「pattern system」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目)

「pattern system」を含む例文一覧(3675)

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The lamp for a vehicle includes light-emitting elements 26Ra, 26La, and parabola optical system reflectors 24R, 24L, and forms a light distribution pattern containing slant cutoff lines.
車両用灯具は、発光素子２６Ｒａ，２６Ｌａと、パラボラ光学系リフレクタ２４Ｒ，２４Ｌとを備え、斜めカットオフラインを含む配光パターンを形成する。 - 特許庁
The product information management system utilizes the recording and hidden pattern of the non-contact IC tag of the optical diffraction IC tag display body.
本発明の製品情報管理システムは、上記のような光回折ＩＣタグ表示体の非接触ＩＣタグの記録と隠しパターンを利用するシステムに関する。 - 特許庁
In accordance with the coordinates of a pattern object OZ set on a world coordinate system and the coordinates of the view point SP, a distance ΔPx from the view point SP is found.
ワールド座標系に設定された図柄オブジェクトＯＺの座標値と、視点ＳＰの座標値とに基づいて、視点ＳＰからの距離ΔＰｘを求める。 - 特許庁
A fuel pattern determination unit 10 in an electronic control unit (ECU) 9 determines (selects) a combustion system of the internal combustion engine according to the required output of the vehicle.
電子制御装置（ＥＣＵ）９内の燃料パターン判定部１０は、車両の要求出力に応じて内燃機関の燃焼方式を判定（選択）する。 - 特許庁
Then a GSM(global system for mobile communications) antenna is structured with a D-net element 12 for the external antenna 2 and the antenna pattern formed on the antenna board 5.
そして、外部アンテナ２におけるＤネット用エレメント１２と、アンテナ基板５に形成されたアンテナパターンによりＧＳＭ用のアンテナが構成される。 - 特許庁
In the correction procedure, by applying data on the lens position to the relation, a distortion pattern of the image obtained by the optical system is deduced.
補正手順では、光学系のレンズポジションのデータを上記の関係へ当てはめることにより、光学系で撮影された画像の歪曲パターンを推測する。 - 特許庁
To provide an operation control apparatus of a cogeneration system capable of operating and controlling a cogeneration plant that matches life pattern of housing and the like.
家庭等の生活パターンにマッチして熱電併給装置を運転制御することができるコージェネレーションシステムの運転制御装置を提供すること。 - 特許庁
The first videotex service was developed in Britain. And each videotex in each country has its own name. In Japan, it is called the CAPTAIN(Character And Pattern Telephone Access Information Network) system
最初のビデオテックスは英国で開発された.ビデオテックスは国ごとに独自の名称がついている.日本では,CAPTAIN(キャプテン)システムと呼ばれている - コンピューター用語辞典
To provide a landing hall button system of an elevator capable of easily and quickly changing a pattern of a landing hall button in response to a landing hall of a plurality of story floors.
複数の階床の乗場に対応して、乗場ボタンのパターンを容易かつ迅速に変えることができるエレベータの乗場ボタンシステムを提供する。 - 特許庁
The inkjet recording system comprises an arrangement for determining the recording position of a dot at the time of binary recording with reference to a mask pattern when multipass recording is performed.
マルチパス記録を実行する際のマスクパターンを参照することによって、２値記録を行う際のドットの記録位置を定める構成を具備する。 - 特許庁
To provide an operation control device of a cogeneration system, which can control the operation of a co-generation unit by making it match the life pattern of a home or the like.
家庭等の生活パターンにマッチして熱電併給装置を運転制御することができるコージェネレーションシステムの運転制御装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a system that can use various kinds of medium and enables to flexibly change the pattern for gathering information in response to survey objects.
各種の媒体を使用することができ、調査対象に応じて情報収集のパターンを柔軟に変更することができる情報収集を行う。 - 特許庁
A test pattern generation system equipped with: EDA tools (11-16); and a file storage part (9) which holds information to which the EDA tools (11-16) refer is constituted.
ＥＤＡツール（１１〜１６）と、ＥＤＡツール（１１〜１６）が参照する情報を保持するファイル格納部（９）とを具備するテストパタン生成システムを構成する。 - 特許庁
In the system 10, a photoelectric cell layer 14 is provided between the pattern surface 20 of the first optical cover 12 and the second optical cover 16.
