「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 40 41 42 43 44 45 46 47 48 .... 73 74 次へ＞- A definition file 146 including the material ID and the command corresponding to the failure pattern is transmitted to a management system 200, and the additional material collection is executed in a user system 100 when there is the material to be additionally collected.
前記障害パターンと対応する資料ＩＤ及びコマンドを含む定義ファイル１４６が、管理システム２００に送信され、追加収集すべき資料があればユーザシステム１００で追加の資料収集が実行される。 - 特許庁 - To provide a packaging system for automatically storing a small box in an exterior box in a packaging pattern according to the small box of different mode and size, and a corrugated fiberboard box favorably used in the packaging system.
前記形態および大きさの異なる小箱に応じた包装パターンで前記小箱を自動的に前記外装箱に収容できる包装システム、および前記包装システムにおいて好適に使用できる段ボール箱の提供。 - 特許庁 - A transformation part 24 for time delay coordinate system transforms data comprising the pixel values of respective pixels which constitute the image of an inspection target having a cycle pattern formed thereto to the data of a time delay coordinate system of a dimension (m) (m is an integer of 2 or above).
時間遅れ座標系変換部２４は、周期パターンが形成された検査対象物の画像を構成する各画素の画素値からなるデータを次元ｍ（ｍは２以上の整数）の時間遅れ座標系のデータに変換する。 - 特許庁 - The combustion dynamics reduction system (90) includes at least one of a boundary layer perturbation mechanism and an acoustic wave introduction system which disrupt a flow pattern of the fuel-air mixture within the at least one pre-mixer (38, 39).
燃焼ダイナミックス低減システムは、少なくとも１つのプレミキサ３８、３９内部で燃料−空気混合気の流れパターンを分裂させる境界層摂動メカニズム及び音響波導入システムの少なくとも１つを含む。 - 特許庁 - The managing system 1 predicts the optimum operation pattern of the fuel cell system of users so that the energy bill comes to be the lowest based on the future schedule of the users and various data accumulated in the data accumulating device.
この管理システム１で、各ユーザのこれからのスケジュールとデータ蓄積装置に蓄積されている様々なデータから消費される光熱費が最も安くなるように各ユーザの燃料電池システムの最適運転パターンを予測する。 - 特許庁 - An image pattern generated by the mirror device 103 is projected onto the base body 107 applied with the photosensitive agent, and imaged to the image sensor 110 by an imaging optical system 109, a half mirror 105 and a projecting optical system 106.
ミラーデバイス１０３で生成された画像パターンを感光剤の塗布された基体１０７上に投影し、この投影像を撮像光学系１０９とハーフミラー１０５と投影光学系１０６によってイメージセンサ１１０に結像させる。 - 特許庁 - To generate a switching pattern that is superior in reduction of harmonic noise and the number of switching times in an AC-AC direct converter which controls a bidirectional switch by a spatial vector modulation system, using a control method of virtual DC link control system.
制御法を仮想ＤＣリンク方式とし、空間ベクトル変調方式で双方向スイッチを制御する交流−交流直接変換装置において、高調波ノイズやスイッチング回数の低減に優れたスイッチングパターンを生成する。 - 特許庁 - This lithographic apparatus has a plurality of columns 25 comprising an illumination system, an array of individually controllable elements for imparting a pattern to the cross section of each beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beams onto the substrate.
リソグラフィ装置は、照明システムと、各ビームの断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、基板にパターン化されたビームを投影する投影システムからなる複数のカラム２５を備える。 - 特許庁 - To provide a vehicle cabin air conditioning system capable of operating the vehicle cabin air conditioning system at a proper timing by analyzing an action pattern of a driver, and efficiently arranging cabin environment when an occupant gets in.
本発明では、運転者の行動パターンを分析し、適切なタイミングで当該車内空調システムを動作させ、乗車時の室内環境を効率良く整えることができる車内空調システムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To improve operability and workability of a rotary tilling apparatus by controlling a speed changer in a traveling system or a speed changer of in a drive system of an implement so that a tilling pitch automatically becomes a set value without watching at a speed change display pattern.
