「patterned layer」を含む例文一覧(1139)
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薄膜パターン層を有する基板構造とその製造方法 - 特許庁 - WATER SOLUBLE RESIN MIXTURE AND METHOD FOR FORMING PATTERNED RESIST LAYER
水溶性樹脂混合物およびパターン化レジスト層形成方法 - 特許庁 - A passivation layer is formed, and then the passivation layer over the pixel electrodes and the patterned metal layer on the pixel electrode are removed to expose the patterned transparent conductive layer.
不動態化層を形成し、ピクセル電極の上の不動態化層とピクセル電極のパターン化された金属層を除去して、パターン化された透明な導電層を露出する。 - 特許庁 - Using the patterned photoresist layer as a mask, the cover layer 50 is etched off.
パターンニングされたフォトレジスト層をマスクとして使用してカバー層をエッチング除去する。 - 特許庁 - The transparent conductive layer 3 is patterned by using the resist layer 4 as a mask pattern.
そして、このレジスト層４をマスクパターンとして、透明導電層３をパターニングする。 - 特許庁 - A semiconductor layer is deposited on the thermally insulative layer and patterned for electrical interconnects.
半導体層はこの断熱層上へ堆積され、電気配線用にパターン化される。 - 特許庁 - The patterned supporting layer is on the inner front diffusion layer between the first electrodes.
パターン化支持層は、第一電極間で内側前方光拡散層上にある。 - 特許庁 - Finally, a patterned transparent electrode layer is again formed on the second metal layer.
最後に第二金属層上にパターン化された透明電極層を再度形成する。 - 特許庁 - The present invention relates to improved adhesion between the patterned conductive metal layer, ordinarily copper layer, and a patterned barrier dielectric layer.
本発明は、パターン形成された導電性金属層、通常は銅層、およびパターン形成された障壁誘電体層との間の改善された接着に関する。 - 特許庁 - On the protective layer 3, a photoresist layer 4 is formed by coating, and is patterned to form a mask layer 5.
その上にフォトレジスト層４を塗布によって形成し、これをパターニングしてマスク層５を形成する。 - 特許庁 - Moreover, a patterned semiconductor layer is formed to form a channel layer above the gates.
更に、パターン化された半導体層が形成されてチャネル層がゲート上方に形成される。 - 特許庁 - The semiconductor layer is patterned with the same mask as that for patterning the transparent conductive layer.
半導体層が透明導電層をパターン化するマスクと同一のマスクでパターン化される。 - 特許庁 - The semiconductor layer 103 and the first n+a-Si layer 104 are simultaneously patterned.
半導体層１０３と１層目のｎ＋ａ−Ｓｉ層１０４を同時にパターニングする。 - 特許庁 - The upper skin layer exits the light through a prism patterned front surface.
アッパースキン層は、プリズム形状のフロント面を通じて出射する。 - 特許庁 - Then a silicon layer 103 is patterned by using these oxide silicon patterns 141, 142 as masks.
この後、これらをマスクとしてシリコン層１０３をパターニングする。 - 特許庁 - Then the patterned layer of the polymer film 32 is transferred to a glass substrate 35.
高分子フイルム32のパターン付き層が、ガラス基板35に転写される。 - 特許庁 - BASE MATERIAL HAVING PATTERNED METAL LAYER, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
パターン化された金属層を有する基材及びその製造方法 - 特許庁 - (7) The resist layer is developed to obtain the patterned resist film of the predetermined thickness.
（７）現像してパターニングした所要の層厚のレジスト層を得る。 - 特許庁 - The copper layer on the surface is patterned, and a wiring pattern 23 is formed.
表面の銅層をパターニングし、配線パターン２３を形成する。 - 特許庁 - A patterned photoresist layer is formed on the film.
それから、その膜の上にパターン化されたフォトレジスト層が形成される。 - 特許庁 - The photoresist layer is patterned to form the photoresist template mask.
フォトレジスト層がパターン化されて、フォトレジストテンプレートマスクが形成される。 - 特許庁 - OLEOPHOBIC MEMBRANE INCLUDING PRINTED PATTERNED LAYER OF PARTICLE AND METHOD
粒子の印刷パターン状層を有する疎油性メンブレン及び方法 - 特許庁 - PHOTORECEPTOR DEVICE HAVING SELF-ASSEMBLED PATTERNED BINDER LAYER
自己組織化されパターン化されたバインダ層を有する感光体デバイス - 特許庁 - The transfer layer is then selectively patterned on a receptor.
次に、前記転写層が、受容体上に選択的にパターン化される。 - 特許庁 - This integrated circuit has a stop layer 220 patterned on a metal layer 210, and furthermore has a second layer 230 formed on this patterned stop layer 220.
本発明の集積回路は、金属層２１０の上にパターン形成されたストップ層２２０を有し、さらにこのパターン形成されたストップ層２２０の上に形成された第２層２３０とを有する。 - 特許庁 - A seed layer 22 is patterned on a translucent substrate 21 and a negative resist layer 34 is formed on the seed layer 22.
透光性基板２１上にシード層２２をパターン形成し、この上にネガ型のレジスト層３４を形成する。 - 特許庁 - The fine circuit pattern is inlaid in the composite layer, and the patterned conductive layer is disposed on a surface of the composite layer.
微細回路パターンが複合層にちりばめられ、パターン化導電層が複合層の表面上に配置される。 - 特許庁 - The method also comprises steps of forming a silicon carbide hard mask layer, and then forming a patterned photoresist layer on the silicon carbide layer.
