In the Product Servo Pattern writing, time interval between Time Aligned Patterns at an ID side track is measured to determine the writing timing of the Product Servo Pattern. Product Servo Pattern書き込みにおいて、ID側トラックのTime Aligned Pattern間の時間間隔を測定し、Product Servo Patternを書き込むタイミングを決定する。 - 特許庁
On the lower resist pattern, an upper resist pattern 23 that has the same pattern as the resist pattern 22 is formed (step 5). この上に、レジストパターン22と同じパターンの上部レジストパターン23を形成する(工程5)。 - 特許庁
PATTERN DATA GENERATION APPARATUS, PATTERN DATA GENERATION METHOD AND PATTERN FORMING METHOD パターンデータ生成装置、パターンデータ生成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁
MASK PATTERN FORMING METHOD マスクパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD パターン形成用組成物、パターン形成材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN COLLATING DEVICE, PATTERN COLLATING METHOD THEREOF, AND PATTERN COLLATING PROGRAM パターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラム - 特許庁
LIGHT PULSE PATTERN GENERATOR 光パルスパターン発生器 - 特許庁
FIBER STRUCTURE WITH PATTERN 柄付き繊維構造体 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD, GRAFT PATTERN MATERIAL, CONDUCTIVE PATTERN FORMATION METHOD AND CONDUCTIVE PATTERN MATERIAL パターン形成方法、グラフトパターン材料、導電性パターン形成方法、及び導電性パターン材料 - 特許庁
PATTERN DETECTING METHOD, PATTERN INSPECTION METHOD AND PATTERN CORRECTING AND PROCESSING METHOD パターン検出方法、パターン検査方法およびパターン修正、加工方法 - 特許庁
PATTERN PREPARATION PROCESSOR 模様作成処理装置 - 特許庁
MASK PATTERN CREATION METHOD マスクパターン作成方法 - 特許庁
PATTERN DATA GENERATION METHOD パターンデータ作成方法 - 特許庁
The first pattern and the second pattern have a reference pattern and a measurement pattern of different arrangement. 第1パターンおよび第2パターンは、構造形態の異なる基準パターンと計測パターンとを有する。 - 特許庁