「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 73 74 次へ＞- An angular distribution of exposure light exposing a substrate is measured using an exposure apparatus having an illumination optical system that illuminates a mask using light from a light source and a projection optical system that projects a mask pattern on the substrate.
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置を用いて、基板を露光する露光光の角度分布を計測する。 - 特許庁 - When a two-dimensional pattern of a light spatially modulation through a DMD 80 passes through an image side telecentric first image formation optical system 51 to form an image, magnification of the image is adjusted through a magnification adjusting optical system 53.
ＤＭＤ８０で空間光変調された光の２次元パターンを像側テレセントリックな第１結像光学系５１を通して結像させる際の結像倍率を倍率調節光学系５３によって調節する。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording medium of a discrete system or a bit pattern system, with high manufacturing efficiency, wherein the floating characteristics of a head is made stable, even if the ruggedness remains on the surface of the medium and which can satisfy high recording density.
ディスクリート方式、または、ビットパターン方式の磁気記録媒体で、表面に凹凸が残存してもヘッドの浮上特性が安定し、高記録密度に対応できる磁気記録媒体を高い生産効率で提供する。 - 特許庁 - Also, by having both a low resolution optical system and a high resolution optical system, both a circular or a rectangular pattern defect and a defect of fine line width such as an CD error can be detected simultaneously.
さらに、低解像度光学系と高解像度光学系の両方を具えることにより、円形又は矩形のパターン欠陥とＣＤエラーのような微細線幅の欠陥の両方を同時に検出することができる。 - 特許庁 - The exposure device exposes the substrate P by filling at least a part of space between a projection lens system PL and the substrate P with the liquid 50, and by projecting an image of the pattern on the substrate P through the projection lens system PL.
露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁 - The operation system 4 positions the substrate 1 relatively to the projection system 3, projects the patterning radiation beam on a target portion of the substrate 1, and adjusts pattern data based upon the detection result to perform temperature compensation.
作動システム４により基板１を投影システム３に対して位置決めし、パターン化放射線ビームを基板１の目標部分上に投影し、検出結果に基づいてパターンデータを調整して温度補償する。 - 特許庁 - In the oil immersion exposure device 100, a pattern of an original plate 2 is projected to a substrate 13 through a projection optical system 14 while an immersion space between a projection optical system 4 and the substrate 13 is filled with liquid.
液浸露光装置１００は、投影光学系４と基板１３との間の液浸空間に液体を満たした状態で投影光学系１４を介して原板２のパターンを基板１３に投影する。 - 特許庁 - The exposure equipment illuminates a negative plate by the light supplied from the light source using a lighting optical system, and exposes a substrate by projecting a pattern of the original plate onto the substrate via a projection optical system.
露光装置は、光源から提供される光を利用して照明光学系によって原版を照明し、該原版のパターンを投影光学系を通して基板に投影することによって該基板を露光する。 - 特許庁 - In the accounting and journalizing system using a computer, when an input person normally performs input, the system determines a journalizing pattern according to its own journalizing dictionary generating engine, and automatically generates and stores the journalizing dictionary.
コンピュータを用いた会計仕訳入力システムにおいて、入力者が通常に入力を行えば、システムが独自の仕訳辞書生成エンジンに基づいて、仕訳パターンを判定し、仕訳辞書を自動生成し蓄積する。 - 特許庁 - Amusement is enhanced since a determination probability is varied per each determining system C, L and R, easiness of entry to the pattern start holes 22 and 32 and 42 is varied, and the player can play a determining system C, L or R of one's preference.
判定確率が判定系Ｃ、Ｌ、Ｒ毎に異なり図柄始動口２２、３２、４２への入賞し易さが異なっているので、遊技者は自分の好みの判定系Ｃ、Ｌ、Ｒを狙うから興趣が高まる。 - 特許庁 - To provide a receiving apparatus capable of accurately discriminating channel types even in a digital communication system where a peculiar transmission pattern is not inserted and a digital radio communication system with difficulty securing an excellent transmission quality.