炭化ケイ素ハードマスク層を形成した後、この炭化ケイ素層上にパターン化したフォトレジスト層を形成する。 - 特許庁 - An etching stopper layer 20A is formed on the upper layer of a heat generating element (20) and then a protective layer is formed and patterned.
発熱素子（２０）の上層にエッチングストッパー層２０Ａを形成し、その後、保護層を形成してパターンニングする。 - 特許庁 - Thus, the formed pellicle patterned layer is excellent in uniformity of a thickness.
従って、形成された薄膜パターン層は、厚さの均一性が良くなる。 - 特許庁 - The hybrid filter contains narrow band filter (916) and patterned filter layer.
ハイブリッドフィルタは、狭帯域フィルタ（９１６）およびパターン化フィルタ層を含む。 - 特許庁 - The semiconductor material layer is patterned to form a semiconductor layer using the pixel electrode and the patterned photo-resist layers as an etching mask.
ピクセル電極およびパターニングされたフォトレジスト層をエッチングマスクとして用いて半導体材料層をパターニングして半導体層を形成する。 - 特許庁 - A metal wiring layer 13 is patterned together with a hard mask HM1.
メタル配線層１３はハードマスクＨＭ１を伴ってパターニングされている。 - 特許庁 - Then a part of the mask layer is patterned to form a step part.
その後、前記マスク層の一部分をパターニングして段差部を形成する。 - 特許庁 - The structure having the improved adhesiveness contains an adhesive layer between the patterned barrier dielectric layer and the patterned conductive metal layer.
改善された接着性を有するこの構造は、パターン形成された障壁誘電体層とパターン形成された導電性金属層との間に接着層を含んでいる。 - 特許庁 - By using the patterned primer resin layer 21 as a mask, the metal layer 12 of the double-face CCL 10 and the metal-plated layer 30 are patterned, and a wiring pattern is formed.
そして、そのパターニングされたプライマー樹脂層２１をマスクとして、両面ＣＣＬ１０の金属層１２及び金属めっき層３０をパターニングして配線パターンを形成する。 - 特許庁 - A patterned transparent conductive layer and a patterned metal layer are sequentially formed to define data lines, source/drain electrodes, pixel electrodes and etching protective layer.
パターン化された透明な導電層とパターン化された金属層を順番に形成することにより、データライン、ソース／ドレイン電極、ピクセル電極、エッチング保護層を画定する。 - 特許庁 - A patterned Ni layer 23 and an Ag layer 24 are formed over a flexible metal plate 21.
可撓性を有する金属板にパターニングされたＮｉ層２３とＡｇ層２４とを形成する。 - 特許庁 - A photoresist layer 4 is further formed thereon by coating and patterned to form a mask layer 5.
その上にフォトレジスト層４を塗布によって形成し、これをパターニングしてマスク層５を形成する。 - 特許庁 - A single conductor layer is patterned above the single insulator layer at the same time.
さらに本発明では、単一の絶縁体層の上方に単一の導体層を同時にパターニングする。 - 特許庁 - A patterned layer may be disposed at a proper position, e.g. between the transparent plate 2 and the hard coat layer 5.
透明板２とハードコート層５の間等の適宜な位置に、模様層を有していてもよい。 - 特許庁 - The circuit board structure comprises a composite layer, a fine circuit pattern, and a patterned conductive layer.
複合層と、微細回路パターンと、パターン化導電層を含む回路板構造を提供する。 - 特許庁 - SELECTIVE GROWTH OF ZnO NANOSTRUCTURE USING PATTERNED ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) ZnO SEED LAYER
パターニングされたＡＬＤＺｎＯシード層を用いたＺｎＯのナノ構造の選択的な成長 - 特許庁 - (8) The conductive layer area exposed in the patterned resist layer is removed through the etching process.
（８）パターニングしたレジスト層にて露出された導電性層の部分をエッチングにより除去する。 - 特許庁 - A dielectric layer is formed over the substrate, and then a patterned photoresist layer is formed thereon.
基板上に誘電体層を形成し、それからパターンニングしたフォトレジスト層をその上に形成する。 - 特許庁 - The method also comprises a step of patterning the silicon carbide layer by using the patterned photoresist layer as a mask.
そして、パターン化したフォトレジスト層をマスクとして用いて、この炭化ケイ素層をパターン化する。 - 特許庁 - Then, the insulating layer is patterned to provide an opening 112 which is exposed as a part of the substrate on the insulating layer 108, and a patterned conductor layer 114 is so formed as to fill the opening on the insulating layer, forming a hemispherical Si particle layer on the conductor layer.
次に、絶縁層をパターンニングして基板の一部を露出する開口を絶縁層に設け、開口を満たすように絶縁層上にパターンニングした導体層を形成し、導体層上に半球状Ｓｉ粒子層を形成する。 - 特許庁 - The patterned structure may be a diffractive structure comprising one of a semitransparent reflective layer, a high refractive index layer and a patterned reflective coating.
パターン化された構造は、半透明反射層、高屈折率層およびパターン化された反射コーティングのうちの１つを備えた回折構造であってもよい。 - 特許庁 - To provide a new method for forming a patterned sloping photoresist layer.
パターン化された傾斜フォトレジスト層の新しい形成方法を提供する。 - 特許庁 - The patterned semiconductor layer over the scan lines between the etching protective layers and the data lines is removed to expose the patterned dielectric layer over the scan lines.
エッチング保護層とデータラインの間の走査線の上のパターン化された半導体層は除去され、走査線の上にパターン化された誘電体層を露出する。 - 特許庁
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