「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 943 944 945 946 947 948 949 950 951 .... 999 1000 次へ＞- To provide a projector type headlamp for a vehicle capable of performing light condensing or diffusion not causing unevenness to a light distribution pattern, making a space in front of the vehicle brighter, forming the light distribution pattern having a desired illuminance distribution, and improving visibility in front of the vehicle.
配光パターンにムラのない集光や拡散ができ、車両前方をより明るくでき、所望の照度分布をもった配光パターンを形成でき、車両前方の視認性向上を図ることができるプロジェクタ型の車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - To restrict a reduction in contrast of a pattern caused by unevenness in the film thickness of an etching stepper which is formed on a multilayer film which reflects EUV beams in an EUV beams exposure reflection type mask for use in transferring a pattern in a semiconductor manufacture, or the like.
半導体製造等におけるパターン転写の際に使用されるＥＵＶ光露光用反射型マスクにおいて、ＥＵＶ光を反射する多層膜上に成膜されるエッチングストッパー層の膜厚のむらに起因するパターンのコントラスト低下を抑制する。 - 特許庁 - As a semiconductor light emitting element electrically connected to a wiring pattern extended at a remote place in the direction separated from the mounting surface side among parts exposed from a sealing resin part of the wiring pattern, the one with electrostatic voltage resistance higher than those of other semiconductor light emitting elements is selected.
配線パターンの封止樹脂部から露出した部分のうち、実装面側から離れる方向に遠い位置に延設された配線パターンに電気的に接続された半導体発光素子は、他の半導体発光素子より静電耐圧の高いものが選択される。 - 特許庁 - The frequency characteristics information of the thinned images are compared with one another, and a divided mask pattern to be applied to input image data is selected from the plurality of mask data stored in the storing device to form an image using the selected divided mask pattern.
その後、複数の間引き画像それぞれの周波数特性情報を比較して、記憶手段に格納されている複数のマスクデータの中から、入力画像データに適用すべき分割マスクパターンを選択し、選択した分割マスクパターンを用いて画像の形成を行う。 - 特許庁 - A plurality of a roller 30 and a roller 32 are mounted in the backward part of the surface layer feeder 24 to push the base material 22 and the surface layer 26, and the roller 30 of the two rollers has a pattern on its surface to form a pattern on the surface of the surface layer 26.
複数個のローラー３０及びローラー３２は、表面層供給装置２４の後方に装着され、基材２２と表面層２６を押し、そのうちの一つのローラー３０は表面に表面層２６の表面にパターンを形成するための模様を有する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a protective layer on the surface of a photomask which enables the formation of the flat surface of the protective layer on a pattern formation surface without causing the incorporation of air bubbles between the protective layer and the pattern formation surface of the photomask.
フォトマスク表面への保護層の形成方法において、保護層とフォトマスクのパターン形成面との間に気泡の混入がなく、パターン形成面の上に平坦な保護層表面が形成される、フォトマスク表面への保護層の形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The road constituting a trunk road is guided since the direction guide information as to the trunk road is searched, since the branch pattern is prepared based on the direction guide information and since the direction guide is carried out to the driver according to the branch pattern.
幹線道路についての方面案内情報が探索され、該方面案内情報に基づいて分岐パターンが作成され、分岐パターンに従って運転者に対して方面案内が行われるので、幹線道路を構成する道路を案内することができる。 - 特許庁 - The selection unit 305, if a variation pattern determined by the prior determination unit 302 is a specific variation pattern corresponding to predetermined specific performance among a plurality of performances, selects a specific interpretation notice related to reliability of the specific performance.
選択部３０５は、事前判定部３０２によって判定された変動パターンが、複数の演出のうち予め定められた特定の演出に対応する特定の変動パターンである場合、当該特定の演出の信頼度に関する特定解説予告を選択する。 - 特許庁 - To form a dummy conductive land in a layer where the connection pattern of a multilayer printed circuit board is not formed, to prevent through hole plating from being deformed due to thermal stress by the conductive land, and to secure the continuity between the connection pattern and through hole plating.
