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＜前へ 1 2 .... 941 942 943 944 945 946 947 948 949 .... 999 1000 次へ＞- To provide a wiring board and a multilayer wiring board allowing formation of a high level conductive circuit pattern on a board, formation of excellent conductive layer of conductive circuit pattern, and realizing low cost and production in small amount of versatile products.
基板上に高度な導電性の回路パターンが形成され、また、導電性の回路パターンの導体層を良好に形成することができ、低コスト化、多種少量生産化を図ることができる配線基板および多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In a rating process, all the layout patterns prepared in the pattern preparing process are rated based on the preset degree of column adjacency, degree of planar dispersion and degree of vertical dispersion in every direction to rate each layout pattern.
点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度，平面的分散度，立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁 - The multilayer substrate for low noise blocking down converter 10 is provided with an antenna pattern 15 transmitting the radio signal transmitted through a waveguide 21, and three ground conductive layers 16 to 18 laminated on the antenna pattern 15 through dielectric layers 31 to 33.
本発明の低雑音ブロックダウンコンバータ用多層基板１０は、導波管２１を伝播する電波信号を伝達するアンテナパターン１５と、アンテナパターン１５に誘電体層３１〜３３を介して積層された３層のグランド用導電層１６〜１８とを備えている。 - 特許庁 - A base pattern 10 having predetermined thickness is formed at a position corresponding to the contact hole 7, and a connection part (source region 3a and drain region 3b) to the second wiring 8 of the multi-crystal semiconductor layer 3 is formed on the base pattern 10.
コンタクトホール７に対応する位置に所定の厚さを有する下地パターン１０が形成され、この下地パターン１０上に多結晶半導体層３の第２配線８との接続部分（ソース領域３ａ及びドレイン領域３ｂ）が形成されている。 - 特許庁 - According to the control unit and the vehicle, the center of turning and a turning pattern are searched by a turning pattern search means, depending on the surrounding situation of surroundings of the vehicle acquired by a surrounding situation acquisition means.
本発明の制御装置及び車両によれば、周囲状況取得手段により取得された車両周囲の周囲状況に応じて、その周囲状況に対して旋回中心及び旋回パターンが旋回パターン探索手段により探索される。 - 特許庁 - A first insulating base and a second insulating base 2, both of which are made of ceramics, are oppositely disposed with a gap between a first capacitance detecting electrode pattern and a second capacitance detecting electrode pattern which are provided on their respective opposite surfaces.
セラミック製の第１の絶縁性基体とセラミック製の第２の絶縁性基体２とを、相互の対向面に設けている第１の静電容量検出用電極パターンと第２の静電容量検出用電極パターンとの間に間隔をあけて対向配置する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a photomask by which not only correction for the light proximity effect caused in a region within several μm range but correction for the density of a pattern in a larger region can be carried out to correct the pattern profile of a photomask.
フォトマスクのパターン形状を補正する際に、数μｍの領域内で生じる光近接効果などに対する補正だけでなく、より広い領域内で生じるパターンの疎密に対する補正も行うことができるフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A first working reticle WR1, in which circuit pattern units Pa to Pe commonly usable in a plurality of devices are formed, and a second working reticle WR2, in which another circuit pattern units Pf to Pw are formed, are manufactured by using a laser beam drawing device or the like.
複数のデバイスで共通に使用できる回路パターンユニットＰａ〜Ｐｅが形成された第１のワーキングレチクルＷＲ１、及び別の回路パターンユニットＰｆ〜Ｐｗが形成された第２のワーキングレチクルＷＲ２をレーザビーム描画装置等を用いて製造する。 - 特許庁 - A SYNC signal addition and correction processing section 8 receives a SYNC timing signal generated by a SYNC timing generator 9, imbeds the SYNC signal to a modulation output of the phase modulator 7 to generate a synchronous pattern and to apply correction processing to the synchronous pattern.