また、システム（１０）は、第１の光学カバー（１２）のパターン面（２０）と第２の光学カバー（１６）との間に光電池層（１４）を提供することを含む。 - 特許庁
To obtain an apparatus a method for X-ray beam exposure system, with which a pattern of high resolution can be obtained, using X rays within a range of 0.45 to 0.7 nm.
０．４５ｎｍ〜０．７ｎｍの範囲内のＸ線を用いて高解像度のパターンが得られるＸ線露光装置やＸ線露光方法を得ること - 特許庁
In this antenna system 15, a linear pattern conductor 1 is formed so as to be bent on a substrate face 3, and an opening edge 2 is made open, and the other edge is connected with a power feeding terminal 10.
基板面３に線状パターン導体１を屈曲させて形成し、開放端２を開放とし、他端を給電端子１０に接続する。 - 特許庁
To reduce uneven brightness to be generated on a display boundary part when the same pattern is displayed for a long time by an active matrix type liquid crystal display in a transverse electric field system.
横電界方式アクティブマトリクス型液晶表示装置で長時間同一パターン表示した際に、表示境界部に生じる輝度ムラを低減する。 - 特許庁
To provide lithography equipment in which a patterned radiation beam is projected on a substrate from a pattern-forming device by using a projection system.
投影系を用いてパターン形成装置から基板上にパターン化された放射線ビームを投影するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁
The illuminator comprises a diffraction optical element forming a light pattern having a desired illuminance distribution on a predetermined plane by using the luminous flux from a light source, and a focus optical system for projecting the light pattern formed on the plane on a prescribed plane wherein the image formation optical system has a variable magnification.
照明装置において、光源からの光束を用いて所望の照度分布を持つ光パターンを予め決めた平面に形成する回折光学素子と、該平面に形成される前記光パターンを所定の平面に投影する結像光学系とを有し、該結像光学系は倍率が可変であることを特徴とするようにする。 - 特許庁
To provide a hologram recording system and hologram reproducing system which always coincide position of an entrance pupil surface of an objective lens and an image location of a dot pattern of a spatial light modulator, and the position of the entrance pupil surface of the objective lens and a location for imaging a dot pattern reproduced on a surface of an optical receiver.
対物レンズの入射瞳面の位置と空間光変調器のドットパターンの結像位置及び対物レンズの入射瞳面の位置と受光器の面で再生したドットパターンを結像させるための位置とを常に一致させることが可能なホログラム記録装置及びホログラム再生装置を提供することにある。 - 特許庁
A laser lithography equipment comprises a mask 2 having a pattern, laser light source 52 for writing from which laser light for lithography is irradiated on the mask 2, projection optical system 4 for imaging and projecting a pattern image of the mask 2 on a substrate 65 for wiring, substrate holding and moving mechanism 66 for holding and moving the substrate 65 for lithography, and control system 5.
パタンを有するマスク２と、マスク２を描画用レーザ光により照明する描画用レーザ光源５２と、マスク２のパタン像を描画用基板６５に結像投影する投影光学系４と、描画用基板６５を保持し、描画用基板６５を移動させる基板保持移動機構６６と、制御システム５とを備える。 - 特許庁
To control, for example, a droplet shape by integrating a cooling means for forming a droplet by use of an MEMs (Micro Electro Mechanical System) that controls the temperature of a minute area, or a cooling pattern layer in a predetermined minute area, thereby controlling the cooling means or cooling pattern layer minutely.
本発明は、微小な領域を温度制御するＭＥＭｓ（Micro Electro Mechanical System）を用いて液滴を形成する冷却手段又は冷却パターン層を所定の微小な箇所に集積化することにより、冷却手段又は冷却パターン層を微小に制御して液滴の形状などを制御することができる。 - 特許庁
A defect is detected which is generated in a wafer on which a pattern is formed, and positional relationships between a coordination system for indicating a defect position used by an inspection equipment 1 for outputting the position where the detected defect is generated and a coordination system used in the design data of the pattern are set in multiple ways (steps S3 and S4).