本発明は、多層プリント基板の接続パターンが形成されていない層にダミーの導電ランドを形成し、この導電ランドによってスルーホールメッキの熱ストレスによる変形を防止し、接続パターンとスルーホールメッキとの導通を確保することを目的とする。 - 特許庁 - A thin plate B made of artificial marble having the same pattern as the surface of an artificial marble main body A is bonded to the side surface of the plate-shaped artificial marble main body A obtained by molding a resin compound for manufacturing the artificial marble prepared by mixing a pattern material 1 and a base resin.
柄材１とベース樹脂とを混合した人造大理石製造用樹脂コンパウンドを成形して得た板状をした人造大理石主体Ａの側面に、人造大理石主体Ａの表面と同じ模様をした人造大理石製の薄板Ｂを貼着する。 - 特許庁 - In a first special pattern variation processing, the CPU of a main substrate reads respective random number values and performs a big winning judging processing when a second big winning under-execution flag is not set and the variation of a first special pattern can be started.
第１特別図柄変動処理において、主基板のＣＰＵは、第２大当り実行中フラグがセットされておらず、かつ、第１特別図柄の変動を開始することができる状態であれば、各乱数値を読み出して大当り判定処理を行う。 - 特許庁 - In this case, the adding pattern of pixel output is determined according to the type of image processing to be performed by an image processor 4 of a later stage, and an image is generated by adding the pixel output of image signals to be outputted from the imaging device 1 by the adding pattern.
その際、後段の画像処理装置４で行われる画像処理の種別に応じて画素出力の加算パターンを決定し、その加算パターンにより撮像素子１から出力される画像信号の画素出力を加算して画像を生成する。 - 特許庁 - The laser resonator has a substrate and a waveguide resonance trellis partially including the gain quality of a material, wherein the waveguide resonance trellis is formed to an arbitrary pattern, the laser emission surface is formed into an arbitrary pattern, and laser beams are emitted in both directions.
レーザ共振器は、基板と、ゲイン材質を一部に含む導波モード共鳴格子を有し、導波モード共鳴格子は任意パターンに形成されており、レーザ発光面が任意パターンであることを特徴とし、面方向にレーザ光が出力されることを特徴とする。 - 特許庁 - Each bit of the synchronous pattern 220_0 is also inputted to an all-"0" detection circuit 281, and when all-"0" is detected, a first AND circuit 284 does not output a synchronous pattern detection signal 286 even in the case of coincidence in the coincidence circuits 260 to 267.
同期パタン２２０_0の各ビットはオール「０」検出回路２８１にも入力され、オール「０」が検出された場合には一致回路２６０〜２６７で一致した場合であっても第１のアンド回路２８４は同期パタン検出信号２８６を出力しない。 - 特許庁 - A light emitting element and a light receiving element are formed on a semiconductor chip adjacent to each other, the light emitting element on the semiconductor chip projects a pattern for measuring a three- dimensional shape and the light receiving element on the chip picks up the image of the pattern on the optical axis.
半導体チップ上に発光素子と受光素子とを隣接して形成し、３次元形状計測用の投光パターンを半導体チップ上の発光素子によって投影し、同パターンをこのチップ上の受光素子によって、同光軸上で撮像する。 - 特許庁 - The mail forming function 14 is constituted so as to be capable of selecting the quotation pattern from the main patterns A-E in the formation of a return mail to a prescribed received mail and also selecting the quotation pattern with the sub-patterns A-C composed to the main patterns.
メール作成機能１４では、所定の受信メールに対する返信メールの作成時に、主パタンＡ乃至Ｅの中から引用パタンが選択可能に構成され、また、副パタンＡ乃至Ｃを前記主パタンに複合させる選択も可能に構成されている。 - 特許庁 - To provide a method for detecting a defective area using image processing by which a smoothing comparison image of an edge part of a pattern is prevented from becoming gentle and a fault place is accurately detected without misrecognizing an end part of the pattern as a fault place.