変速表示パターンを見なくても自動的に耕耘ピッチが設定された値となるように走行系変速部又は作業機駆動系の変速部をコントロールして操作性、作業性の向上を図ることを目的とする。 - 特許庁 - In the exposure apparatus, an exposure of a substrate P is carried out by filling at least a portion of the space between a projection optical system PL and the substrate P with a liquid 50 and projecting the image of a pattern onto the substrate P via the projection optical system PL.
露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁 - An FEC operation system judgement part 64 uses the information of the L value and the D value acquired by the L value and D value judgement part and the reception history of a base sequence number and judges an FEC operation system by the pattern of the base sequence numbers of L pieces of ColFEC packets.
FEC演算方式判定部６４はL値D値判定部より取得するL値D値の情報と基底シーケンス番号の受信履歴を使用し、L個のColFECパケットの基底シーケンス番号のパターンによりFEC演算方式を判断する。 - 特許庁 - An image data encoding section 103 changes the input image data to YCbCr color system in case of a color pattern, and performs JPEG compression of the input image data in RGB color system, as it is, in other case and stores the compressed data in an HDD 105.
画像データ符号化部１０３は、色地紋であれば、入力画像データをＹＣｂＣｒ表色系に変換し、それ以外の場合にはＲＧＢ表色系のまま、JPEG圧縮を行ってＨＤＤ１０５に保存する。 - 特許庁 - A 1st coordinate transforming part 4 transforms the coordinates of the plotting coordinate system inputted from a coordinate inputting part 3 into the coordinates of the pattern coordinate system on the basis of the coordinate information generated by the part 2.
座標入力部３から入力される描画座標系の座標は、第１の座標変換部４において、座標変換情報生成部２で生成した座標情報をもとに、パターン座標系の座標に変換する。 - 特許庁 - To form a time pattern which includes a warm-up time, starting from a start until the initiation of supplying electric power and hot water, and termination time of system which includes stopping time of power generation and hot water formation, in a fuel cell cogeneration system.
燃料電池コージェネレーションシステムは、起動してから電力と温水との供給を開始するまで、暖気のための時間が必要であり、システムを停止した時も、発電と温水生成が瞬間的に停止するものでない。 - 特許庁 - In the pattern drawing system, a plurality of light beams emitted from a light source unit are guided to each of a plurality of irradiation regions 61 arrayed at a specified pitch with respect to an X direction on a substrate by an optical system.
パターン描画装置では、光源ユニットから出射される複数の光ビームが、光学系により基板上においてＸ方向に関して一定の照射ピッチで配列される複数の照射領域６１のそれぞれへと導かれる。 - 特許庁 - To provide a mobile communication system, a transmitter, and a transmission signal generation method, with timing error being reduced with a simplified constitution in a system using, for communication, a predetermined pattern where a plurality of circulation shifts are defined for the same sequence.
同じシーケンスに対して複数の循環シフトを定義した所定のパターンを通信に用いる方式において、単純な構成でタイミング・エラーを低減した移動通信システム、送信装置、および送信信号生成方法を提供する。 - 特許庁 - The lithography apparatus has a lighting system that provides a radiation beam, a support structure for supporting a product patterning device that adds a product pattern indicating a feature of a product device to a profile of the radiation beam from the lighting system, and a measuring-target patterning device that adds a measuring target pattern indicating a measuring target to the profile of the radiation beam.
放射線ビームを提供する照明システムと、照明システムからの放射線ビームの断面に製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンを付与する製品パターン化デバイスを支持する支持構造と、放射線ビームの断面に、計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンを付与する計測ターゲット・パターン化デバイスとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁 - The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.