パターンが形成されたウェハに発生した欠陥を検出し、検出した欠陥の発生位置を出力する検査装置１が使用する欠陥位置を指し示すための座標系と、パターンの設計データにおいて使用される座標系と、の間の位置関係を複数設定する（ステップＳ３、Ｓ４）。 - 特許庁
The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
５０ｎｍ未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁
The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁
The positional relation between a pattern light projection device and the camera is preliminarily determined, whereby the three-dimensional position of a characteristic point on a pattern in a camera coordinate system is measured from the principle of triangulation to determine the shape (equation) of the writing surface in the camera coordinate system, whereby the relative moving quantity of the pen tip is calculated.
あらかじめパターン光投影装置とカメラとの位置関係を事前に求めておくことにより、三角測量の原理から、カメラ座標系におけるパターン上の特徴点の３次元位置を測定して、カメラ座標系における書画面の形状(方程式)を求め、これによりペン先の相対的な移動量を算出する。 - 特許庁
The coma aberration of the optical system, shading of the light flux in the optical system and inclination of the main light beam of the illumination light with respect to the normal to a phase pattern forming plane W are inspected, based on the change in the asymmetry of an image corresponding to the edge of the phase pattern which is respectively detected in a defocused condition in the image detecting means.
像検出手段において各デフォーカス状態で検出された位相パターンのエッジに対応する像の非対称性の変化に基づいて、光学系のコマ収差、光学系における光束ケラレ、および位相パターンの形成面（Ｗ）の法線に対する照明光の主光線の傾きを検査する。 - 特許庁
To provide a light emission device, a light emission system, a light emission pattern changing method, a light emission method for a light emission system and an irradiation device, which can change setting of quite a new light emission control pattern in noncontact manner even after manufacturing a light emission device, without oppressing a space for light emission means and a solar cell.
発光手段及び太陽電池のスペースを圧迫することなく、発光装置の製造後であっても全く新たな発光制御パターンを非接触で設定変更することが可能な、発光装置、発光システム、発光パターン変更方法、発光システムの発光方法、及び照射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a machine translated result selecting system for giving the right analyzed result by preventing a method for giving an unsuitable score to a partial pattern and by preventing the generation of a state that the partial pattern does not exists, which are generated in respect of a specified input source language sentence in a conventional ordinary filtering analysis system.
従来の通常型フィルタリング解析方式における特定の入力原言語文に対して発生した、部分パターンに対する不適切なスコアの付与法、部分パターンが存在しない状態が発生しないようにして正しい解析結果を与える機械翻訳結果選択方式を提供することを目的とする。 - 特許庁
Lithographic equipment is provided with an illumination system for supplying a radiation beam, a pattern applying device integrated with the array of respectively controllable elements for applying a pattern to a beam cross-section, a substrate table for supporting a substrate and a projection system integrated with a micro-lens array for projecting a beam to the target of the substrate.
リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。 - 特許庁
The photomask is classified into photomasks mounted with mask patterns 1, 2, 5, and 7 having pattern characteristics of a line system used principally to form a wiring layer of a semiconductor device and photomasks mounted with mask patterns 3, 4, 6, and 8 having pattern characteristics of a hole system used principally to form a connection hole of the semiconductor device.
上記フォトマスクを、半導体装置の主に配線層の形成に用いられるライン系のパターン特性を持つマスクパターン１、２、５、７を搭載したフォトマスクと、半導体装置の主に接続孔の形成に用いられるホール系のパターン特性を持つマスクパターン３、４、６、８を搭載したフォトマスクとに分類する。 - 特許庁
To provide a projection optical system which has the focus position less varied and allows a deep focal depth to be secured and to provide an exposure device and a method of forming a circuit pattern which allow a minute pattern to be faithfully and efficiently formed by providing the projection optical system.
合焦位置変動が少なく実質的に深い焦点深度を確保することができる投影光学系を提供するとともに、当該投影光学系を備えることで微細なパターンを忠実に且つ効率的に形成することができる露光装置及び回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.
リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁
A road side base station in the inter-road-vehicle radio communication system is provided with an antenna system with a 1st radiation pattern for the consecutive communication service and a 2nd radiation pattern for a spot communication service, with a 1st radio communication unit conducting the consecutive communication service and with a 2nd radio communication unit conducting the spot communication service.
路車間無線通信システムにおいて、道路側基地局は、連続通信サービスを行う第１放射パターンとスポット通信サービスを行う第２放射パターンを有するアンテナ装置と、連続通信サービスを行う第１無線通信装置と、スポット通信サービスを行う第２無線通信装置を備える。 - 特許庁
The ultrasonic system to be activated with a plurality of diagnostic modes comprises an impact sensor to perceive an impact applied to the ultrasonic system by the user and operate so as to generate impact pattern information, and a controller to operate so as to control the ultrasonic system's activation based on the impact pattern information.