パターンのエッジ部分の平滑化比較画像がなだらかになることを防ぎ、パターンの端部を故障箇所と誤認することなく正確に故障箇所を検出することが可能な画像処理を用いた不良箇所検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - It is constituted so that the letter or the pattern of figure can be confirmed by eyes, which is formed by recording a pit pattern on a plurality of tracks on a recording surface using a data modulation recording method used at the time of recording data on an information recording medium.
本発明は、情報記録媒体にデータを記録する際に用いるデータ変調記録方法を用いて、記録面上の複数のトラック上にピットパターンを記録することで形成された文字もしくは図形のパターンを目視により、確認できるようにした。 - 特許庁 - To provide a new decorative concrete block excellent in designability in which a suitable pattern is formed on the outer surface of a concrete block body, and appearance of the pattern formed on the block changes between a wetted case by a rain or the like and a dry case.
コンクリートブロック本体の外表面に好適な模様が形成され、雨等で水に濡れた場合と乾燥している場合とで、ブロックに形成された模様の見え方が変わる、意匠性に優れた新たな化粧コンクリートブロックを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The lithography system includes an illumination system for providing projection beams, a mask table for supporting a mask that gives a pattern to the cross-section of the projection beams, a substrate table that holds the substrate, and a projection system that projects the pattern-formed beams to the target portion of the substrate.
投影ビームを提供する照明システムと、投影ビームの断面にパターンを与えるマスクを支持するマスクテーブルと、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含むリソグラフィシステムに関する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a double-sided photomask, wherein there is not risk that a light shielding pattern on a front surface is damaged by abnormal discharge when a light shielding film is formed on a rear surface after formation of the light shielding pattern on the front surface.
両面フォトマスクの作製方法において、表面に遮光パターンを形成した後、裏面に遮光膜を成膜するときに、異常放電による表面側の遮光パターンへのダメージ発生の恐れがない両面フォトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a curable composition having good pattern forming property and excellent in adhesion to a hard surface as a base, even when a colorant is contained at a high concentration, a color filter obtained by forming a high-resolution colored pattern, and a method for producing the same.
着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れた硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern forming device is provided with an intaglio retaining a pattern by a developer, a transferring device transferring patterns 27, 28, 29 developed on the intaglio onto a medium for transfer 31, and a baking furnace 40 for erasing or making high in resistance an electrode layer 32 after the transfer.
パターン形成装置は、現像剤によるパターンを保持する凹版、凹版に現像されたパターン２７、２８、２９を被転写媒体３１に転写する転写装置、および転写後に電極層３２を消失或いは高抵抗化するための焼成炉４０を有する。 - 特許庁 - In the hologram pattern 40 formed in the hologram optical element, the diffracted beam is twisted by a pattern 1a in the clockwise direction to form a semicircular spot Sa of the converging light on the light detecting parts A, B, crossing the division line LX of a quadripartite light detecting part 60.
ホログラム光学素子に設けられるホログラムパターン４０において、パターン１ａは回折光束を時計回りにねじり、４分割光検出部６０の分割線ＬＸを跨ぐように光検出部Ａ，Ｂ上に半円形状の集光スポットＳａを形成する。 - 特許庁 - The conversion process contains: a process of determining a fill pattern of a minute pixels group in response to a correction gradation value obtained by adding a correction value to a gradation value of an attended pixel; and a process of calculating an error between the correction gradation value and the gradation value represented by the fill pattern.
変換処理は、注目画素の階調値に補正値を加算して得られる補正階調値に応じて微画素群の塗り潰しパターンを決定する処理と、補正階調値と塗り潰しパターンで表される階調値との誤差を算出する処理とを含む。 - 特許庁 - To provide a practical method for manufacturing a pattern-forming material for an artificial marble, which employs a film-pulverizing step and is capable of improving a yield of coloration compared to other cases, and the pattern-forming material for an artificial marble manufactured by the method.