ＳＹＮＣ信号付加＆補正処理部８は、ＳＹＮＣタイミング生成器９で生成されたＳＹＮＣタイミング信号を受けて、位相変調器７の変調出力にＳＹＮＣ信号を埋め込んで同期パターンを生成すると共に、同期パターンを補正処理する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus with less machine down time and of high productivity by simultaneously reading a reference pattern image for misregistration detection and/or a reference pattern image for density error detection by using a plurality of sensors and attaining quick and accurate detection.
複数のセンサを用いて位置ずれ検出用基準パターン像及び／又は濃度誤差検出用基準パターン像を同時に読み込み、短時間で高精度の検出を行うことにより、マシンダウンタイムの少ない、生産性の高い画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - After a turning correcting part 20 adjusts the direction of the card 100 by 90°, a segment processing part 22 segments the image pickup data corresponding to the card 100, and a pattern comparing part 26 performs comparison processing of the image data with a registered pattern.
その後、回転補正部２０によってカード１００の向きを９０度調整した後、切り出し処理部２２によってカード１００に対応する撮像データの切り出しが行われ、パターン比較部２６によってこの撮像データと登録パターンとの比較処理が行われる。 - 特許庁 - To enable positive electrical connection between a first wiring pattern formed on the major surface of a dielectric substrate and a second wiring pattern formed at an end face of the dielectric substrate and enable reduction of the resistance of the connection with a good connection state.
誘電体基板の主面に形成される第１の配線パターンと、誘電体基板の端面に形成される第２の配線パターンとの電気的な接続を確実に行うことができ、またその接続抵抗を小さくして良好な接続状態とし得る。 - 特許庁 - To provide a developer for a photosensitive polyimide precursor which prevents unevenness in pattern size in a wafer surface after development and can form uniform patterns in the same development time, in pattern formation of a polyimide precursor resin film, and to provide a developing method using the developer.
ポリイミド前駆体樹脂膜のパターン形成に際して、現像処理後にウエハ面内でパターン寸法にバラツキが無く、同一現像時間で均一なパターンを形成できる感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いた現像処理方法を提供する。 - 特許庁 - The optimal pattern feature is extracted from a reduced reference image data Dss, the template image Dt is segmented from reference image data Ds before reducing it and registered based on positional coordinates (Xs, ys) of the pattern feature and template size (Sizex, Sizey).
縮小参照画像データＤssから最適なパターン特徴を抽出し、このパターン特徴の位置座標（ｘｓ，ｙｓ）とテンプレートサイズ（Sizeｘ、Sizeｙ）とに基づいて縮小する前の参照画像データＤｓからテンプレート画像Ｄｔを切り出して登録する。 - 特許庁 - In the wiring substrate where a metal wiring pattern including the connecting points for external connections is formed on the substrate; an organic thin film including cylane is formed on the substrate covering the metal wiring pattern, and the connecting point is connected in conductive via an organic thin film.
外部接続用の接点部を含む金属配線パターンが基板上に形成された配線基板において、シランを含有する有機薄膜を金属配線パターンを覆って基板上に形成し、接点部はその有機薄膜を介して導通接続されるものとする。 - 特許庁 - The light diffusing body includes a substrate and a pattern print layer provided in a predetermined pattern on at least one surface of the substrate, layered via an anchor layer, wherein the anchor layer contains an oxazoline group-modified resin.
基材と、基材の少なくとも一方の面に所定のパターンで設けられたパターン印刷層とが、アンカー層を介して積層されている光拡散体であって、前記アンカー層がオキサゾリン基変性樹脂を含有していることを特徴とする光拡散体である。 - 特許庁 - After patterning a wiring pattern 2 and a connection terminal 3 with positive type photosensitive resist 6 on an insulating substrate 1, the photosensitive resist 6 on the wiring pattern 2a covering the connection terminal 3 part and solder resist 4 is removed selectively thus forming the solder resist 4.