基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁 - The projection optical system for projecting a pattern formed on a first object onto a second object has a field diaphragm provided on the nearest optical element to the second object in the projection optical system, for shielding the outside of a region of the second object, where the pattern is projected during projection.
第一の物体に形成されたパターンを第二の物体に投影する投影光学系において、当該投影光学系の前記第二の物体に最も近い光学素子に設けられ、前記投影時に前記第二の物体の前記パターンが投影される領域の外部を遮蔽するための視野絞りを有することを特徴とする投影光学系を提供する。 - 特許庁 - This starting device of the system to which the electric power is supplied from power source voltage, comprises a storage means for storing a specific detection pattern after starting processing, and vaporizes when the power source voltage is lowered, and a branching means for selecting a system of starting processing on the basis of the discrimination of the detection pattern.
電源電圧から電力を供給されるシステムの起動装置において、起動処理の後に所定の検知パターンを格納し、前記電源電圧が低下すると揮発する記憶手段と、前記検知パターンの判別に基づき前記起動処理の方式を選択する分岐手段とを備えることを特徴とするシステムの起動装置。 - 特許庁 - And the pattern RAM on the prescribed mask R is measured by the first measurement system 51 after the position relationship between the measurement visual field of the second measurement system 52 and the pattern RAM is determined, on the basis of the position information corresponding to the information when the existence of the identification information regarding the prescribed mask R is recognized in the stored information.
そして、所定マスクＲ上のパターンＲＡＭを第１計測系５１で計測する前に、記憶された情報の中に所定マスクＲに関する識別情報の存在が認識されるとその情報に対応する位置情報に基づいて、第２計測系５２の計測視野とパターンＲＡＭとの位置関係を決定する。 - 特許庁 - By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.
リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも２つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、２つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁 - In the method of printing a pattern part on a substrate by an inkjet system using an ink containing a catalyst and drying it, and forming the metal pattern by electroless plating processing on the pattern part, the catalyst is a soluble palladium metal complex, the ink containing the catalyst has a pH of 10.0-14.0, and the printed pattern part before the electroless plating processing has a surface roughness Ra of 30 to 45 nm.
基板の上に、触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字、乾燥し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する方法において、該触媒が可溶性パラジウム金属錯体でかつ該触媒を含有するインクｐＨが１０．０〜１４．０であり、前記無電解めっき処理前の印字パターン部の表面粗さＲａが３０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 - 特許庁 - An air-conditioning system control means and a cooling storage facility system control means control operation of each system based on data related to the optimum operation pattern from a main control means and control operation of each system by control data of default that they own when communication among the main control means and them is shut off.
空調系統制御手段及び冷却貯蔵設備系統制御手段は、主制御手段からの最適運転パターンに関するデータに基づいて各系統の運転をそれぞれ制御すると共に、主制御手段との間の通信が絶たれた場合には、自らが保有するデフォルトの制御データにて各系統の運転をそれぞれ制御する。 - 特許庁 - A plurality of dot pattern information printed on paper is stored in a computer system, and unused dot pattern information is assigned when a form is printed, and the dot patterns and form information are linked, and the dot patterns and the form are printed on sheets so that paper can be prepared.
ペーパに印刷されたドットパターン情報をコンピュータシステム内に複数保持しておき、帳票を印刷する時に未使用のドットパターン情報を割当て、ドットパターンと帳票情報を紐付すると同時に、紙上にドットパターンと帳票を印刷してペーパを作成する。 - 特許庁 - In the network test system for transmitting a test frame to a frame exchange device and detecting the alteration error, a pseudo random pattern is inserted into the payload part of the test frame and the value of a pseudo random pattern insertion position is added to an additional information part for test.
試験フレームをフレーム交換装置に送信して改変エラーを検出するネットワーク試験システムにおいて、前記試験フレームのペイロード部に擬似ランダムパターンを挿入し、試験用付加情報部に擬似ランダムパターンを挿入した位置の値を付加したことを特徴とするもの。 - 特許庁 - A confocal optical system projecting a grating pattern 34 via a projection lens 32 from the direction with no view disturbance in the measuring object region of the measured object 36, and focusing the grating pattern image on the light receiving surface 46 of a CCD 50 by a focusing lens 44 via a half mirror 42 is formed.
