To easily find a target body by detecting a specified graphic pattern from an image of a map etc., which is not coded. コード化されていない地図などの画像から、特定の図形パターンを検出し、簡単に目的物を見つけだせるようにする。 - 特許庁
As a result, toner of the gradation pattern is transferred on a recording medium to be fed through a fixing device, and then an image is formed on the recording medium. この結果、階調パターンのトナーが記録媒体に転写され、定着器を経て記録媒体上に画像が形成される。 - 特許庁
The thickness of the resist film is transmitted to the host computer 3 and, further, transferred to the pattern exposure system (steps S105-S201). このレジスト膜の膜厚は、ホストコンピュータ3に送信され、さらに、パターン露光装置に転送される(ステップS105〜S201)。 - 特許庁
These components are connected to a wiring pattern 50 formed on wiring layers 34-1, 34-2 via a connection via 52. これらの部品は、接続ビア52を介して配線層34−1、34−2に形成された配線パターン50に接続される。 - 特許庁
To provide a thin-film dry-etching method, whereby a wiring pattern having a desired tapered angle can be formed with high dimensional accuracy. 所望のテーパー角を持つ配線パターンを高い寸法精度で形成することができる薄膜ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method capable of aligning a repeated pattern even without setting a marker point for alignment in a laser beam machining device. レーザ加工装置において、アライメント用のマーカー点を設定せずとも繰り返しパターンをアライメントできる方法を提供する。 - 特許庁
The obtained resist pattern by development after the exposure has the number of gradation levels increased three times that of the original as shown in Fig. (d). 露光終了後、現像して得られるレジストパターンは、(d)に示されるように、階調数が3倍に増えたものとなった。 - 特許庁
A TEG (Test Element Group) forms an electric characteristic evaluation pattern that is provided with a plurality of unit transistors T11, T12, T13, T21, T22, T23, T31, T32, and T33. TEG(Test Element Group)1は、格子状に配列された複数の単位トランジスタT11,T12,T13,T21,T22,T23,T31,T32,T33を備えた電気特性評価パターンである。 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE PHOTOSENSITIVE DRY FILM, MATERIAL OBTAINED BY USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性ドライフィルム、その組成物を使用して得られる材料及びパターン形成方法 - 特許庁
The number of parts are reduced by making the energized pin terminals 16 direct contact with a circuit pattern 38A of the circuit board 38. 付勢されたピン端子16が、回路基板38の回路パターン38Aへ直接接触することで、部品点数を減らせる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an active matrix substrate capable of forming a pattern with high accuracy, and providing a high productivity. 高いパターン形成が可能で、かつ生産性の高いアクティブマトリクス基板の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
A final action corrects the slow drift measurement corruption of the color calibration pattern by both scaling and offsetting the color values (900). 最後の動作は、カラー値のスケーリングとオフセットの両方により色較正パターンのスロードリフト測定悪化を修正する(900)。 - 特許庁
A vibrating part 23 vibrates in a vibration pattern corresponding to each operation mode to transmit the device operation mode to the user by vibration. 振動部23は、各動作モードに対応した振動パターンで振動し装置の動作モードを利用者に振動で伝達する。 - 特許庁
A strip line 1 is provided on the uppermost layer in the region A, and a ground conductor pattern is provided on the second layer therebelow to form a transmission line. この領域Aの最上層にストリップ線路1、その下の第2層に地導体パターンを設け、伝送線路とする。 - 特許庁
The reproduced pattern is formed by irradiating an ultraviolet-curable resin with ultraviolet rays by using a used hot-melt type ink ribbon as a mask. 使用済み熱溶融型インクリボンをマスクとして紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射し、複製パターンを形成する。 - 特許庁
Thereby, its light intensity distribution can be changed while maintaining the clear cut-off line of the light distribution pattern for low beam. そしてこれにより、ロービーム用配光パターンの鮮明なカットオフラインを維持した上で、その光度分布を変化させるようにする。 - 特許庁
