「pattern」を含む例文一覧(50000)

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  • A phosphor pattern on a phosphor layer 104 is formed as stripes longer in a crosswise direction (horizontal direction) of a screen.
    蛍光体層104の蛍光体パターンは、画面の横方向(水平方向)に長いストライプ状に形成されている。 - 特許庁
  • The thickness of the pattern in the region permeating on the substrate member and in its depthwise direction is made smaller than that of the substrate member.
    基材上ならびに基材の深さ方向に浸透した領域のパターンの厚さは、基材の厚さより薄くする。 - 特許庁
  • After patterning of a resist is carried out, wet etching of a laminated metal film aside from a part to become a negative electrode auxiliary wiring pattern 3 is carried out.
    レジストをパターニングした後、陰極補助配線パターン3となる部分以外の積層金属膜をウェットエッチングする。 - 特許庁
  • At the same time, the light from the upper side of the flange part is radiated to transfer the spiral groove pattern onto the upper surface of the dynamic pressure bearing 2.
    同時に、鍔部の上側から光を照射してスパイラル溝パターンを動圧軸受2の上側面に転写する。 - 特許庁
  • Simultaneously, gate time is extended, to extend head data of the switched pattern data to the next measure.
    それと同時に、切り替えられたパターンデータの先頭データを次の小節まで延長するためにゲートタイムを延長する。 - 特許庁
  • In this liquid crystal display device, an insulating film pattern 4 is formed between lines 2 of at least either scanning lines 1 or signal lines 2.
    走査配線1もしくは信号配線2の少なくとも一方の配線2間に絶縁膜パターン4を形成する。 - 特許庁
  • A character pattern candidate forming area extracting means 1 extracts the connecting components of an area looking like a character from a picture.
    文字パターン候補形成領域抽出手段1は、画像中から文字らしい領域の連結成分を抽出する。 - 特許庁
  • To successfully implant Cu in a fine pattern and to suppress diffusion of Cu into an interlayer insulating film.
    微細パターンのCuの埋め込みが良好であり、Cuの層間絶縁膜中への拡散を抑制することを目的とする。 - 特許庁
  • To reduce a circuit size and a manufacturing cost, while enabling an integrated circuit to be tested by using a large volume of test pattern data.
    大きな容量のテストパターンデータによる集積回路を検査可能にしつつ、回路規模や製造コストを低減する。 - 特許庁
  • The dummy pattern 5 is also formed on a part corresponding to the periphery of a cavity, on a via-hole, or in an area without a conductor.
    また、キャビティの周囲に対応する部分やビアホールや導体の無い領域にダミーパターン5の形成を行なう。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND RISING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE SAME
    パターン形成方法、それに用いられるレジスト組成物、ネガ型現像用現像液及びネガ型現像用リンス液 - 特許庁
  • To provide a reticle for easily and highly accurately forming a fine pattern on a wafer and having high production yield.
    ウェハー上に微細なパターンを容易に精度よく形成することができ、製造歩留まりも良好なレチクルを提供する。 - 特許庁
  • Spacers 2 projecting in the form of a ring pattern at certain intervals are formed integrally with the outer peripheral surface of an injection pipe 1.
    注入管1の外周面に、一定間隔でリング模様状に突出した間隔材2を一体に形成する。 - 特許庁
  • Each of the antenna part 2, the surface acoustic wave element part 4, and the matching circuit part 5 is formed by the same metal pattern.
    アンテナ部2、表面弾性波素子部4、整合回路部5のそれぞれを、同一の金属パターンによって形成する。 - 特許庁
  • The character picture 53 can be displayed in a position apart from the display position of the display pattern body 52.
    このキャラクタ画像53を表示図柄本体52の表示位置から離れた位置に表示させることも可能である。 - 特許庁
  • An operating device manages 33 an electronic content by assigning a document ID for identifying the electronic content and a background pattern.
    演算装置は電子コンテンツを識別するための書類IDと前記背景パターンとを割りつけて管理33する。 - 特許庁
  • Finally, the specific actions are carried out on the description in accordance with the arrangement of the prescribed pattern (1206).