絶縁基板１上にポジ型の感光性レジスト６で配線パターン２と接続端子３をパターニングした後、接続端子３部およびソルダーレジスト４を被覆する配線パターン２ａ上の感光性レジスト６を選択的に除去した後、ソルダーレジスト４を形成する。 - 特許庁 - A composition vinyl polymer floor tile high in designability comprises a colored opaque pattern part and a translucent pattern part containing 30-70 wt.% of an opaque filler and 10-50 wt.% of talc.
本発明は、コンポジションビニル床タイルにおいて、着色不透明模様部分と、不透明充填材量が３０〜７０重量％であって、タルクが１０〜５０重量％含有された半透明模様部分とからなる意匠性の高いコンポシションビニル床タイルが得られる。 - 特許庁 - An SMD semiconductor light-receiving device 10 is equipped with a substantially cubical phototransistor 12 as a semiconductor light-receiving element die-bonded on the wiring pattern on the PCB 11, and the electrode of the phototransistor 12 is wire-bonded to the wiring pattern with a wire 13.
ＳＭＤ型半導体受光装置１０は、ＰＣＢ１１上の配線パターンに略立方体形状の半導体受光素子であるフォトトランジスタ１２がダイボンディングされ、ワイヤ１３でフォトトランジスタ１２の電極と配線パターンとをワイヤボンディングされている。 - 特許庁 - A means 350 for applying predetermined field of view always calculates occurrence frequency every pattern to operation patterns which are stored in the data base 340, and it allocates a suitable predetermined field of view to the operation pattern with high frequency from the data base 320.
既定画角適用手段３５０は、動作パターンデータベース３４０に蓄積される動作パターンに対して、常時、パターン毎の発生頻度を算出しており、発生頻度の高い動作パターンに対して、各々、既定画角データベース３２０から、適した既定画角を割り当てる。 - 特許庁 - This device includes an EP cartridge 202 which is stuck with a seal 206 with a trademark to a toner replenishing port 204 in which toners 203 are sealed and a pattern recognition sensor 205 which recognizes the pattern information imparted to the seal 206 with the trademark of the EP cartridge 202.
トナー２０３が封入されトナー補給口２０４に商標入りシール２０６が貼り付けられたＥＰカートリッジ２０２と、ＥＰカートリッジ２０２の商標入りシール２０６に付与されたパターン情報を認識するパターン認識センサ２０５を含んで構成される。 - 特許庁 - The image forming apparatus forms a toner pattern on an image carrier 202 and adjusts a charging bias, an exposure amount and a developing bias based on a toner deposition amount of the toner pattern so as to have a ratio of a background potential to a development potential being a predetermined first target ratio.
画像形成装置は、像担体２０２上にトナーパターンを形成し、トナーパターンのトナー付着量を基に、現像ポテンシャルに対する地肌ポテンシャルの比率が所定の第１の目標比率となるように、帯電バイアスと露光量と現像バイアスとを調整する。 - 特許庁 - As for an optical pattern display body for securities or the like, the optical pattern display body is provided with at least one hologram 1 having at least two access channels constituted so that different images can be reproduced in different gazing directions.
本発明は有価証券等の光学パターン表示体に関し、該光学パターン表示体は、異なる注視方向にそれぞれ異なる像を再生するように構成された、少なくとも二つのアクセスチャンネルを有するホログラム（１）を少なくとも一つ備えている。 - 特許庁 - An MFP 100 applies an averaging pattern to an image to be processed in an averaging processing portion 14 and periodically carries out averaging processing for replacing each of pixel values of a pixel group corresponding to the above averaging pattern with an average value of those pixel values.
ＭＦＰ１００は、平均化処理部１４において処理対象画像に対して平均化パターンを適用し、当該平均化パターンに対応する画素群の各画素値をそれら各画素値の平均値に置換する平均化処理を周期的に実行する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.
微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁 - The 2nd storage area comprises succeeding data in 1-byte, a 1st address, '0' when other pattern taken by a succeeding 1 byte does not exist, and an address in chain connection to other 2nd storage area storing data of other pattern when existing.