Then, a conductor film 14 is formed on all the surface 10A of the board 10 where the groove pattern 12 is provided by evaporation or sputtering. 次に、溝条12を形成した基板面10Aの全体に、蒸着やスパッタリングにより導体膜14を成膜する。 - 特許庁
To prevent occurrence of zebra pattern of a thin sheet for a shadow mask, and to control surface roughness within a predetermined range. シャドウマスク用薄板のゼブラ模様の発生を防止するとともに表面粗さを予め定める範囲内に均一に収める。 - 特許庁
The wraparound section 13b of the terminal electrode 13 and a circuit pattern 16 of a printed circuit board 15 are conducted by solder 17. 端子電極13の廻り込み部13bとプリント回路基板15の回路パターン16とをはんだ17によって導通させる。 - 特許庁
This device is constituted, so that the information regarding the copyright is recorded on the optical disk by the arrangement of patterns M consisting of irregularly mottled pattern. 本発明は、不規則なまだら模様によるパターンMの配置により、光ディスクに著作権に関する情報を記録する。 - 特許庁
The test pattern for linearity inspection which is composed of a plurality of rectangular patterns 1 to 6 having the same length and different widths, is used. 長さが同じで幅が異なる複数の矩形パターン1〜6により構成されるリニアリティ検査用テストパターンを使用する。 - 特許庁
A method for correcting proximity effects is used for correcting proximity effects, which occurs at the formation of a pattern on a wafer 3 by electron beam exposure. 本方法は、電子線露光によりウエハ3上にパターン形成する際に生じる近接効果を補正する方法である。 - 特許庁
A connector 3 connects a differential transmission pattern 2 for multiple transmission of a group of three differential signals and a differential transmission cable 4. コネクタ3は、3組の差動信号をそれぞれ多重伝送する差動伝送パターン2と差動伝送ケーブル4とを接続する。 - 特許庁
The image output apparatus comprises a database for storing data giving a relation between manipulated variables and a controlled variable for a reference pattern. 画像出力装置は、基準パターンに対する制御量と操作量との関係を与えるデータを記憶するデータベースを備える。 - 特許庁
To provide a polishing device capable of surely conducting polishing work and preventing excess cutting when a projection exists on a pattern surface. パターン面に突起が存在する場合において、削り過ぎることなく確実に研磨することができる研磨装置を提供する。 - 特許庁
A processing means extracts a plurality of luminance points 10a added to the cable 10 by the pattern beam 43 as featured points. 処理手段は、パターン光43によりケーブル10に付加された複数の輝点10aを特徴点として抽出する。 - 特許庁
A region OLA for positive overlap is provided to a light exposure pattern PTN, including an integrated circuit chip region. 集積回路チップ領域CAを含む露光パターンPTNに対して積極的なオーバーラップ用領域OLAが設けられる。 - 特許庁
To adjust the resonance frequency or radiation pattern of this antenna device, and to facilitate coping to a plurality of frequencies. 当該装置の共振周波数や放射パターンを調整できるようにすると共に、複数の周波数に対応できるようする。 - 特許庁
A resonator pattern made of superconductive material is disposed over a first surface of a base substrate made of dielectric. 誘電体からなるベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンが設けられている。 - 特許庁
To perform high-accuracy patterning on a pattern transfer mask, through which a charged particle beam is transmitted by preventing the adhesion of particles to the mask. 荷電粒子線を透過させるパターン転写用マスクに、パーティクルが付着することを抑止して、精度の高いパターニングを行う。 - 特許庁
The light emitting diode device is adapted to be capable of shielding or filtering light to provide a high-gradient edge or region within the beam pattern. ビームパターン内に高勾配縁又は領域を作るように、光を遮蔽又は濾光することのできる発光ダイオード装置。 - 特許庁
The method recognizes the detected input pattern by using the setup parameters, and outputs the recognized candidates. そして、その設定されたパラメータを使って、検出された入力パターンの認識を行い、認識結果の候補を出力する。 - 特許庁
Then, the device is provided with a control circuit 101 which selectively light-emit-displays the reach point design pattern according to this detection signal. そして、この検出信号に応じてリーチ目絵柄パターンを選択的に発光表示させる制御回路101を設ける。 - 特許庁