固有の送信パタンが挿入されていないデジタル通信システムや、良好な伝送品質の確保が困難なデジタル無線通信システムにおいても精度良くチャネル種別の識別が可能な受信装置を提供すること。 - 特許庁 - The headlight system 20 has a second lens system 52 with at least one lens operably related to at least one second light source 36 so as to prepare a hot spot section of the desired beam pattern.
本発明のヘッドライトシステム（20）は、所望のビームパターンのホットスポット部分を提供するよう少なくとも１つの第２の光源（36）と作動的に関連している少なくとも１つのレンズを備えた第１のレンズ系（52）を有する。 - 特許庁 - A DSP storage section 15 stores in advance a plurality of frequency characteristic patterns, which provides a frequency characteristic pattern optimizing quality of a received voice individually corresponding to different communication systems such as a cellular system and a PHS system.
ＤＳＰ記憶部１５には、セルラー方式、ＰＨＳ方式などの互いに異なる通信方式に個別に対応して受話音声の品質が最適となる複数の周波数特性パターンがあらかじめ記憶されている。 - 特許庁 - To provide a data cooperation system for reducing man-hours requiring definition change to be set for achieving data cooperation, and for easily performing such function extension as cooperation with a new system or the addition of a conversion pattern.
データ連携させるために設定する定義変更に要する工数を低減し、かつ、新規のシステムとの連携や変換パターンの追加などの機能拡張を容易に行うことができるデータ連携方式を提供する。 - 特許庁 - To provide an image reader which has an algorithm for removing the background of any image irrespective of the image pattern type, by giving an exchangeability to image characteristics, even if an analog system is changed to a digital system.
アナログ方式をデジタル方式に変更した場合でも画像特性に互換性を持たせることで、画像パターン種類によらず、いかなる画像の地肌も除去可能なアルゴリズムを有する画像読み取り装置を提供する。 - 特許庁 - This aligner is provided with an illuminating optical system which illuminates a mask 51 having a pattern to be transferred on a wafer 91, and a projection optical system which projects a charged particle beam which has passed the mask 51 on the wafer 91.
本露光装置は、ウエハ９１上に転写すべきパターンを有するマスク５１を照明する照明光学系と、マスク５１を通過した荷電粒子線をウエハ９１上に投影する投影光学系を備える。 - 特許庁 - An illuminating optical system which projects lighting light upon a mask 27 and a projection optical system 29 which projects lighting light upon a substrate 30 are provided, and the pattern of the mask 27 is transferred to the substrate 30 by projecting the illuminating light rays.
マスク２７に照明光を照射する照明光学系と、照明光を基板３０上に投射する投影光学系２９とを備え、照明光の照射によってマスクのパターンを基板上に転写する。 - 特許庁 - To provide a transmission diversity system which allows a higher throughput than a conventional soft combining system to be obtained and eliminates a need of changing a transmission pattern in a three-sector base station regardless of movement within a cell of a mobile station.
従来のソフトコンバイニング方式に比べて、高いスループットが得られ、３セクタ構成の基地局において移動局がセル内で移動しても、送信パターンを変更する必要が無い送信ダイバーシティ方式を提供する。 - 特許庁 - The exposing device for exposing a substrate by projecting the image of an original pattern onto the substrate with the use of a projection optical system, includes a sensor for detecting light emitted from the projection optical system toward a substrate stage.
原版のパターンの像を投影光学系によって基板に投影して前記基板を露光する露光装置であって、基板ステージ内に投影光学系から出射された光を検知するセンサを備える。 - 特許庁 - To provide a system which can continue monitoring even if a silent trouble that a path pattern, to be inserted for data error between packages, is not inserted in a normal way in a system which makes a data communication between packages.
パッケージ間でデータ通信を行うシステムであって、パッケージ間のデータ誤りのために挿入されるパスパターンが正常に挿入されない、サイレント障害が発生しても監視可能なシステムの提供を目的とする。 - 特許庁 - The projection optical system which projects a pattern of a first object on a second object has a birefringence correction means, which corrects the birefringence property of the optical element included in the projection optical system.
