「pattern system」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目)

「pattern system」を含む例文一覧(3675)

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To provide a personal identification system to handle plural personal identification numbers or data (for example, fingerprint, iris pattern, etc., of the person) in place of the numbers by a single card.
単一のカードで複数の暗証番号あるいはそれにかわるデータ（例えば本人の指紋、虹彩紋など）を扱えるようにする個人認証システムを提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure system which can prevent thermal deformation of a reticle mark to the utmost and a mark part on a reticle stage and form a more accurate pattern.
レチクルマークやレチクルステージ上のマーク部の熱変形を極力防止し、より高精度なパターン形成を行うことができる荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure method capable of transferring a pattern accurately even when processing a substrate with immersion exposure via a liquid between a projection optical system and the substrate.
投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。 - 特許庁
The pattern of background moving on a display screen is displayed by displaying the aspect of the movement of the object OH in the world coordinate system based on the viewpoint SP.
このワールド座標系内でのオブジェクトＯＨの移動の様子を視点ＳＰに基づいて表示することにより、表示画面上で移動する背景の模様を表示する。 - 特許庁
To provide a system and technique of high energy efficiency in which interconnections are sustained even after the irradiation with control light is ceased after the connection pattern thereof is established.
インターコネクションの接続パターンが確立された後は、制御光の照射をやめてもその接続が維持される、エネルギー効率の高い装置と手法を提供する。 - 特許庁
In the system for monitoring around a mobile object, a sensor control device stores a sweeping pattern of a frequency sweep width corresponding to a distance measurement range provided by each distance measurement sensor.
移動体周辺監視システムにおいて、センサ制御装置は、各距離測定センサによる距離測定範囲に対応した周波数掃引幅の掃引パターンを記憶している。 - 特許庁
To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.
撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a liquid jet device which efficiently performs correction pattern-forming processing for correcting the deviation of a dot-forming position, and to obtain a liquid jet system.
ドット形成位置のズレを補正するための補正用パターンの形成処理を効率的に行う液体吐出装置、及び、液体吐出システムを実現することにある。 - 特許庁
To provide an exposure method that transfers a pattern with high accuracy even in immersion exposure on a substrate through liquid between a projection optical system and the substrate.
投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).
形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁
So, in the personal authentication system, time-series variation in a vein pattern along with the bending and stretching motion is defined as a dynamic feature amount to generate authentication information.
そこで、本システムにおいては、指の屈伸運動に伴う静脈パターンの時系列的な変化を動的な特徴量として定義して認証情報を生成する。 - 特許庁
To provide an illumination optical system for obtaining a desired effective light source in response to changes in pattern and relatively displacing each partial effective light source.
パターンの変化に応じて所望の有効光源が得られると共に、それぞれの部分有効光源を相対的に変位させることができる照明光学系を提供する。 - 特許庁
In the projection system, an image is obtained by a camera section 20 picking up the projection surface on which a pattern whose luminance changes stepwise and with regular intervals is projected by a projector section 10.
プロジェクター部１０によって輝度が段階的かつ等間隔に変化するパターンを投影した投影面を、カメラ部２０が撮影することにより画像を取得する。 - 特許庁
To provide a control system for a game machine controlling a game direction such as a display of a pattern, an output of voice, and a prediction of a big win by mutually linked to one another.
図柄の表示、音声出力および大当たり予告等の遊技演出を相互に関連付けて制御することができる遊技機の制御装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern changing system for a game machine enhancing interest by providing the changing patterns with variation in re-changing the patterns in a game machine having a re-change mechanism.
再変動機能を有する遊技機の再変動時の図柄変動パターンに変化を持たせ、興趣を高める遊技機の図柄変動方式を提供すること。 - 特許庁
To realize a colorful emission pattern with varieties by dividing a light-emitting face, in a flat-panel lighting system with a plurality of outer-electrode fluorescent lamps arrayed in parallel.
外部電極蛍光ランプを複数本、並列させた平面パネル型の照明装置において、発光面を区分して変化に富む多彩な発光パターンを実現する。 - 特許庁
While a reticle R and a wafer W are moved synchronously, the image of a pattern formed on the reticle R is scanned and exposed on the wafer W via a projection optical system 24.
レチクルＲとウエハＷとを同期して移動させながら、レチクルＲに形成されたパターンの像を投影光学系２４を介してウエハＷ上に走査露光する。 - 特許庁
The estimated detector positions for a detector element array 160, and the estimated motion pattern for an energy source 110 are defined with respect to the reference position in the imaging system 100.
検出器素子アレイ（１６０）の推定検出器位置及びエネルギー源（１１０）の推定移動パターンをイメージング・システム（１００）内の基準位置に対して規定する。 - 特許庁
To provide a method for keeping durability of an intaglio printing plate and accurately printing when an electrically-conductive pattern in a displaying device is formed by an intaglio offset printing system.