第２の記憶領域は、後続する１バイトのデータと、第１のアドレスと、後続する１バイトの取り得る他のパターンが存在しない場合には０、存在する場合には、他のパターンのデータを記憶する他の第２の記憶領域とチェーン接続するためのアドレスで構成される。 - 特許庁 - Based on the coordinates information on the center calibration pattern A1 and known information on the shape in a photographed image for calibration, an initial parameter is obtained once by plane projection conversion so that the shape of the calibration pattern becomes a known square on a conversion image.
校正用撮影画像における中央の校正パターン（Ａ１）の座標情報と形状に関する既知情報に基づき、変換画像上において該校正パターンの形状が既知の正方形になるように平面射影変換にて一旦初期パラメータを求める。 - 特許庁 - To improve abrasion resistance and scratch resistance while preventing undesirable influences such as whitening caused by the bleeding of an ultraviolet absorber added for weatherability and the peeling of an over coat layer and the sinking of an uneven pattern by the over coat layer in a polyolefin decorative sheet having the uneven pattern.
凹凸模様を有するオレフィン系化粧シートにて、耐候性の為に添加する紫外線吸収剤のブリードアウトによる白化や上塗り層の剥離等の悪影響、及び上塗り層による凹凸模様の埋没を防ぎつつ、耐摩耗性、耐擦傷性を良くする。 - 特許庁 - A gate insulating film 38 and a gate electrode 39 are formed on an upper silicon pattern 25a, and a source 36 and a drain area 37 and a channel area between them are formed on the upper silicon pattern 25a with the gate electrode 39 as a center.
上部シリコンパターン２５ａ上にはゲート絶縁膜３８及びゲート電極３９が形成されており、ゲート電極３９を中心として上部シリコンパターン２５ａにはソース３６及びドレイン領域３７とその間のチャンネル領域が形成されている。 - 特許庁 - When a game ball enters a start pocket, respective variation patterns are determined based on respective tables which are a first variation pattern determination table corresponding to a low probability game state and a second variation pattern determination table corresponding to a high probability game state.
始動口に遊技球が入賞したときには、低確率遊技状態に対応する第１の変動パターン決定テーブルと、高確率遊技状態に対応する第２の変動パターン決定テーブルとのそれぞれのテーブルに基づいて、それぞれの変動パターンを決定する。 - 特許庁 - To provide an image distortion correction method that shortly computes a smoothly varying distortion pattern by interpolating deviations measured by pattern matching at corresponding measurement representative points between a reference image and a compared image.
本発明は、基準画像と比較画像の間で、対応する計測代表点でのパターンマッチングによって計測されたずれ量を補間処理することにより、滑らかに変化する歪みパターンを短い時間で算出する画像歪み補正方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a laser marking device capable of simplifying the input work of marking information on each mark in its matrix arrangement pattern when marking a plurality of marks by a non-grid type matrix arrangement pattern, and rapidly executing the marking work.
複数のマークを非マス目状の行列配置パターンでマーキングする場合に、その行列配置パターンにおける各マークに関するマーキング情報の入力作業が簡便であってマーキング作業を迅速に実行することができるレーザマーキング装置を提供する。 - 特許庁 - In a dry etching method, a mask pattern 15 is formed on a semiconductor layer 14A and first etching treatment is performed for removing about 70% of the areas of the semiconductor layer 14A under the openings of the mask pattern 15 by using a first etching gas containing chlorine and bromine.
半導体層１４Ａの上にマスクパターン１５を形成し、塩素と臭素とを含む第１のエッチングガスを用いて半導体層１４Ａにおけるマスクパターン１５の開口部の下側の領域の７０％程度を除去する第１のエッチング処理を行なう。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the electrooptical device, a tantalum film 6 is patterned to form a first tantalum pattern 6a and a second tantalum pattern 6b having a data line 2, a lower electrode 62 for a holding capacitor, and a common electrode 63.