被測定物３６の測定対象領域に視野の遮りがない方向から格子パターン３４を投影レンズ３２を介して投影し、格子パターン像をハーフミラー４２を介して結像レンズ４４によりＣＣＤ５０の受光面４６に結像させる共焦点光学系を形成する。 - 特許庁 - The exposure apparatus that transcribes a pattern of a reticle 2 to a substrate 6 via a projection optical system 3, has a controller 14 that corrects an image of the pattern imaged on the substrate 6 according to a shape of the reticle 2 in a waiting state until start of an exposure operation.
本発明は、投影光学系３を介してレチクル２のパターンを基板６に転写する露光装置であって、露光動作が開始されるまでの待機状態における前記レチクル２の形状に応じて、前記基板６の上に結像される前記パターンの像を補正する制御器１４を備える。 - 特許庁 - By a CAD system 18, comprising a CAD tool and an operation controlling portion utilizing a mask-pattern data base, liquid-crystal driving and controlling signals are obtained so as to control the alignment of liquid-crystal molecules in the respective segments of a panel displaying portion 171 and to form a mask pattern for passing/intercepting exposure lights.
ＣＡＤツール及びマスクパターンデータベースを利用した演算制御部により構成されるＣＡＤシステム１８により液晶駆動制御信号が得られ、パネル表示部１７１における各セグメントで液晶分子の配向が制御され露光光が通過／遮断されるマスクパターンが形成される。 - 特許庁 - When the system receives a structural pattern which indicates an element or an element group in a document logical structure of a structuralized document and is designated by a user, an edit object item determining means determines edit object items to be edited among items constituting the structural pattern.
ユーザにより指示された、構造化文書の文書論理構造中の要素または要素群を指す構造パターンがシステムに与えられると、編集対象階項決定手段は、当該構造パターンを構成する項のうち、編集対象となる編集対象項を決定する。 - 特許庁 - The control system 9 performs the pressurize-operation prior to the recessing part prioritizing the pressurization of the green sand portion in the recessing part 32 on the pattern surface 30 by advancing the pressurizing body 70B faced or almost faced to the recessing part 32 on the pattern surface 30 among the pressurizing body group 7, prior to the other pressurizing bodies 70A, 70C, 70D.
制御系９は、加圧体群７のうち模型面３０の凹部３２に対向またはほぼ対向する加圧体７０Ｂを、他の加圧体７０Ａ，７０Ｃ，７０Ｄよりも優先的に前進させ、模型面３０の凹部３２内の生砂部分の加圧を優先させる凹部優先加圧操作を実行する。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating the reflection surface of a reflection mirror of a light fixture for a car, an evaluating system for a reflection surface, and a recording medium such that the correspondence between the reflection surface and the distribution pattern of light is defined and controllability of the distribution pattern of light for designing the reflection surface can be improved.
反射面と配光パターンとの対応が明確化されて、反射面設計時の配光パターンの制御性を向上することが可能な車両用灯具の反射鏡の反射面評価方法、反射面評価システム、及び記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The shot magnification etc., of an exposure system 21 is corrected by measuring the superimposing accuracy between the lower-layer pattern and an upper-layer pattern in a chip area, by measuring the patterns by using an evaluation device 11 utilizing a substrate current signal induced when an electron beam is projected upon an overlay mark.
重ね合わせマークに電子ビームを照射したときに誘起される基板電流信号を利用した評価装置１１を用いて、チップエリアの下層パターンと上層パターンを測定することで重ね合わせ精度を測定し、露光装置２１のショット倍率等を補正する。 - 特許庁 - A changeover part 81 of the audio system 2 reads equalizer setting patterns from a setting storage part 80, specifically, a pattern P1 for general roads, a pattern P2 for express ways, or the like according to the type of road indicated by the received information and sets and applies them to an equalizer part 23.