フィルムの粉砕工程を用いながら、かかる他者の実情に比較して着色の歩留まりを向上させることの可能な実用的な人造大理石用柄材の製造方法及びこの製造方法により製造した人造大理石用柄材を提供すること。 - 特許庁 - A plurality of dot-like patterns 4 colored desirously are printed on almost the whole back side of the decorative body 2 so that they are arranged in a second pattern B being the same as the first pattern A brought to the sparse state gradually from the dense region of the decorative body 2 toward the sparse region thereof.
プレート状装飾体２の略裏面全体に、所望の色に着色したドット状の模様４…を印刷し、装飾体２の密領域から粗領域に向けて徐々に粗状態となる第１パターンＡと同一の第２パターンＢに配列する。 - 特許庁 - With this constitution, in low-beam irradiation, the region near the cutoff line of the low-beam light distribution pattern in the on-coming vehicle lane side is not illuminated unnecessarily brightly, while sufficiently securing the luminous intensity in the above-mentioned region in the hot zone in high-beam light distribution pattern.
これにより、ロービーム照射時には、ロービーム配光パターンの対向車線側におけるカットオフライン近傍の領域が必要以上に明るくならないようにした上で、ハイビーム配光パターンのホットゾーンにおける上記領域の部分の光度を十分に確保する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the substrate comprises a step for forming a first insulation layer on the back of the substrate, a step for forming the pattern of the resistance heater on the first insulation layer, and a step for forming a second insulation layer on the pattern of the resistance heater.
この基板の製造方法は、基板裏面上に第１の絶縁層を形成する工程と、第１の絶縁層上に抵抗発熱体パターンを形成する工程と、抵抗発熱体パターン上に第２の絶縁層を形成する工程とを有する。 - 特許庁 - A dynamic image encoder 100 includes: an encoding section 110 for encoding an input image to produce a code sequence; and a film grain encoding section 130 for selecting a film grain component of at least one macro block to obtain a representative pattern and encoding the representative pattern.
動画像符号化装置１００は、入力画像を符号化して符号列を生成する符号化部１１０と、少なくとも１つのマクロブロックのフィルムグレイン成分を選択して代表パターンとし、この代表パターンを符号化するフィルムグレイン符号化部１３０とを備える。 - 特許庁 - A first sensing wiring pattern 34a and a second sensing wiring pattern 34a which pass a detection signal corresponding to the detection vibration of a vibrating body in the sensor element 31 caused by the Coriolis force are extened and formed in respectively opposite directions from the sensor element 31.
コリオリ力に起因した振動型センサ素子３１の振動体の検出振動に応じた検出信号を通す第１検出用配線パターン３４ａと第２検出用配線パターン３４ｂを振動型センサ素子３１からそれぞれ逆向きに伸長形成する。 - 特許庁 - Gradation correction by a method of gradation correction for laser scanning exposure is performed on the basis of measured density values of a test print including a horizontal stripe test pattern comprising horizontal line groups extending in a main scanning direction and a vertical stripe test pattern comprising vertical line groups extending in a sub scanning direction.
主走査方向に延びる横ライン群からなる横縞テストパターン及び副走査方向に延びる縦ライン群からなる縦縞テストパターンを有するテストプリントの測定濃度値に基づいて、レーザ走査露光のための階調補正方法階調補正が行われる。 - 特許庁 - The SF data output from the conversion LUT 840 to the data line driving circuit 101 is output to the data line driving circuit 101 as a code pattern that is a digital signal formed by coding the corrected image signal VIDc in accordance with SF code pattern 1 or 2.