電気光学装置の製造方法において、タンタル膜６をパターニングし、非線形素子用下電極６１を備えた第１のタンタルパターン６ａと、データ線２、保持容量用下電極６２、および共通電極６３を備えた第２のタンタルパターン６ｂとを形成する。 - 特許庁 - Thus, on the substrate, there are disposed both of the cells in which a diffraction grating pattern for constituting the display image has been formed and the cells in which the minute images recognized only by magnification observation have been formed, thereby constituting a diffraction grating pattern including hidden minute images.
これにより、基材上に、表示画像を構成するための回折格子パターンが形成されたセルと拡大観察しなければ認識が困難な微小画像が形成されたセルの双方を設け、隠蔽微小画像を含む回折格子パターンを構成する。 - 特許庁 - A basic pattern for determining the basic performance of a tire tread comprising wide grooves 1, and a cut-pattern comprising thin cuts 6 having the shallow depth which has substantially no effect on the traveling characteristic of a tire, are determined to be the same for all tread patterns.
幅広の溝１からなりタイヤトレッドの基本性能を定める基本パタ−ンと、タイヤの走行特性に実質的に影響を与えない程度の浅い深さを有する細い切り込み６からなる切り込みパターンとを、全てのトレッドパタ−ンに対して同一に決定する。 - 特許庁 - The pattern shape is formed such that a ratio occupying in a direction parallel to the dicing line 4 is larger than a ratio occupying in a direction vertical to the dicing line 4, and includes a flowage region 13 facilitating flow of an etchant for forming the pattern shape.
このパターン形状は、ダイシングライン４に平行な方向に占める比率が、ダイシングライン４に垂直な方向に占める比率よりも大きく形成され、パターン形状を形成するためのエッチング液の流動を促す流動領域１３を含んでいる。 - 特許庁 - The replacement of symbols changes the timing of displaying the symbols in the LCD, so that a successive variation pattern designated by a variation pattern designating command can be terminated at the stopped symbols designated by the stopped symbol designating command.
この図柄の差し替えにより、ＬＣＤディスプレイへの図柄の表示タイミングを変更することができるので、変動パターン指定コマンドにより指定された一連の変動パターンを、停止図柄指定コマンドにより指定された停止図柄で終了させることができる。 - 特許庁 - This standard cell has various types of patterns constituting transistors in a rectangular cell frame, and the pattern includes a threshold adjustment pattern for adding impurities adjusting the threshold voltages of the transistors arranged over nearly the whole of a constituent region of the transistors in the cell frame.
スタンダードセルは、矩形のセル枠内に、トランジスタを構成する各種のパターンを有し、パターンは、セル枠内のトランジスタの構成領域の略全体にわたって配置された、トランジスタの閾値電圧を調整する不純物を添加するための閾値調整パターンを含む。 - 特許庁 - The resist pattern 11 is removed, and the entire surface of the silicon oxide film 3 is etching-processed until the remaining silicon oxide film 3 is completely removed, thus thinning the thickness of the silicon oxide film 3 covered with the resist pattern 11 and forming a side wall spacer 7.
レジストパターン１１を除去して、残ったシリコン酸化膜３が完全に除去されるまで、シリコン酸化膜３の全面をエッチング処理することにより、レジストパターン１１で覆われていたシリコン酸化膜３の厚みを薄くするとともにサイドウォールスペーサ７を形成する。 - 特許庁 - A mask correction unit 3 is determined in accordance with the space dependence 7 of a pattern obtained through photolithography and etching steps, design data 1 for producing a photomask are corrected using the mask correction unit 3 and the objective photomask is produced with a pattern forming device.
フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性７に基いてマスク補正単位３を決定し、このマスク補正単位３を用いてフォトマスク作成用の設計データ１に対する補正を行い、描画装置を用いてフォトマスクを作成する。 - 特許庁 - To enhance productivity of an optical wave guide circuit device by forming an electrode pattern by making the wet etching from an electrode layer laminated by sputters on the thin film heater pattern of a heating device of the optical wave guide circuit device which can tune an optical path length finely.