凹版オフセット印刷方式により、表示デバイスにおける導電性パターンを形成するに際して、凹版の耐久性を維持し精度よく印刷する方法を提供する。 - 特許庁
The method of applying the liquid resist ink for uneven pattern formation is characterized in that the liquid resist ink is atomized to the surface of the substrate, using a spray nozzle system.
本発明の凹凸パターン形成用液状レジストインキの塗布方法は、スプレーノズルシステムを用いて、液状レジストインキを基板上に噴霧することを特徴とする。 - 特許庁
To realize correction with high accuracy in a shirt correction time in a mask pattern correction method used for forming desired patterns on a wafer by a projection optical system.
投影光学系によりウェハ上に所望パターンを形成するために用いられるマスクパターン補正方法において、短い補正時間で高精度な補正を実現する。 - 特許庁
To provide a lithographic apparatus equipped with an alignment system which matches pattern grant equipment and/or a substrate by using a sensor and an actuator having a high price effect.
価格効果の高いセンサーおよびアクチュエータを用いてパターン付与装置および／または基板を整合させる位置合わせ装置を有するリトグラフ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a system for generating data patterns/test data, which avoid test omission and generate efficiently the data pattern/test data with high correlation among the data.
テスト漏れを回避でき、データ間での相関性が高く、しかも効率良く生成でき、信頼性が保証されたデータパターン/テストデータを生成可能なシステムを提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching system having a function of intermediate length measurement for producing a photomask in which the pattern line width of a dry-etched metal film always satisfies dimensional specifications.
ドライエッチングした金属膜のパターン線幅が常に寸法規格を満たしたフォトマスクを作製する中間測長機能を備えたドライエッチングシステムを提供する。 - 特許庁
To provide a method of controlling rapidly so that charge and discharge pattern required of a NaS battery system may not be disturbed as much as possible due to concentration of a heater consumption power.
ヒータ消費電力の集中により、ＮａＳ電池システムに要求される充放電パターンを極力乱さないように迅速に制御する方式の提案。 - 特許庁
The SACP (selected area channeling pattern) method includes a step of sending a charged particle beam to the surface of an object by using the particle optical system, and a step of detecting particle strength of a particle discharged from the object.
SACP法は、粒子光学系を用いて物体表面に荷電粒子ビームを向けるステップと、物体から放出した粒子の強度を検出するステップとを含む。 - 特許庁
To provide a print color information generating device and a printing system which allow a print pattern printed on a surface of a print object to be easily recognized.
印刷対象物の表面に印刷される印刷パターンを認識し易くすることができる印刷色情報生成装置および印刷システムを提供すること。 - 特許庁
To provide a solid-state imaging apparatus and a camera system in which the deterioration of output linearity and an increase of fixed pattern noise can be suppressed even if the quantity of light to be radiated is small.
光照射量が少ない場合でも出力リニアリティの劣化及び固定パターンノイズの増加を抑えることが可能な固体撮像装置及びカメラシステムを提供する。 - 特許庁
The exposure apparatus irradiates a workpiece W with a light beam of exposure light from an illumination optical system 160 through a mask M, and transfers a pattern Pa of the mask M to the workpiece W.
露光装置は、照明光学系１６０からの露光光の光束をマスクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭのパターンＰａをワークＷに転写する。 - 特許庁
To provide a system and a method for text speech synthesis that generate a meter of high quality by reducing deterioration in naturalness of a meter pattern due to an error in modification analysis.
係り受け解析の誤りによる韻律パターンの自然性の劣化を軽減し、高品質な韻律を生成するテキスト音声合成システム及び方法を提供する。 - 特許庁
Further, the research system 10-1 sets an evaluation value for detecting a failure answer for the research result set in response to the pattern of the research result set.
更に、調査システム１０−１は、調査結果集合のパターンに応じて、当該調査結果集合に対して、不良回答を検出するための評価値を設定する。 - 特許庁
To provide a light shielding apparatus, a lighting optical system, and an exposure apparatus that can precisely project a predetermined pattern on a surface to be irradiated for exposure, and a method of manufacturing a device.
所定のパターンを被照射面上に精度良く投影露光させることができる遮光装置、照明光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure device capable of achieving transfer of a pattern onto a substrate substantially free of defocusing without always providing a focus position detection system etc.
焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a resist material for production of a system LCD capable of forming a resist pattern with high resolution even under a low NA condition and preferably having good linearity.
低ＮＡ条件下でも、高い解像度でレジストパターンを形成することができ、好ましくはリニアリティの良好な、システムＬＣＤ製造用のレジスト材料を提供する。 - 特許庁
To restrain a player from feeling bothered when a stage performance is executed in a pattern variation game employing variation contents of a special variation system.