本発明による、複数の診断モードで駆動する超音波システムは、ユーザから前記超音波システムに加えられる衝撃を感知して衝撃パターン情報を形成するように動作する衝撃感知部と、前記衝撃パターン情報に基づいて前記超音波システムの駆動を制御するように動作する制御部を備える。 - 特許庁
An illumination optical system IOP switches (or simultaneously) first and second lights of different wavelengths to irradiate a reticle R1 having a first pattern positioned on a first surface and a reticle R2 having a second pattern positioned on a second surface via a sub optical system 60 with the lights as an illumination light IL.
照明光学系ＩＯＰにより、波長の異なる第１の光と第２の光とが、切り替えて（又は同時）に、第１面上に配置された第１パターンを有するレチクルＲ１、及び第２面上に配置された第２パターンを有するレチクルＲ２に副光学系６０を介して、照明光ＩＬとして照射される。 - 特許庁
An encoding method of the variable guilloche pattern includes: generating a font system including a base pattern and a geometric distortion of the base pattern, the geometric distortion being related to decodable symbols which are capable of being selectively assembled into predetermined variable data; combining the geometric deformation of the base pattern as a predetermined representation of the variable data; and embedding the representation in the guilloche pattern comprising a plurality of base patterns.
本発明による可変データギロシェパターンの符号化方法は、ベースパターン及び前記ベースパターンの幾何学的変形物を含むフォント体系を作成し、前記幾何学的変形物が、選択的に組み合わせることにより所定の可変データを構成することのできる復号可能な記号にそれぞれ関連付けられており、前記ベースパターンの前記幾何学的変形物を前記可変データの所定の表現として組み合わせ、複数の前記ベースパターンからなるギロシェに前記表現を埋め込むことを含む。 - 特許庁
To provide various swiveling patterns without changing gears of a swiveling power transmission system by HST and prevent the mud form being pressed by a crawler in any swiveling pattern in a transmission provided with a linear power transmission system and a swiveling power transmission system.
直進動力伝動系と旋回動力伝動系とを備えるトランスミッションにおいて、旋回動力伝動系をＨＳＴで変速することなく様々な旋回パターンを現出させると共に、何れの旋回パターンにおいてもクローラによる泥押しを防止する。 - 特許庁
To provide a system and a method used to compensate for locally enlarged errors and/or focus errors that are generated due to the unevenness of the surface of a pattern generator, a substrate, and/or an optical element, at least in the projection system of a lithography system.
リソグラフィシステムのパターンジェネレータ、基板および／または少なくとも投影系内の光学素子の表面の不均一性によって生じる局部的な拡大エラーおよび／または焦点エラーを補償するのに使用されるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
The exposure system 100 irradiates an original plate 6 by an illumination optical system 4 containing the phase adjustment optical element 2 which converts linearly polarized light to non-polarized light, and projects a pattern of the original plate 6 on a substrate 8 by a projection optical system 7 to expose the substrate 8.
露光装置１００は、直線偏光を無偏光化する位相調整光学素子２を含む照明光学系４によって原版６を照明し、原版６のパターンを投影光学系７によって基板８に投影して基板８を露光する。 - 特許庁
In the image projection device equipped with a spatial light modulator for forming an image pattern, an illumination optical system for illuminating the spatial light modulator, and a projection optical system for projecting the image pattern, the image projection device further includes a driving mechanism that moves some or all of the projection optical system in an optical axis direction by making a shape memory alloy to elongate and contract, subjected to temperature change.
画像パターンを形成する空間光変調素子と、前記空間光変調素子を照明する照明光学系と、前記画像パターンを投影する投影光学系と、を備えた画像投影装置において、形状記憶合金を温度変化させて伸縮させることにより前記投影光学系の一部若しくは全てを光軸方向に移動させる駆動機構を有すること。 - 特許庁
When the antenna system is configured by at least two selectable different patterns in the antenna system, one or more signals requiring response are received from a certain apparatus, the pattern of the antenna system is decided based on the signals to be received, and response to the one or more signals requiring response is transmitted at the pattern to be decided.