    そして最後に、前記所定のパターンの配置に対応して、前記特定のアクションを前記記述上で実行する(1206)。 - 特許庁
  • The magnetoelectric conversion elements 16, each comprising a substrate 18 and a semiconductor magnetoresistive pattern 20, are loaded on the insulating coating 14.
    絶縁皮膜14上に、基板18と半導体磁気抵抗パターン20とからなる磁電変換素子16を搭載する。 - 特許庁
  • Thus, the need of uselessly prolonging the distance between the transfer transistors is eliminated and the pattern occupancy area of the row decoder is reduced.
    よって、転送トランジスタ間の距離を無駄に広げる必要がなくなり、ロウデコーダのパターン占有面積を小さくできる。 - 特許庁
  • To provide a method for printing a composite pattern on a large substrate the area of which is larger than that of a mask in a short time.
    マスクより面積の広い大型基板に合成パターンを短い時間で印刷するための方法を提供する。 - 特許庁
  • At the same time, a first balloon 55 expressing the action sound in a character string is displayed on a special pattern display device 4.
    同時に、この動作音を文字列で表した第1の吹き出し55を特別図柄表示装置4上に表示する。 - 特許庁
  • After that, the shading component part assembled in the shading component pattern is attached on a substrate in which a plurality of light emitting elements are arranged.
    この後、遮光用の部品パターンで組み立てた遮光部品を、複数の発光素子を配列した基板に取り付ける。 - 特許庁
  • When the substrate W2 is exposed in the mask pattern, the substrate W2 is positioned by using the alignment information obtained, while the substrate W1 is exposed.
    露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition, having improved resolving power and adhesion and superior pattern-forming properties.
    解像力、密着性を向上させ、且つ優れたパターン形成性を有する感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • A depth, a pitch or the like of the ruggednesses of the pattern is suitably selected with weight given on a function of slip resistance.
    模様の凹凸は、滑り止めの機能を重視して、その凹凸の深さやピッチなどが好適に選定されている。 - 特許庁
  • A plate light guide body 2 is formed with a light reflection pattern 29 comprising a stepped prism on its upper surface 15.
    板状導光体2の上面15に、階段状プリズムから構成される光反射パターン29を形成する。 - 特許庁
  • To provide a heat-seal connector, and its manufacturing method, restraining micro cracks on a fine-pitch conductive pattern.
    ファインピッチの導電パターンに微細なクラックが生じるのを抑制できるヒートシールコネクタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The present invention relates to the exposure device which transfers a pattern formed on an original plate through a projection optical system to a substrate.
    本発明は、投影光学系を介して原版に形成されたパターンを基板に転写する露光装置である。 - 特許庁
  • The timing and the order of altering the emission color should follow the pattern previously defined or be determined at random.
    なお、発光色を変更させるタイミング、および順序は、あらかじめ定義されたパターンに従うか、あるいはランダムとする。 - 特許庁
  • A second resist pattern is formed on the nitride film 201 so that a part having the configuration of an eave is brought into an exposed state without any resist.
    庇形状部にレジストがなく露出した状態になるよう窒化膜201上部に第2のレジストパターンを形成する。 - 特許庁
  • When the area of the entire part of the pattern layer is 1, the part where the patterns 12 are formed has an area of 0.6 or more.
    パターン層全領域の面積を1とした場合、パターン12が形成される領域の面積は、0.6以上となる。 - 特許庁
  • A mask blank is provided, including a resist film formed on a substrate having a thin film, the thin film to be served as a transfer pattern.
    転写パターンとなる薄膜が形成された薄膜付き基板上にレジスト膜が形成されたマスクブランクスである。 - 特許庁
  • Constraint sequence data representing sequence data to be included in an extracted sequence pattern is previously specified.
    抽出された系列パターンが含んでいなければならない系列データを表す制約系列データが予め指定される。 - 特許庁
  • This structure prevents the occurrence of a pattern cut or a land separation caused by the heat cycle of a solder bonding or when the product is used.
