈テンプレートを提供する。 - 特許庁 - The thin film pattern forming system of the present invention is provided with a means forming the reflective film of a metallic material having high reflexivity including an adhesive material in advance, on a substrate.
本発明の薄膜パターン形成装置は、予め接着材料を含有させた高反射性を有する金属材料を反射膜として基板上に成膜する手段を備えている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which dimensional conversion difference of an etching pattern can be controlled over a wide range by taking a measure other than the resizing of a photomask, and to provide a dry etching system.
フォトマスクのリサイズ以外の方策で対処すべく、大きい範囲で寸法変換差を制御し得る半導体装置の製造方法及びドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - As for a price in housing design, the housing simulation system automatically calculates and presents the price of a house when a designer selects the basic pattern of the housing outline and in-house layout.
住宅の設計における価格について、設計者が住宅外形の基本パターンと住宅内の間取りを選択することにより、自動的に住宅価格を計算提示する。 - 特許庁 - A diffractive optical element, used in the color-synthesizing optical system 105, has a fine period concavo-convex structure, having a period that is finer than the wavelength to be used on a relief pattern.
色合成光学系１０５に用いる回折光学素子は、レリーフパターン上に、使用する波長よりも細かい周期を有する微細周期の凹凸構造が形成されている。 - 特許庁 - An image processing method/system includes dividing a movement pattern of a moving object into N discrete position states, and for each of the N position states, determining a corresponding view projection matrix.
画像処理方法／システムでは動く物体の運動パターンがＮ個の不連続位置状態に分割され、前記Ｎ個の位置状態各々に対し対応するビュー投影行列を決定する。 - 特許庁 - An exposure apparatus 100 positions a reticle 102 and a wafer 116, and projects a pattern of the reticle 102 on the wafer 116 through a projection optical system 106 to expose the wafer 116.
露光装置１００は、レチクル１０２とウエハ１１６とを位置合わせして投影光学系１０６を介してレチクル１０２のパターンをウエハ１１６に投影してウエハ１１６を露光する。 - 特許庁 - To provide an imaging system which can collect a defective parts approximately simultaneously without stopping a line even when defects occur in a pattern drawn on a substrate by nozzle clogging.
ノズル詰まりにより、基板に描画したパターンに欠陥が発生した場合であっても、ラインを停止させることなく、略同時に欠陥部分を捕集することができる描画装置を提供する。 - 特許庁 - The code data is stored in the database 12 associated with a code type, a format definition table and the like, and can be collated irrelevant to the code system of the code data of the read code pattern.
同コードデータは、コード種、フォーマット定義テーブルなどと関連付けられてデータベース１２に格納されており、読み取られたコードパターンのコードデータのコード体系によらず照合可能とする。 - 特許庁 - To provide a heating pattern of triangular heating, a production system of a heating passage and its method by which the triangular heating is automated when hot-working the shape of the curved surface of a shell of a hull.
船体外板の曲面形状を熱間加工する際に、三角加熱を自動化できる三角加熱の加熱パターン及び加熱経路の生成システム及びその方法を提供する。 - 特許庁 - To enhance accuracy of drawing, by improing the degradation of positional accuracy in a drawn pattern accompanying changes in the orthogonality of movable mirrors, in a laser interference position detection system for detecting stage position.
ステージ位置を検出するレーザー干渉位置検出システムの移動ミラーの直交性の変動に伴う描画パターンの位置精度の劣化を改善し、描画精度の向上をはかる。 - 特許庁 - This test system has many test channels, applies a test pattern to the device pins of a device under test(DUT) via the test channels, and verifies the response output of the DUT.
本テストシステムは多数のテストチャンネルを有し、そのテストチャンネルを経由して被試験デバイス（ＤＵＴ）のデバイスピンにテストパターンを印加して、そのＤＵＴの応答出力を検証する。 - 特許庁 - A defect automatic classification system recognizes an image 22 as an image of the side face of the most upper layer of the pattern by detecting an image having the width which is consistent with the calculated value.
欠陥自動分類システムは、その算出された値と一致する大きさの幅の像を検出することで、像２２がパターン最上層側面の像であることを認識する。 - 特許庁 - This aligner is provided with a projection optical system (PL) for forming a pattern image of a mask (M) on a photosensitive substrate (W) and a substrate stage for holding and moving the photosensitive substrate.