特殊変動系の変動内容となる図柄変動ゲームにおいて段階演出を実行させる場合に、遊技者に煩わしい思いを抱かせてしまうことを抑制すること。 - 特許庁
To prevent a magnetization pattern of adjacent recording columns, preliminarily recorded, from remaining without being overwritten in forming a recording column even though a single recording system is adopted.
Ｓｈｉｎｇｌｅ記録方式を採用しても、記録列形成時において、以前に記録した隣接する記録列の磁化パターンが、上書きされずに残ることを防止する。 - 特許庁
To provide a heat source system preventing large excess and deficiency of an amount of hot water of a hot water storage tank even when a living pattern regarding heat consumption of a user randomly changes.
使用者の熱消費に関する生活パターンが不規則に変化したとしても、貯湯槽の湯水の量が大きく過不足しないような熱源システムを提供する。 - 特許庁
The beams passed through the mask 6 exposes the wafer 9 and transfers the image of a pattern formed in the subfield of the mask 6 to the wafer 9 by forming images on the wafer 9 through an optical transfer system 8.
マスク６を通過したビームは、転写光学系８により、ウエハ９上に結像し、マスク６のサブフィールドに形成されたパターンの像をウエハ９に露光転写する。 - 特許庁
To restrain generation of glare at the time of switching shades in a headlight system for a vehicle with a structure changing a light distribution pattern by switching a plurality of shades.
複数のシェードを切り換えることで配光パターンを変化させる構造の車両用前照灯装置において、シェードを切り換える際のグレアの発生を抑制する。 - 特許庁
To provide an antenna system comprising a film-like or plate-like conductor pattern usable for a glass antenna, and capable of easily taking impedance matching with a receiver.
フィルム状又はプレート状の導電体パターンから成り、ガラスアンテナとして用いることが可能で、且つ、受信機とのインピーダンス・マッチングが容易なアンテナ装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an authentication system, an authentication device and a program of the authentication device for improving convenience when a random pattern is used as authentication information.
ランダムパターンを認証情報として用いる場合の利便性の向上を図ることができる認証システム、認証装置、及び、認証装置のプログラムを提供すること。 - 特許庁
The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light.
投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。 - 特許庁
To provide an electron beam exposure system which can reduce the memory of an electron beam exposure device and can eliminate the transfer of pattern data and conversion to control data for each electron beam exposure device.
電子ビーム露光装置のメモリを軽減でき、電子ビーム露光装置毎のパターンデータの転送及び制御データへの変換をなくす電子ビーム露光システムを提供できる。 - 特許庁
First, the system systematically retrieves and selects the player candidate suitable for a new business model by selecting the player candidate names for every business pattern based on the requisite fitness.
その要件適合度に基づいてビジネスパターン毎にプレイヤ候補名を選択することにより、まず、新しいビジネスモデルに適したプレイヤ候補を体系的に検索し選択する。 - 特許庁
To provide a business personnel arrangement system capable of deriving a personnel arrangement pattern for effectively utilizing human resources while guaranteeing safety and quality in a business.
業務における安全及び質を保証しつつ、人的リソースを有効に活用可能な要員配置パターンを導出することができる、業務要員配置システムを提供すること。 - 特許庁
To form a pattern by projecting a projection beam of radiation from a radiation beam system only on a function area of an array of independently controllable elements in lithography apparatus.
リソグラフィ装置において、放射線システムからの放射線の投影ビームを、個別制御可能な要素のアレイの作用領域のみに投影してパターンを形成すること。 - 特許庁
A location specifying station 104 specifies the location of the wireless node 102, in the xy coordinate system at that time, on the basis of an interference pattern acquired from the detection station 103.
位置特定局１０４は、検出局１０３から取得する干渉パターンに基づいて、そのときの無線ノード１０２の位置をｘｙ座標で特定する。 - 特許庁
The KTR Type 001 diesel multiple unit does not support the ATS-P type automatic train stop system (for a digital pattern transmission type), and Kitakinki Tango Railway KTR Type 8000 diesel multiple unit for 'Tango Discovery' was used for the operation of Tango Explorer.
KTR001形が自動列車停止装置ATS-P形（デジタル伝送パターン形）に対応しないため、「タンゴディスカバリー」用の北近畿タンゴ鉄道KTR8000形気動車で運行を行う。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide a garbled pattern detection method of a digital system capable of detecting even a garbled parameter caused by a hardware malfunction such as a connection failure or the like in a control board.
制御基板における接続不良等のハードウェアの不具合によるパラメータ化けをも検出することができるディジタルシステムのパラメータ化け検出方法を提供する。 - 特許庁
To provide a living watching system capable of surely and visually discriminateably expressing a living activity without missing it at living pattern display.
生活パターン表示に、短時間の生活動作をも漏らすことなく確実に、しかも視覚ではっきりと判別可能に現わすことができる生活見守りシステムを提供する。 - 特許庁

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