「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 897 898 899 900 901 902 903 904 905 .... 999 1000 次へ＞- To provide a transmission line element capable of discretely changing an electric length of a conductor pattern layer, and an electronic apparatus.
導電体パターン層の電気長を離散的に変更することが可能な伝送線路素子および電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a formation method of a circuit board for a printed wiring board that allows a circuit pattern to be formed at a favorable fine pitch.
回路パターンを良好なファインピッチで形成することができるプリント配線板用回路基板の形成方法を提供する。 - 特許庁 - The regular unevenness of the resin sheet is transferred to the polishing surface P side, with the inverted regular uneven pattern 5 being formed thereon.
研磨面Ｐ側には、樹脂シートの規則的な凹凸が転写されて反転され規則的な凹凸パターン５が形成されている。 - 特許庁 - To provide a system and a method for detecting color-to-color process direction misregistration errors using a color registration pattern.
色位置合わせ模様を利用して色対色の処理方向の位置ずれエラーを検出するシステム及び方法が提供される。 - 特許庁 - To provide a template for preventing defects in a pattern form, a method for manufacturing the template, and a method for manufacturing a semiconductor device.
パターン形状の欠陥を抑制するテンプレートとその製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In one encoding system, a resource allocation bit pattern is transmitted to all users together with a resource ID for each user.
一のエンコード方式においては、リソース割当ビットパターンは、各ユーザに対するリソースＩＤとともに、すべてのユーザに伝送される。 - 特許庁 - To provide a droplet jet apparatus capable of reducing the size of data for specifying a predetermined discharge pattern to be formed on a substrate.
基板上に形成される所定の吐出パターンを特定するデータのサイズを小さくできる液滴ジェット装置を提供する。 - 特許庁 - The device 1 grasps in detail the generation frequency of the symptom pattern (S409), and evaluates a deterioration state of an observation object apparatus (S410).
予兆パターンの発生頻度を詳細に把握し（Ｓ４０９）、監視対象機器の劣化状況を評価する（Ｓ４１０）。 - 特許庁 - To provide a carrier device capable of carrying a wafer not in contact with a pattern formed on a reverse surface of the wafer.
ウェハの裏面に形成されたパターンに接触することなくこのウェハを搬送することができる搬送装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a salt for an acid-generating agent of a resist composition capable of forming a pattern having an excellent line edge roughness.
優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁 - Thus, the specific color range corresponding to the read characteristics of each image processing apparatus is calculated and the specific pattern is surely detected.
よって、個々の画像処理装置の読取特性に応じた特定色範囲を算出でき、確実に特定パターンを検出できる。 - 特許庁 - To provide a method for accurately and easily producing a membrane with a periodic pattern formed and to provide the membrane produced by the method.
周期的なパターンが形成された膜を精度よく簡易に作製する方法、及び該方法により作製された膜の提供。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having excellent storage stability, a method of manufacturing a cured relief pattern, and a semiconductor device.
保存安定性の優れた感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。 - 特許庁 - In this process, the developer soluble film on the lower side of the photoresist pattern is dissolved to leave an undercut-like remaining part.
この工程では、フォトレジストパターンの下側の現像液溶解性膜を、アンダーカット状の残存部分を残すように溶解させる。 - 特許庁 - Next, according to the decision result, the design support device generates a grid table which includes shape information relative to the aimed pattern.
次に、設計支援装置は、判定結果に応じて着目パターンに対する形状情報を含む格子テーブルを生成する。 - 特許庁 - A charged particle beam is irradiated to a semiconductor device being an analysis target by a first irradiation pattern so as to inject charges.
解析対象の半導体装置に対し、第１の照射パターンで、荷電粒子ビームを照射して、電荷を注入する。 - 特許庁 - To provide an electron beam lithography device that accurately draws a pattern on a substrate by irradiating the substrate with an electron beam without any deviation.
基板の上に電子線をずれなく照射して、基板にパターンを正確に描画しうる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - Alternatively, dipole-Y is used to illuminate the pattern and to image the second elements on the wafer, but not the first elements.