第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。 - 特許庁 - The image forming characteristic fluctuation predicting method concerns predicting image forming characteristic fluctuation of the projection optical system in an exposing device for projecting a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate via a projection optical system.
マスク上に形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する露光装置における前記投影光学系の結像特性変動を予測する結像特性変動予測方法。 - 特許庁 - To provide a module management control system capable of constructing a system for managing a processing process by setting and instructing the connection between a plurality of modules having segmentalized processing functions by a cell pattern displayed on a screen.
本発明は、細分化した処理機能を持つ複数のモジュール間の接続を画面上に表示されたセル図形で設定指示し、処理工程を管理するシステムを構築できるモジュール管理制御システムを提供する。 - 特許庁 - In an optical system 4 of a laser device 1 including at least one diffraction element 7, dichroic mirrors 8 and 9, and reflection mirrors 10 and 11, a pattern 6' of a guide laser beam 3 is adjusted to a pattern 6 of a processing laser beam 2.
レーザ装置１の光学系４は、少なくとも１つの回折素子７、二色性ミラー８、９及び反射鏡１０、１１を含んで構成され、案内用レーザ光線３のパターン６′が加工用レーザ光線２のパターン６に適合される。 - 特許庁 - Light emitted from a light source in a detection section 110 is radiated to the contrast pattern via an optical fiber 130 moving with encoder wire 250, and the light reflected on the contrast pattern is transmitted to a photoelectric conversion system in the detection section 110.
エンコーダーワイヤー２５０と共に移動する光ファイバー１３０を介して、検出部１１０内の光源から発せられた光が明暗パターンに照射され、明暗パターンで反射された光が検出部１１０内の光電変換系に伝送される。 - 特許庁 - The storage control system discriminates whether a data pattern of data to be exchanged (data, hereinafter) with a host device suits any of one or more data patterns not for writing included in prepared information on the data pattern not for writing.
記憶制御システムは、上位装置との間でやり取りするデータ（以下、データ）のデータパターンが、予め用意されたライト対象外データパターン情報に含まれる１又は複数のライト対象外データパターンのいずれかに適合するか否かを判別する。 - 特許庁 - The light supply optical system makes a projection magnification of the intermediate image of the first pattern along an incident face of the first measuring beam to the tested face different from that of the intermediate image of the second pattern along an incidence face of the second measuring beam to the tested face.
送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 - 特許庁 - The system is equipped with a scanning electron microscope 30 for measuring a pattern line width in a vacuum chamber 20 for dry etching so as to carry out intermediate length measurement of a pattern line width while a dry-etched photomask substrate 10 is mounted in the vacuum chamber for dry etching.
ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。 - 特許庁 - As a different dot pattern is printed on every tool for designing the electronic form on the slip 3 for the ruled line, the design system 100 specifies a tool used for the design based on positional coordinates on the dot pattern included in the entered data.
罫線用帳票３は電子フォームを設計するツール毎に異なるドットパターンが印刷されているため、設計システム１００は、記入データに含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて設計の際に使用するツールを特定する。 - 特許庁 - To provide a transmission for swiveling a machine body by changing gears of a swiveling power transmission system in a plurality of stages, capable of selecting a desired gear change operation pattern, and smoothly swiveling the machine body in any gear change operation pattern.
旋回動力伝動系を多段に変速して機体を旋回させるトランスミッションにおいて、所望の変速操作パターンを選択可能にすると共に、何れの変速動作パターンにおいても、機体を滑らかに旋回させることを可能にする。 - 特許庁 - The bar code demodulation system comprises a data table generating means 1 for converting the dot pattern of a bar code into a data table where the pattern is expressed by dot numbers corresponding to each bar width in order of arrangement, and a demodulating means 2 for demodulating the bar code according to the data table.
バーコードのドットパターンを、その配列順序に沿って各バー幅に対応するドット数で示したデータテーブルに変換するデータテーブル生成手段１と、このデータテーブルに基づいて上記バーコードの復調を行う復調手段２とを備える。 - 特許庁 - A pattern memory 17 and a pattern memory of an input circuit are stored with all data patterns discriminatingly, according to whether or not there is a problem as a result of a data transfer check at the start of the system so that data patterns having problems correspond uniquely to normal ones.