マスク（Ｍ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）上に形成するための投影光学系（ＰＬ）と、感光性基板を保持して移動するための基板ステージ（ＷＳＴ）とを備えた露光装置。 - 特許庁 - After the photo-resist pattern is removed in an ashing step, a two-step isotropic etching step is carried out in a single cleaning system continuously with a conventional strip step.
フォトレジストパターンをアッシング工程によって除去した後、単一の洗浄システム内で既存のストリップ工程と連続して行なわれる２段階の等方性湿式蝕刻工程を実施する。 - 特許庁 - To determine the optimum pattern dimension measuring condition of a charged particle beam system, in consideration of both a shrink amount (or deviation from a true value of a length measurement value) and a reproduction error amount.
シュリンク量（あるいは測長値の真値からのずれ量）および再現性誤差量の双方を考慮して、荷電粒子線システムの最適なパターン寸法計測条件を決定する。 - 特許庁 - To quickly change the width of a spray pattern and the thickness of a coating material without bringing about complexity of a system and the like, thereby suppressing the generation of defects in coating and improving accuracy in coating and the like.
装置の複雑化等を招くことなく、スプレーパターンの幅や塗料の厚さを素早く変更することができ、ひいては塗装不良の発生抑制や塗装精度の向上等を図る。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of reducing first copy output time (FCOT) and precisely controlling density correction by reducing density unevenness of pattern images for density correction without increasing the circuit scale of a control system.
制御系の回路規模が大きくなることなく、ＦＣＯＴを小さくし、さらに、濃度補正用パターン像の濃度むらを小さくして、精度よく濃度補正制御を行う。 - 特許庁 - To provide a photomask manufacturing method and a charged particle beam lithography system, which suppress a reduction in pattern dimensional accuracy by absorption of an amine compound of a resist film in blanks.
ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁 - A pattern of the material suitable for constituting the movable machine part of the microelectromechanical system is formed on the front face of the first wafer covered in a sacrificial layer and positioned on a level of the porous zone.
マイクロエレクトロメカニカルシステムの可動機械部を構成するのに適した材料のパターンは、犠牲層内で覆われ、多孔質ゾーンのレベルに位置する第１ウェハの前面上に形成される。 - 特許庁 - To provide a sprinkling system for supplying water to many plant cultivation trays arranged in a desired pattern, using a normal sprinkling form by an easy structure.
所望のパターンに配置される多数個の植物栽培可能なトレーに対して通常の散水形態を用いて簡易な構成で給水することができる散水システムを提供すること。 - 特許庁 - To provide an operation reserving control method for a system, allowing reserved operation corresponding to the life pattern of a user while avoiding troubles involved in setting and registering each operation reserving time.
その都度の運転予約時刻の設定登録に伴う煩雑さを回避しつつも、ユーザの生活パターンに合致した予約運転を行い得るシステムの予約運転制御方法を提供する。 - 特許庁 - To easily generate cloth samples to enable a user to confirm the color, the pattern, etc., of clothes with actual objects in a try-on image generation system which generates an image of the state of user's try-on.
ユーザが衣服を試着した状態の画像を作成する試着画像作成システムにおいて、生地見本を簡易に作成し、実物によって衣服の色、柄等を確認できるようにする。 - 特許庁 - The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.
露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁 - The system for testing the semiconductor device comprises the steps of referring to a table 710 of a test pattern signal, by using a test result of a sample testing unit 110, and outputting testing conditions to a wafer level burn-in testing unit 210.
サンプルテスト試験装置１１０の試験結果を用いて、テストパターン信号のテーブル７１０を参照し、テスト条件をウェハレベルバーンインテスト試験装置２１０に出力する。 - 特許庁 - In a pattern imaging system, exposure areas EA1, EA2 and EA3 are relatively moved on an exposure surface SU by moving an X-Y stage 18 in the X-direction.
パターン描画装置において、Ｘ−Ｙステージ１８をＸ方向に沿って移動させることにより、露光エリアＥＡ１、ＥＡ２、ＥＡ３を露光面ＳＵ上において相対移動させる。 - 特許庁 - Thus, the moving conditions of the object OH in the world coordinate system are displayed on the basis of the view point SP so that the pattern of the background moving on a display screen can be displayed.
このワールド座標系内でのオブジェクトＯＨの移動の様子を視点ＳＰに基づいて表示することにより、表示画面上で移動する背景の模様を表示する。 - 特許庁 - In this index system, the patient positioning device comprises a table for supporting a patient and this table has both side faces equipped with a positive pattern index projection extending outside along each side edge of the table.