Moreover, uniform surface light emission is realized by forming a dot pattern on the waveguide film, and light emission brightness of a specific region is improved. また、導波路フィルムにドットパターンを形成することで均一な面発光を図り、特定領域の発光輝度を高める。 - 特許庁
To provide a slider peeling method capable of peeling a slider from a flexure without deforming the flexure or a wiring pattern. フレキシャ及び配線パターンを変形させることなく、フレキシャからスライダを剥がすことが可能なスライダ剥離方法を提供する。 - 特許庁
To significantly reduce a fixed pattern noise by reducing the effect from dispersion in threshold voltage of an amplification transistor in a pixel. 画素内の増幅トランジスタの閾値電圧のばらつきの影響を、より一層低減し、固定パターンノイズを、より大幅に低減する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE HIGH MOLECULAR COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND PRODUCTION OF CATHODE-RAY TUBE 感光性高分子化合物,感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 - 特許庁
Thereby, the free portion 34 of the pattern yarn 22 is knitted in without crossing the laterally swung portions 26, 28 of the chain knitting yarn 21. これによって柄糸22の遊離部分34は、鎖編糸21の横振り部分26,28が重なることなく編込まれる。 - 特許庁
Such a negative photosensitive resin composition has excellent pattern resolution and excels also in adhesiveness to the opposite bases. このようなネガ型感光性樹脂組成物は優れたパターン解像性を有し、且つ対向基盤との接着性にも優れている。 - 特許庁
To add a height position correcting function to a pattern matching, in order to allow three-dimensional measurement and image processing through the use of a template. テンプレートによる三次元の計測や画像処理を可能にするためにパターンマッチングに高さ位置の補正機能を付加する。 - 特許庁
To maintain high aligning accuracy, even when applying exposure processing to lots in which plates of different pattern forming states are mixed. パターンの形成状態の異なるプレートが混在したロットを露光処理する場合においても、高い重ね精度を維持する。 - 特許庁
Additionally, the semiconductor laser 21 is connected to a ground side where wiring pattern area is large, and heat radiation in high-output operation is accelerated. また、配線パターン面積が大きいグランド側に半導体レーザ21を接続して、高出力動作時の放熱を促進する。 - 特許庁
On the surface provided with copper foil 1 of a one-side copper- clad laminate 2, a wiring pattern is formed by tin plating 7 (G). 片面銅張積層板2のうち銅箔1が設けられている面側に、錫メッキ7により配線パターンを形成しておく(G)。 - 特許庁
A protective film 16 having fluidity is formed on the surface of a base member 31 with a concave/convex pattern 32 partitioned on the surface. 表面に凹凸パターン32を区画する基材31の表面に流動性を有する保護膜16が形成される。 - 特許庁
When the detection result matches the previously recorded reference pattern, it is determined that the trumpet loudspeaker 13 is normal. その検出結果が、予め記録しておいた基準パターンと同じであれば、トランペットスピーカ13は正常であると判断する。 - 特許庁
Then a correlation processing part 30 calculates a correlation value with a pilot pattern and then a frequency error is detected. 次に、相関処理部30において、パイロットパターンとの間で相関値が計算され、これにより周波数誤差が検出される。 - 特許庁
The pattern is formed by applying a functional liquid on a substrate P having a lyophilic part Pa or a liquid repellent part H with respect to the functional liquid. 機能液に対する親液部Pa及び撥液部Hを有する基板Pに機能液を塗布してパターンを形成する。 - 特許庁
To suppress a length measuring error by difference of a shrink amount by scanning of an electron beam in each pattern. 本発明の目的は、電子線の走査によるシュリンク量がパターンごとに異なることによる測長誤差を抑制することにある。 - 特許庁
Likewise, the siding panel piece in which the pattern, the size and the surface shape are brought to the free state is also laminated at the inwall corner of the building. また、同様に、模様、寸法及び面形状を自在としたサイディングパネル片を、建築物の内壁コーナーに張り合わせる。 - 特許庁
If the engine speed is lower than the igniting speed Netag, the torque of the motor MG1 is changed according to a predetermined pattern. エンジンの回転数が点火回転数Netagよりも低い場合は、モータMG1のトルクを所定のパターンで変化させる。 - 特許庁