    本構成で、ハンダ接合時や製品使用時の熱サイクルによるパターン切れやランド剥離の発生を防止する。 - 特許庁
  • To provide an exposure mask which can prevent a defect from being caused in a light shielding pattern, and to provide a method for manufacturing the mask.
    遮光パターンに欠陥が入るのを防ぐことができる露光用マスクとその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • A head unit 25 is detached from a base 21 of the head adjusting apparatus 3 to be attached to a base 121 of the pattern forming apparatus 5.
    ヘッド調整装置3のベース21からヘッドユニット25を取り外し、パターン形成装置5のベース121に取り付ける。 - 特許庁
  • An open-short inspection and a repair treatment of an electrode pattern after the electrode pre-calcining process can be done without any problem.
    電極仮焼成工程後の電極パターンに対してオープンショート検査およびリペア処理を問題なく実施できる。 - 特許庁
  • As the pattern of the beam, the beam cut distance of a center beam 3 is long in the case of a straight-line section (a), and side beams 4, 5 are short.
    このビームのパターンは、直線区間の場合(a)は、センタビーム3のビームカット距離が長く、サイドビーム4,5は短い。 - 特許庁
  • PATTERN AND MEMBER FOR EVALUATION OF FINE CONNECTION RESISTANCE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND EVALUATING METHOD USING SAME, AND MULTILAYERED BOARD
    微細接続抵抗評価用パターンおよび部材とその製造方法とそれを用いた評価方法、ならびに多層板 - 特許庁
  • To provide exposure equipment capable of forming a pattern of a curved line and a diagonal line easily and smoothly with high versatility.
    曲線や斜線のパターンを容易、且つ高い汎用性をもって滑らかに形成できる露光装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for pattern formation with new mechanism based on a theory entirely different from conventional ones.
    従来のパターン形成方法とは全く異なった理論に基づく新規な機構のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Then, the direction and density of the snow fall are analyzed based on the type, frequency and the like of the matched image pattern.
    そして、マッチングした画像パターンの種類、回数などに基づいて降雪の方向、密度を解析することができる。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive composition whose line edge roughness and exposure margin are improved and a pattern forming method using the same.
    ラインエッジラフネス、露光マージンが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Then, a peak point column constituted of the extracted peak points is grouped, and each group is made to belong to the pattern of each layer.
    抽出されたピーク点から構成されるピーク点列をグループ分けして、各グループを各層のパターンに帰属させる。 - 特許庁
  • By soldering a terminal 6 to the land 3, a conductive path is formed between the land 3 and the wiring pattern 4 by solder 7.
    ランド3への端子6の半田付けを行うと、ランド3と配線パターン4とが、半田7によって導通される。 - 特許庁
  • The pattern altered part 21 is then removed and the spacer film 14 is used as a mask to etch the mask film 12 and the processed film 11.
    そして、パターン変質部21を除去し、スペーサ膜14をマスクとしてマスク膜12と被加工膜11をエッチングする。 - 特許庁
  • To surely perform passing of a lighting fixture to irradiate beams of light with a high beam pattern which lies outside the visible wavelength range, such as infrared rays.
    赤外線等の可視波長域外の光をハイビームパターンで照射する灯具におけるパッシングを確実に行う。 - 特許庁
  • A line width estimation part 34 estimates a line width of an image pattern of a marked pixel line width area, based on an input image signal.
    線幅推定部34は、入力画像信号から注目画素線幅領域の画柄の線幅を推定する。 - 特許庁
  • Also, the cluster code CL_n-1 is supplied to a matching block table memory 122, and block pattern information corresponding to the cluster CL_n-1 is acquired.
    また、クラスコードCL_n-1をマッチングブロックテーブルメモリ122に供給し、クラスコードCL_n-1に対応したブロックパターン情報を得る。 - 特許庁
  • A detection pattern of abnormal event is described in an abnormal event detection table 25 in association with the ID of the hospital 3.
    異常事象の検出パターンを病院3のIDに関連付けて異常事象検出テーブル25に記述する。 - 特許庁
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