変換ＬＵＴ８４０からデータ線駆動回路１０１に出力されるＳＦデータは、補正済みの画像信号ＶＩＤｃをＳＦコードパターン１或いは２に応じてコード化してなるデジタル信号であるコードパターンとしてデータ線駆動回路１０１に出力される。 - 特許庁 - To perform appropriate correction in order to suppress dimension nonuniformity in the plane of a semiconductor substrate or between the semiconductor substrates to the minimum by suppressing influence from the circumference of a pattern to the minimum when exposing the pattern which is fine with a large difference in crude density.
微細且つ密度の粗密差の大きいパターンを露光する際に、当該パターンの周囲からの影響を最小限に抑え、半導体基板面内や半導体基板間における寸法ばらつきを最小限に抑えるべく適切な補正を実現する。 - 特許庁 - To provide a fixed point detecting apparatus and a displacement measuring apparatus which can distinguish an individual fixed point detecting pattern from among a plurality of fixed point detecting patterns and easily select a fixed point obtained by each fixed point detecting pattern.
定点検出用パターンを複数設けても、その中から個々の定点検出用パターンを区別することができ、各定点検出用パターンにより得られる定点を簡単に選択することができる定点検出装置及び変位測定装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type resist composition which can suppress the dimples produced when using a halftone phase shift mask and permits the strict control of the variation of resist pattern sizes per unit temperature in order to cause the thermal flow of the resist pattern after development.
ハーフトーン位相シフトマスクを用いたときに生じるディンプルを抑制することができ、しかも現像後のレジストパターンを熱フローさせるため、単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量を厳密にコントロールできる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - This game machine is so formed that, synchronized with the output of the voice by a voice output device 33, the variable display of special pattern rows on a display window 3a is made to temporarily stop twice from a state of variably displaying special pattern rows on respective display windows 3a-3c, and then made to stop lastly.
各表示窓３ａ〜３ｃに特別図柄列を変動表示している状態から、音声出力装置３３による音声の出力に同期させて、表示窓３ａでの特別図柄列の変動表示を２度仮停止した後に、最終停止する。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board capable of improving reliability wherein, even when an insulation board material and a conductor pattern are expanded/shrinked due to heat and the expansion/shrinkage results in land exfoliation, this does not lead to breakage of the conductor pattern, and to provide an electronic apparatus.
電子部品をはんだ付けする際に絶縁基材や導電パターンが熱によって膨張、収縮しランド剥離現象が生じても導電パターンの断線にはつながらず信頼性を向上させることができるプリント基板および電子機器を提供する。 - 特許庁 - It is previously determined whether a presentation symbol variation pattern is changed to a variation pattern with super ready-to-win status or not on starting prize winning entry of a game ball before variation is started, and super ready-to-win previous notice presentation is executed before starting variable display of presentation symbols.
変動開始前の始動入賞時に、演出図柄の変動パターンがスーパーリーチを伴う変動パターンとなるか否かをあらかじめ判定し、その演出図柄の可変表示が開始される以前に、スーパーリーチの予告演出を実行可能である。 - 特許庁 - This band-like building interior finishing decorative material, the design pattern of which is printed on the basis of the design pattern data of another member combined with the band-like building interior finishing decorative material by ink jet printing, is pasted to the member so as to obtain the building interior finishing decorative material.
絵柄模様が、帯状建築内装装飾材と組み合わせる他の部材の絵柄模様データを基にインクジェット印刷によって印刷された帯状建築内装装飾材であり、これを部材に貼着等することにより建築内装装飾材とする。 - 特許庁 - This apparatus is equipped with a seat cushion pan 12A, a seat cushion pad 13A retained by this seat cushion van 12A, and a seated pattern sensor 14A that detects seated state of a sitter or the like on this seat cushion pad 13A, and the seated pattern sensor 14A is disposed between the seat cushion pan 12A and seat cushion pad 13A.
シートクッションパン12A と、このシートクッションパン12A に保持されるシートクッションパッド13A と、このシートクッションパッド13A への乗員等の着座状態を検出する着座パターンセンサ14A とを具備し、かつ着座パターンセンサ14A をシートクッションパン12A とシートクッションパッド13A との間に配設する。 - 特許庁 - To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.