パターンメモリ１７と入力回路のパターンメモリには、システム起動時におけるデータ転送チェックに結果、問題の有無により全データパターンが分別記憶され、かつ問題有りのものは正常なものと一意に対応付けして記憶されている。 - 特許庁 - To provide a gas feeding center system to early and accurately confirm a using pattern with the lapse of time classified by a gas feeding block and be capable of stabilizing gas supply based on the using pattern and increasing the efficiency of a gas feed service.
ガス供給ブロックごとの経時的使用パターンを早期にかつ正確に確認し、この使用パターンに基づいて、ガス供給の安定化を図ると共にガス供給業務の効率化を図ることのできるガス供給センターシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide a solar cell module circuit sheet capable of avoiding a problem such as a short circuit of a circuit pattern and the filling failure of sealing material in a clearance of the circuit pattern, and stably mounting a solar battery cell of a back contact system.
回路パターンのショートや回路パターンの間隙における封止材の充填不良の問題を回避することができ、バックコンタクト方式の太陽電池セルを安定的に実装することができる太陽電池モジュール用回路シートを提供する。 - 特許庁 - The entertainment system 10 is provided with an input judging means 200 for evaluating operation on the basis of similarity by comparing an input pattern image plotted on a monitor 18 with a reference pattern image according to an instruction from a operation device 16.
エンタテインメントシステム１０は、操作装置１６からの指示に従ってモニタ１８に描画された入力パターン画像を参照パターン画像と比較し、その類似度に基づいて操作上の評価を得る入力判定手段２００を設けて構成される。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.
ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To suppress a specific spectrum from being incurred by a periodic fixed pattern in an optical signal when transmitting an idle pattern in a PON (Passive Optical Network) system, for example, in a communication method.
通信方法において、例えばＰＯＮ（Ｐａｓｓｉｖｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｎｅｔｗｏｒｋ）システムでアイドルパターン送信時に、光信号において周期的な固定パターンによる特定のスペクトルが生じることを抑制することを目的としている。 - 特許庁 - Then, after the 5 V electric power source reaches an electric voltage Vus and a time Trs passes through, the system reset signals of sub-boards such as a special picture pattern control board sheet provided on a special picture pattern displaying device 32 are released to start respectively each of sub-boards.
続いて５Ｖ電源が電圧Ｖusに達してから時間Ｔrs後に特別図柄表示装置３２に備えられた特別図柄制御基板などのサブ化基板のシステムリセット信号が解除され、各サブ化基板それぞれの制御が開始される。 - 特許庁 - The method comprises a step of preparing an optical mask having a reference pattern and a comparison pattern, and projecting the optical mask on a prescribed image forming plane by using an exposure beam after loading the optical mask in an exposure system wherein a prescribed exposure beam is used.
基準パターン及び比較パターンを具備する光学マスクを準備して、所定の露光ビームを使用する露光システム内に光学マスクをローディングした後、露光ビームを使用して光学マスクを所定の結像面に投映する段階を含む。 - 特許庁 - As a result, the error, caused by manufacturing variations and aging effect, of an optical engine 1 of the light distribution pattern P5 emitted from the light deflector 2 can initially be corrected, and the initializing function for the pattern P5 is provided for this digital lighting system for a vehicle.
この結果、光学エンジン１の製造ばらつきや経時劣化に伴なう反射型デジタル光偏向装置２から照射される配光パターンＰ５の誤差を初期補正することができ、配光パターンＰ５のイニシャライズ機能を有することとなる。 - 特許庁 - In the lighting system 1, the indirect illumination, the light emitting pattern, the moving pattern of the spot lamps, or the like are changeable.
車両のドアを開閉すると、発光体による間接照明が開閉したドアから遠く離れた位置から左右に周回移動し、開閉したドア付近で移動が停止し、開閉したドアに対応したスポットランプが点灯して当該ドア付近を照明することとした。 - 特許庁 - The optical correlator 1 is a Vander-Lugt type which detects correlation between an input pattern and a reference pattern, and includes: a light source 11; an incident optical system 12; a first optical modulation part 21; a second optical modulation part 22; am imaging part 31; and a control part 41.