あるいは、ダイポールＹを使用してパターンが照明され、ウェーハ上に第２の要素を結像するが、第１の要素は結像しない。 - 特許庁 - A silicon surface insulating film 9 is formed on a source of the silicon wiring pattern 7 at a part crossing the silicon guard ring 11.
シリコンガードリング１１と交差している部分のシリコン配線パターン７表面にシリコン表面絶縁膜９が形成されている。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer pattern exposure method capable of increasing the number of chips obtainable from a semiconductor wafer.
半導体ウェーハから取得できるチップ数を増大させることが可能な半導体ウェーハのパターン露光方法を提供する。 - 特許庁 - By performing adjustment to such a pattern to be intrinsically used, degradation of granularity by mixture of patterns is prevented.
このような本来使用すべきパターンに対して調整を行なうことで、パターンの混合による粒状性の悪化を抑制する。 - 特許庁 - A pattern travel part RT1 is divided by travel routes corresponding to route patterns PT1 to PT10 to set up sections.
パターン走行部ＲＴ１は、経路パターンＰＴ１〜ＰＴ１０に対応する走行経路ごとに区切られセクションが設定される。 - 特許庁 - Consequently, the presence and position of the particle D on the mask MA having the arbitrary pattern can be detected.
これにより、したがって、任意のパターンを有するマスクＭＡ上の粒子Ｄの存在および位置を検出することができる。 - 特許庁 - To carry out exact transfer in a transfer device for transferring a minute transfer pattern formed in a mold to a molded article.
モールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する転写装置において、正確な転写をする。 - 特許庁 - A plurality of zoom patterns are defined beforehand in a noise table 141, and measured data of noise is held as a noise pattern.
ノイズテーブル１４１は、複数のズームパターンが予め定義されており、実測されたノイズのデータをノイズパターンとして保持している。 - 特許庁 - To provide a letterpress printing device which prints a high definition pattern of an organic EL display panel etc. and shortens time for printing process.
有機ＥＬディスプレイパネルなどの高精細パターンを印刷する凸版印刷装置において、印刷工程の時間を短縮する。 - 特許庁 - To accurately detect a sheet-shaped mold when transferring and positioning the sheet-shaped mold having a minute transfer pattern formed thereon.
微細な転写パターンが形成されているシート状モールドを移送位置決めするときに、シート状モールドを正確に検出する。 - 特許庁 - The main reflection surface 2U reflects light L1 emitted from the semiconductor-type light source 5U to irradiate a light distribution pattern LP for low beam.
主反射面２Ｕは、半導体型光源５Ｕからの光Ｌ１を反射させてロービーム用配光パターンＬＰを照射する。 - 特許庁 - The first electrode pattern 112 is connected to one end of a second radiation electrode 126 on the back surface through through-holes 120a.
第１電極パターン１１２は、スルーホール１２０ａを介して裏面の第２放射電極１２６の一端と接続される。 - 特許庁 - To provide a coating composition which can increase the resolution of a photoresist image which is pattern-formed on an antireflection coating film layer.
反射防止塗膜層上にパターン形成されたフォトレジスト像の解像度を増大できるコーティング組成物を提供する。 - 特許庁 - On the plurality of images obtained at the same time, scanning shift of the primary electron beams is the same at places of the repetition pattern to be compared.
同時に取得した複数の画像上に、比較する繰り返しパターンの処に一次電子ビームの走査ずれは同じである。 - 特許庁 - When the shortest subject distance is less than a predetermined threshold, closest subjects in the respective live-view images are displayed in a zebra pattern.
最短被写体距離が所定のしきい値未満となる場合、各ライブビュー像内の最至近被写体をゼブラパターンで表示する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device having an ohmic junction layer which has superior surface flatness, and superior pattern formation property for electrodes.
表面平坦性に優れ、電極のパターン形成性に優れるオーミック接合層を備える半導体装置を提供する。 - 特許庁 - A pattern classification part 15 classifies the number of N-pieces of patterns based on an instance in a second node in the retrieved subgraph (S19).