設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁 - In applying the application liquid onto the substrate and forming a line-like pattern, discharging of the application liquid is initiated from an inward position X0 which is inward from an originally intended start position X1, while keeping the amount of the gap between a nozzle and the substrate to a smaller value G0 than the height of the pattern.
基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置Ｘ1よりも内側の位置Ｘ0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値Ｇ0にして塗布液の吐出を開始する。 - 特許庁 - To eliminate the problem that in a method for printing to add a forgery preventing pattern by halftone dots having different area ratios, since the forgery preventing pattern is synthesized with print data in a host computer and transferred to a printer, the load in the host computer is increased, so that the data transfer volume is increased.
面積比率の異なる網点による偽造防止パターンを付加する印刷方法においては、ホストコンピュータにおいて印字データに偽造防止パターンを合成してプリンタへ転送するため、ホストコンピュータでの負荷が増え、データ転送量が増大してしまう。 - 特許庁 - 21.(1) Each representation of a design which consists of a repeating surface pattern shall show the complete pattern and a sufficient portion of the repeat in length and width to disclose adequately the design, and such representation shall be of a size not less than A5.
規則21 (1) 反復平面模様から成る意匠の各表示においては，模様全体並びに意匠を適切に開示するのに十分な長さ及び幅での反復模様の部分を明示するものとし，かつ，当該表示の大きさは，A5以上でなければならない。 - 特許庁 - To provide a laser beam piercing device capable of displaying a plurality of laser beam irradiation regions decided by the parameter inputted by an operator as an irradiation pattern and displaying the evaluation result of piercing by the irradiation pattern.
オペレータが入力したパラメータにより決定される複数のレーザ照射領域の表示を、照射パターンとして表示させると共に、この照射パターンで加工した場合の評価結果をも表示させることのできるレーザ穴あけ加工装置を提供すること。 - 特許庁 - If at least one packet in a set of packets fails then an error pattern E is generated for each packet by comparing the failed packet with one packet that has passed the CRC verification, and comparing the error pattern to a set of known error patterns.
パケットのセット内の少なくとも１つのパケットが失敗した場合、パケットごとに、失敗したパケットを、ＣＲＣ検証に合格した１つのパケットと比較することによって誤りパターンＥを生成し、この誤りパターンを既知の誤りパターンのセットと比較する。 - 特許庁 - The DRIE is executed from the surface 151b side, a remaining silicon substrate 151c is selectively removed by using the rough comb mask pattern 154 as a mask, and a remaining silicon substrate 153c is selectively removed by using the comb electrode mask pattern 152b as a mask.
面１５１ｂの側からＤＲＩＥをおこなって、粗櫛歯マスクパターン１５４をマスクにして残存シリコン基板１５１ｃを選択的に除去し、さらに櫛歯電極用マスクパターン１５２ｂをマスクにして残存シリコン基板１５３ｃを選択的に除去する。 - 特許庁 - Correction value generating means 41 generates a correction value for the pixel position of each pixel having the same arrangement pattern, the correction value being used for correcting the nonuniformity in pixel characteristics caused by a difference in position between the pixels in the arrangement pattern.
補正値生成手段４１は、共有画素を構成する画素の画素データのそれぞれについての、配列パターン内における各画素位置の違いに起因する画素特性の不均一性を補正するための補正値を、配列パターン内における各画素位置毎に生成する。 - 特許庁 - After a resist film is formed on the surface of a semiconductor device 10, a wiring pattern 24 is formed by exposing the resist film with a light, wherein dummy patterns 26 which are close to the wiring pattern 24 are also formed simultaneously.
半導体装置１０の表面にレジスト膜１４を形成した後、当該レジスト膜１４への露光を行い配線用パターン２４を形成するとともに、前記露光にて当該配線用パターン２４に近接するダミーパターン２６も同時に形成することとした。 - 特許庁