上記アンテナシステムが少なくとも２つの選択される異なるパターンで構成される場合に、上記アンテナシステムにおいて、ある装置から応答を要求する１つ又は複数の信号を受信し、上記受信される信号に基づいて、上記アンテナシステムのパターンを決定し、上記応答を要求する１つ又は複数の信号に対する応答を、上記決定されるパターンで送信する。 - 特許庁
The profile pattern of a motor for driving the system 102 of a read sequence control means 26 is calculated several times and stored before reading it several times, the profile pattern of each time is executed, and subsequently, a system controlling means 24 instructs the means 26 to select a profile pattern for the next reading each time a read end signal is transmitted to the means 24.
読み取りシーケンス制御手段２６走査光学系１０２を複数回分駆動するためのモータのプロファイルパターンを複数回の読み取り前に演算して記憶し、各回のプロファイルパターンを実行した後、読み取り終了信号をシステム制御手段２４に対して送る毎にシステム制御手段２４が読み取りシーケンス制御手段２６に対して次の読み取り用のプロファイルパターンの選択を指示する。 - 特許庁
The EUV aligner comprises a first reflection optical system including illumination system mirrors 106-109 for guiding EUV light to a reticle 111, and a second reflection optical system including projection system mirrors 121-124 for guiding reflected light from the reticle 111 to a wafer 131, and transfers a pattern on the reticle 111 to the wafer 131.
ＥＵＶ露光装置は、ＥＵＶ光をレチクル１１１へ導く照明系ミラー１０６〜１０９を含む第１反射光学系と、該レチクル１１１からの反射光をウエハ１３１に導くための投影系ミラー１２１〜１２４を含む第２反射光学系を有し、レチクル１１１上のパターンをウエハ１２１に転写する。 - 特許庁
The apparatus comprises a sensor system for detecting the intensity distribution of the projection radiation pattern and an alignment system, capable of controlling such that the position and/or orientation of at least one of the array of plural elements, the components of the projection system, and the illumination system is adjusted on the basis of the detection result.
装置は、投影放射パターンの強度分布を検出するセンサ・システム備え、その検出結果に基づいて複数のエレメントのアレイ、投影システムの構成要素及び照明システムのうちの少なくとも１つの位置及び／又は配向が調整されるように制御することができる位置決めシステムとを備える。 - 特許庁
Pattern data in the part for performing image drawing by the variable shaping system are assigned to an electron beam image drawing device whose luminance is high, and data in the part for performing image drawing by the collective figure system are assigned to an electron beam image drawing device whose luminance is low.
可変成形で描画を行う部分のパターンデータを輝度の高い電子ビーム描画装置に割り当て、一括図形方式で描画を行う部分を輝度の低い電子ビーム描画装置に割り当てる。 - 特許庁
To provide an operator monitoring system for a POS system for monitoring centralizingly in a headquarter server a pattern of a key operation concerned in doubtful sales processing by an operator of each POS terminal device in a plurality of stores.
複数の店舗におけるＰＯＳ端末装置のオペレータによる疑わしい販売処理に係るキー操作のパターンを本部サーバにおいて集中的に監視するＰＯＳシステムのオペレータ監視システムを提供する。 - 特許庁
The patterned resin layer 1 expressing a marble pattern is formed by spraying a paint 14 to the inner surface of a casting mold 3 by together using an air spray system and an airless spray system.
エアー方式のスプレー噴射とエアーレス方式のスプレー噴射とを併用して注型用金型３内の内面に塗料１４を噴射することにより大理石柄を表現する柄付き樹脂層１を形成する。 - 特許庁
To provide a system for producing a tire model, which system can quickly produce a three-dimensional tire model which is strictly equivalent to an actual tire to details based on measured three-dimensional coordinates of the tread pattern of the actual tire.
実タイヤのトレッドパターンの３次元座標値を測定し、３次元座標値に基づいて実タイヤと細部まで厳密に同一な３次元タイヤモデルを短時間で作成するタイヤモデルの作成システムを提供する。 - 特許庁
A board is exposed at a specified pattern through a projection optical system after projection magnification of the projection optical system is adjusted based on measurement result of a mark formed on the board placed on a board stage.
基板ステージ上に載置された基板上に形成されているマークの計測結果に基づいて投影光学系の投影倍率を調整した後に、投影光学系を介して基板を所定パターンで露光する。 - 特許庁

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