光相関器１は、入力パターンと参照パターンとの間の相関を検出するVander-Lugt型のものであって、光源１１、入射光学系１２、第１光変調部２１、第２光変調部２２、撮像部３１および制御部４１を備える。 - 特許庁 - A table showing the relation between the power supply capacity and the wiring width of the power circuit pattern is installed in the system beforehand, and then the pattern wiring width is calculated from data on part connection information, wiring length, the number of layers, and the power supply capacity, as well as from the the table.
電源回路パターンの電源容量と配線幅との関係を表すテーブルを予めシステムに設置しておき、部品間接続情報、配線長、層数、電源容量のデータと、上記テーブルからパターン配線幅を演算する。 - 特許庁 - A Q value showing an intensity difference between right and left edges of a signal obtained from the photoelectric detection of a pattern image is approximated to a specified order function, related to the defocus quantity Z of a pattern on a focus position corresponding with Gaussian mirror surface of the image formation optical system.
パターン像を光電検出して得られる信号の左右エッジの強度差を表すＱ値を、結像光学系のガウス像面に対応するフォーカス位置に対するパターンのデフォーカス量Ｚに関する所定次数の関数に近似する。 - 特許庁 - In a method of manufacturing the semiconductor device, a step of finely working a resist pattern, formed in a lithography step by isotropic etching using ozone and another step of etching a work by using the finely worked resist pattern as a mask are performed by means of the same etching system EM1.
オゾンを用いた等方性エッチングによってリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを細く加工する工程と、細く加工されたレジストパターンをマスクとして被加工材をエッチングする工程とを同一のエッチング装置ＥＭ１で行う。 - 特許庁 - The system detects a state of the windshield, applying pattern recognition to the captured image, and according to the state, determines operation and stop of a wiper arm 127, or a wiper operation pattern as an operation speed during the operation.
得られた画像データへパターン認識を適用してフロントガラスの状況の検知が行われると共に、状況に応じてワイパーアーム１２７の作動及び停止或いは作動時における作動速度としてワイパー作動パターンの決定が行われる。 - 特許庁 - A system control part 14 acquires each of element parameters corresponding to the enciphering pattern registered on this enciphering pattern definition table T3 from a parameter definition table T1 and calculates the enciphering parameter value on the basis of these respective element parameter values.
システム制御部１４はこの暗号化パターン定義テーブルＴ３に登録された暗号化パターンに対応する各要素パラメータ値をパラメータ定義テーブルＴ１から取得し、これらの各要素パラメータ値に基づいて暗号化パラメータ値を算出する。 - 特許庁 - To suppress a specific spectrum from being incurred by a periodic fixed pattern in an optical signal when an idle pattern is transmitted in a PON (Passive Optical Network) system, for example, in a communication method.
通信方法において、例えばＰＯＮ（Ｐａｓｓｉｖｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｎｅｔｗｏｒｋ）システムでアイドルパターン送信時に、光信号において周期的な固定パターンによる特定のスペクトルが生じることを抑制することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a re-variation processing system for game machine for applying variety to a game by reducing the bore of a player caused by the re-variation of a great success picture pattern temporarily stopped and displayed on a picture pattern display device just for a predetermined fixed number of times.
図柄表示装置に暫定的に停止表示された大当り図柄を、予め決められた固定回数だけ再変動することによる遊技者の飽きを軽減し、遊技に変化を与える遊技機用再変動処理方式を提供すること。 - 特許庁 - To provide a system which estimates regenerative energy available during traveling or deceleration from a traveling pattern or a deceleration pattern and enables a rolling stock to efficiently travel by effectively using the regenerative energy when the rolling stock is traveling.
鉄道車両の運行時において、走行パターンもしくは減速パターンから、走行中もしくは減速時に得られる回生エネルギーを予測し、その回生エネルギーを有効に使用することで列車を高効率に運転するシステムを提供すること。 - 特許庁
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