オーディオ装置２の切替手段８１は、受信した前記情報の表す道路種別に応じた前記イコライザー設定パタン、すなわち、一般道用パタンＰ１、又は高速道用パタンＰ２などを設定記憶部８０から読み出すとともにイコライザー部２３に設定適用する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI system, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut, overhang, etc., and a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist using the same.
ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンが形成可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供すること。 - 特許庁 - To perform optimum distortion compensation even when distortion compensation data which are difficult to pattern are not previously held in the case that at least one of AM-AM characteristics and AM-PM characteristics are irregular and difficult to pattern, in a transmitter of a wireless communication system adaptively performing digital pre-distortion.
ディジタルプレディストーションを適用的に行う無線通信システムの送信機において、ＡＭ−ＡＭ特性およびＡＭ−ＰＭ特性の少なくとも一方が不規則でパターン化が困難な場合に、そのパターン化が困難な歪補償データを予め保持していなくても最適な歪補償を行う。 - 特許庁 - A block sampling section 12a of a signal processing section 12 treats plural Bayer pattern pixels as one block under the control of a system control section 13 to divide a color filter pattern in a direction horizontal to sample data fed from each pixel of the block used for display.
信号処理部12は、システム制御部13の制御に応じてブロックサンプリング部12a でベイヤパターンの画素において複数の画素を一つのブロックとして扱って色フィルタパターンを水平方向に分割し、表示に用いるこのブロックの各画素から供給されるデータをサンプリングする。 - 特許庁 - To solve a problem of not obtaining a diversity effect since the radiation pattern of a chip antenna becomes the same pattern as that of the other antenna, in the case of making the chip antenna positioned at the terminal part of a mounting substrate along with the miniaturization of radio equipment to mount the antenna device of a diversity system.
ダイバーシチ方式のアンテナ装置において、これを実装する無線装置の小型化に伴いチップアンテナが検討されているが、その放射パターンが取り付け基板の端部に配置した場合、他方のアンテナの放射パターンと同バターンとなりダイバーシチ効果を得ることが出来ない。 - 特許庁 - The media recognition system comprises: an object management space; an object processing module; and a media object space for storing media objects produced by object processing, and a pattern definition list includes a plurality of action descriptions for defining script programs to be executed, attached to pattern formulae for designating the attribute of the object.
オブジェクト管理スペースと、オブジェクト処理モジュールと、オブジェクト処理で生成されたメディアオブジェクトを記憶するためのメディアオブジェクトスペースとからなり、パターン定義リストが、オブジェクトの属性を指定するパターン式に付随して、実行すべきスクリプトプログラムを定義した複数のアクション記述を含む。 - 特許庁 - Further, an external arithmetic unit in the system corrects the non-pattern light projected images into 2-dimensional images observed from nearly vertical direction of a specified face on the object, based on both image data and 3-dimensional configuration data of the non-pattern light projected images acquired by the 3-dimensional configuration sensing device.
外部演算装置は、３次元形状検出装置によって取得されたパターン光非投光画像の画像データと３次元形状データとに基づきパターン光非投光画像を対象物体の所定面の略鉛直方向から観察される平面画像に補正する。 - 特許庁 - To provide a pattern size guarantee system for a photomask which can decide whether the photomask is normal by automatically referring to and comparing measurement specifications (design value, size tolerance, etc.), with pattern size measurement results of the photomask obtained by a plurality of size measuring instruments.
複数の寸法測定装置で得られたフォトマスクのパターン寸法測定結果に対し測定仕様（設計値、寸法公差等）を自動的に参照、比較して、フォトマスクの合否判定を行うことができるフォトマスクのパターン寸法保証システムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a back of hand authentication system and a back of hand authentication method which verify the identity of a user by imaging the user's back of hand vein pattern and matching a branch point, a branch feature, and an optimum branch point weighted value of the vein pattern providing most stable optimum branch characteristics for an individual.