パターン分類部１５は、検索されたサブグラフにおける第２ノード内のインスタンスに基づいてＮ個のパターンを分類する（Ｓ１９）。 - 特許庁 - When detecting existence of the ground pattern, an image processing part 17 restricts predetermined image output to the image data.
画像処理部１７は、地紋パターンの存在が検出されたとき、当該画像データに対し、所定の画像出力制限する。 - 特許庁 - To provide a photomask blank optimizing a dry etching speed in a depth direction of a light-shielding film and giving favorable pattern accuracy.
遮光膜の深さ方向でのドライエッチング速度を最適化させ良好なパターン精度が得られるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁 - A high frequency amplifier 14 is connected to the antenna pattern 2b via a DC blocking capacitor 12 and antenna patterns 2c, 2d.
高周波増幅器１４が直流阻止用のコンデンサ１２、アンテナパターン２ｃ、２ｄを介してアンテナパターン２ｂに接続されている。 - 特許庁 - The digital pen 20 transmits a dot pattern of a track handwritten on the data input sheet 4 to a data input sheet processor 30.
デジタルペン２０は，データ入力シート４で手書きされた軌跡のドットパターンをデータ入力シート処理装置３０へ送信する。 - 特許庁 - When the light phase-modulated by the liquid crystal SLM 137 passes through a Fourier transform lens 14, a desired optical pattern is formed.
また、液晶ＳＬＭ１３７で位相変調された光がフーリエ変換レンズ１４を通ると、所望の光パターンが形成される。 - 特許庁 - To precisely draw various kinds of concave and convex patterns different in pattern size, by ensuring precision of the drawing positions of the respective patterns.
パターンサイズの異なる各種凹凸パターンをそれぞれのパターンの描画位置精度を確保して正確に描画可能とする。 - 特許庁 - To provide a dry etching method that forms a fine pattern, provides a high etching selection ratio, and allows patterning at a high aspect ratio.
微細パターンに形成でき、エッチング選択比が高く、かつ高いアスペクト比でパターニングできるドライエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - The second trench has second sidewalls that are substantially vertical without showing the pattern and a second bottom that is substantially flat.
第２のトレンチは、パターンを呈さず実質的に垂直な第２の側壁及び実質的に平坦な第２の底部を有する。 - 特許庁 - Based on the identification pattern, the server reads a specific area of the image data in a corresponding reading area and extracts numerical data.
その識別パターンに基づき、対応する読み取りエリアで当該画像データの特定エリアを読み取り、数値データを抽出する。 - 特許庁 - To provide a technique for dynamically setting the size of an area to be measured, and detecting an edge of a semiconductor pattern with accuracy.
測定対象領域のサイズを動的に設定し、半導体パターンのエッジ部分を精度良く検出する技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an improved pattern database generating method for a model-base control system using a target value search.
目標値探索を用いるモデルベース制御システムのための改良されたパターンデータベース生成方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which alignment between layers is performed precisely when a pattern is formed using imprint lithography.
インプリントリソグラフィを用いてパターン形成する際のレイヤ間の位置合わせを精度良く行なうパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In the lattice pattern portion of the quilting section 20A, multiple welding portions by the ultrasonic welding are aligned in a stitch-like line.
また、キルティング部２０Ａの格子模様の部分においては、超音波溶着による多数の溶着部がステッチ状に並んでいる。 - 特許庁 - A dot arrangement pattern has information representative of the nozzle array to which the nozzles used for recording the area belong for every area.
このように、ドット配置パターンは、エリアごとにそのエリアを記録するのに使用するノズルが属するノズル列を示す情報を持つ。 - 特許庁 - To surely adjust a gamma characteristic in a simple way without a need of reading a dedicated gradation pattern chart even after shipment.
専用の階調パターンのチャートを読み取らせる必要が無く、出荷後であっても簡易かつ確実にガンマ特性を調整する。 - 特許庁 - A cover insulating layer 13 is formed on the base insulating layer 11 to cover the lead wire S for plating and the wiring pattern 20.
めっき用リード線Ｓおよび配線パターン２０を覆うように、ベース絶縁層１１上に、カバー絶縁層１３が形成される。 - 特許庁
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