光路長を微調整可能な光導波回路装置の加熱装置の薄膜ヒータパターンの上にスパッタ法により積層した電極層からウエットエッチングして電極パターンを成形することによりその光導波回路装置の生産性を高める。 - 特許庁 - This manufacturing method includes the following process: a lower conducting film is formed on a semiconductor substrate, and a lower sacrificial film pattern and an upper sacrificial film pattern, which are laminated, is sequentially formed on the lower conducting film; then a mask spacer is formed on the sidewalls of the sacrificial film patterns.
この方法は、半導体基板上に下部導電膜を形成し、その結果物上に順次に積層された下部犠牲膜パターン及び上部犠牲膜パターンを形成した後に、上部及び下部犠牲膜パターンの側壁にマスクスペーサを形成する段階を含む。 - 特許庁 - In this case, although the step for forming the electrode pattern layer becomes a so-called Wet-on-Dry system, the green sheet has already been cured by two-pack polymerization when the electrode pattern layer is formed, thus preventing the sheet attack phenomenon from occurring.
本発明によれば、電極パターン層を形成するステップがいわゆるＷｅｔ−ｏｎ−Ｄｒｙ方式となるが、電極パターン層を形成する時点では、２液重合により既にグリーンシートが硬化していることから、シートアタック現象が生じることはない。 - 特許庁 - To provide an inexpensive and practical electromagnetic shielding member using aluminum which substantially eliminates contrast unevenness of a display screen by eliminating poor precision of an aluminum pattern formed by chemical etching when the material of a metal pattern is changed from copper to inexpensive aluminum.
金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターンのパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で、しかも表示画面の濃淡ムラがほとんどない、実用可能な電磁波シールド部材を提供する。 - 特許庁 - The isomer concentration of the TCB contained in the exhaust gas Gs is determined with mathematical calculation based on the predetermined fragment pattern of the TCB, by utilizing that the fragment pattern is different by the isomer when the isomer of the TCB is fragmentized.
次に、ＴＣＢの異性体をフラグメント化すると、異性体によってフラグメントパターンが異なることを利用し、予め求めておいたＴＣＢの異性体のフラグメントパターンに基づいて排ガスＧｓ中に含まれるＴＣＢの異性体濃度を数学的計算により求める。 - 特許庁 - A resist pattern forming method includes: a resist film forming step of forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition; an exposure step of selectively irradiating the resist film with exposure light; and a development step of developing a pattern.
本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対し露光光を選択的に照射する露光工程と、パターンを現像する現像工程とを含む。 - 特許庁 - Compensation is provided by correcting the initial basic coating pattern using the result of the coating experiment in a transient process of discharging the coating material which influences the initial basic coating pattern under the assumption that the simulation result is linearly proportional to the result of the coating experiment.
すなわち、シミュレーションの結果が塗装実験の結果に線形比例するものと考え、初期基準塗装パターンに影響を与える塗料吐出の過渡過程を、塗装実験の結果を用いて初期基準塗装パターンを修正することにより補償する。 - 特許庁 - When electricity is supplied to the motor 27 for forming pattern air, its voltage and current are kept stable without fluctuation, and therefore the rotation number of the axial-flow compressor 29 as well as the flow volume and the flow velocity of the pattern air are stabilized.
パターンエア生成用モータ２７に電力を供給する際には、その電圧値や電流値を変動させずに安定した状態で供給することができるので、軸流圧縮機２９の回転数及びパターンエアの流量及び流速が安定する。 - 特許庁 - To provide a glass ceramic wiring board, where dimension precision and precision in the formation of a surface circuit pattern are high, a resistor pattern is formed, and covering by a thermosetting resin is not required in plating, by surely restricting the sintering shrinkage of a glass ceramic green sheet.
ガラスセラミックグリーンシートの焼結収縮を確実に拘束して、寸法精度および表面回路パターンの形成の精度が高く、抵抗体パターンが形成されており、メッキを施す際に熱硬化樹脂による被覆が不要なガラスセラミック配線基板を提供すること。 - 特許庁
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