手の甲の静脈パターンを撮影して、個人に対する最適分岐特徴で最も安定的な静脈パターンの分岐点、分岐特性、最適分岐点加重値をマッチングし、使用者の本人可否を判断する手の甲認証システム及び手の甲認証方法を提供する。 - 特許庁 - The exposure apparatus includes a work stage holding a substrate as an exposure object, a mask stage 1 holding a mask M having a mask pattern as opposing to the substrate, and an irradiating means (exposure illumination optical system) irradiating the substrate with light for mask pattern exposure through the mask M.
この露光装置は、被露光材である基板を保持するワークステージと、マスクパターンを有するマスクＭを基板に対向させて保持するマスクステージ１と、マスクパターン露光用の光をマスクＭを介して基板に照射する照射手段（露光用照明光学系）とを備えている。 - 特許庁 - The conductor pattern forming ink is for forming the conductor pattern on a board by a droplet discharging method, and contains metal particles, ceramic particles, and water-system dispersion medium wherein the metal particles and the ceramic particles are dispersed.
本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基板上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、セラミックス粒子と、前記金属粒子および前記セラミックス粒子とが分散した水系分散媒とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an apparatus for performing a resist pattern inspection without deteriorating the performance of the inspection apparatus in which, when inspecting a resist pattern of a mask substrate using a short-wavelength and high output light source, outgas is generated to cause the deterioration of the performance of an optical system of the inspection apparatus.
マスク基板のレジストパターンを短波長、高出力光源を使用する検査装置を用いて検査するとアウトガスが発生し、検査装置の光学系の性能を劣化させる要因となるため、検査装置の性能を劣化させることなくレジストパターン検査を行う装置を提供する。 - 特許庁 - The imaging system 1 for imaging the circumference of a vehicle by a camera 2 and detecting the detection object by performing pattern matching in the imaged image performs pattern matching from a farther side in the image when a vehicle speed exceeds a prescribed value than when the vehicle speed is not higher than the prescribed value.
カメラ２により車両の周囲を撮像し、その撮像画像内をパターンマッチングによって検出対象物を検出する撮像システム１であって、車速が所定値を超える場合には車速がその所定値以下の場合と比べて画像内の遠方側からパターンマッチングを行う。 - 特許庁 - In a step 417, an optimum dosage for exposure for a measurement pattern for optical characteristic measurement of the projection optical system is temporarily determined on the basis of the detection result of a formation state of an image of the measurement pattern formed in a plurality of regions on a wafer through exposure processing in a step 406.
ステップ４１７において、ステップ４０６の露光処理によってウエハ上の複数の領域に形成された計測用パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性計測のための前記パターンの露光の最適ドーズ量が仮に決定される。 - 特許庁 - When irradiating light from a light source 1 onto a wafer W via an optical system 2 and 2a, either of the processes can be selected that a process wherein a pattern formed on the mask 6 is transferred as it is, and a process wherein an inverted image of the pattern formed on the mask 6 is transferred.
光源１からの光を光学系２、２ａを介しての、ウエハＷ上への照射は、マスク６に形成されているパターンをそのまま転写する工程と、マスク６に形成されているパターンの反転像を転写する工程とを選択自在におこなえるようにした。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method and manufacturing system of a plasma display panel, by which positional misalignment can be determined with proper accuracy at any given location in the panel, and the substrates can be glued together with a high accuracy, because the actual transparent electrode pattern and rib pattern in a cell can be observed without relying on an alignment mark.
アライメントマークによらず、セル内の実透明電極パターンとリブパターンとを観察可能であるため、精度良くまたパネル内の任意の箇所において位置ずれを確認でき、高精度の基板貼り合わせが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造システムを実現する。 - 特許庁
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