患者位置決め装置は、患者を支持するためのテーブルを含み、このテーブルはテーブルの各サイドエッジに沿って外側に延びる雄型割り出し突起を備えた両側面を有する。 - 特許庁 - Furthermore, they have excellent conductivity and can be applied easily for the micro pattern formation essential for manufacturing of various display such as various kinds of mobile devices, liquid crystal display, and electronic paper system.
また、優れた導電性を有し、各種モバイル機器、液晶ディスプレイ、電子ペーパーシステム等、多様なディスプレイ機器の製造に必須の微小パターン形成工程に容易に適用することができる。 - 特許庁 - In a process of exposure, the mask pattern is imprinted to the sensitization material in a state that an aberration of the projection system of the exposing device is adjusted with the combined coma aberration value and the spherical aberration value.
露光においては、露光装置の投影系の収差を、組み合わせにおけるコマ収差の値と球面収差の値とに調整した状態で、マスクパターンを、感光材に転写する。 - 特許庁 - To prevent unnecessary pattern transfer generated when irradiation of reflection light from the stage of an exposure system is added to necessary direct irradiation when a photosensitive resin is exposed.
感光性樹脂を露光する場合、必要な直接照射の他に露光機のステージからの反射光による照射が加わった場合に生ずる不必要なパターン転写を防止する。 - 特許庁 - To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern.
次のフィーチャパターンの形成前に、上部の層および先行して形成される１つまたは複数の層のアライメントパターンを測定または検出できるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁 - To develop an exposure apparatus for effectively partly purging an exposure optical path in the apparatus with an inert gas for emitting a pattern of a mask to a photosensitive substrate via a projection optical system.
マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の露光光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁 - To provide an exposure system, an exposure apparatus, a substrate processing apparatus, a pattern forming method, and a semiconductor device manufacturing method for enhancing the uniformity of line width of a resist film formed on a substrate.
基板上に形成されるレジスト膜の線幅均一性を向上させる露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁 - A failure detection system includes in a portable terminal an acceleration sensor and a shock database for storing a shock pattern that is a time change of acceleration at the time of reception of a shock or oscillation.
障害検出システムは、携帯端末に加速度センサと、衝撃あるいは振動を受けたときの加速度の時間変化である衝撃パターンを格納する衝撃データベースとを備える。 - 特許庁 - In the reproduction system, a circuit respectively identifying the data of the prescribed pattern and the data of the main signal from reproducing signals generated by reproducing records on a magnetic tape T is installed.
再生系では、磁気テープＴ上の記録を再生して成る再生信号から、上記の所定パターンのデータと本信号のデータとを、それぞれ識別する回路が設置されている。 - 特許庁 - To provide an induction heating system capable of preventing a striped pattern by vibration such as a strip generated by the action of an AC electromagnetic field without causing a load on an AC power source.
交流電磁場の作用で発生するストリップ等の振動現象による筋状模様の発生を交流電源の負担を招くことなく防止し得る誘導加熱装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a washing machine information providing method and a system for detecting the using pattern and abnormal state of a washing machine online and improving the reliability and performance of the washing machine.
洗濯機の使用パターンと異常状態をオンラインで検知し、洗濯機の信頼性と性能を向上させた洗濯機運転情報提供方法とそのシステムを提供する。 - 特許庁 - Reflection intensities of a standard wafer with a known reflectance, a plain wafer on which no pattern is formed, and a semiconductor wafer to be processed practically are measured by using an optical measuring system.
光学測定系を用いて反射率が既知の標準ウェハー、パターン形成がなされていない無地ウェハーおよび実際に処理対象となる半導体ウェハーの反射強度を測定する。 - 特許庁 - The system 24 forms the uniform flow of the highly mixed rubber, when rubber filled with fibers is injection-molded, the fibers are oriented in a specified direction to form a desired flow pattern.
このゲートシステムは高度に混合された均等なゴムの流れを作り、繊維充てんゴムを射出成形するとき、繊維を特定方向に配向して所望の流動パターンを作る。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording disk having identical pre-patterned servo patterns on its front and back surfaces, and a disk drive provided with a servo control system which can be operated using the identical servo pattern.
前後面上に同一の予めパターン化されたサーボパターンを備えた磁気記録ディスク、および同一のサーボパターンを用いて動作できるサーボ制御システムを備えたディスクドライブを提供する。 - 特許庁
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