「patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 77 78 次へ＞- The equipment comprises a substrate support WT which is assembled so as to support the substrate, a projection system PS which is constituted so as to project a patterned radiation beam on a target part of the substrate, and a frame to which at least part of the projection system is attached.
本装置は、基板を支持するように組み立てられた基板支持物ＷＴ、パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムＰＳ、及び投影システムの少なくとも一部が取り付けられているフレームを含む。 - 特許庁 - A hard mask layer is patterned through self-organization of a block copolymer, by which a micropattern is formed in the hard mask layer, and at the same time the hard mask layer can be formed as a mask having a high etching selection ratio to a thin-film layer.
本発明によれば、ハードマスク層をブロックコポリマーの自己組織化を用いてパターニングを行うことにより、ハードマスク層に微細パターンを形成するのと同時に、ハードマスク層を薄膜層に対して高いエッチング選択比を備えたマスクとして形成することが出来る。 - 特許庁 - Then after placing a resist 27 on the polysilicon 7, the gate 7c and the gate oxide film 6 of the peripheral transistor 50 are patterned by using the resist 27 as a mask, and the electrode layer 7b of the second layer and the insulating film 5 are removed to form a contact hole 12.
そして、ポリシリコン７の上にレジスト２７を配置したのち、レジスト２７をマスクとして、周辺トランジスタ５０のゲート７ｃ及びゲート酸化膜６をパターニングすると共に、２層目の電極層７ｂ及び絶縁膜５を除去してコンタクトホール１２を形成する。 - 特許庁 - The light-emitting diode has a first and a second opposing surfaces, is transparent with respect to light radiation of a predetermined wavelength range, and in section includes a substrate patterned so as to form a plurality of pedestals which extends in the substrate toward from the first surface to the second surface.
発光ダイオードは、第１及び第２の対向する面を有し、所定の波長範囲の光放射に対しては透明であり、断面では、第１の面から第２の面に向かって基板の中に延びる複数のペデスタルを形成するようにパターン化された基板を含む。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition having high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance and high transparency, excellent in adhesion to a base, and capable of forming a patterned transparent film by development with an alkaline aqueous solution.
高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターン状透明膜を形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition that can be patterned by exposure to active rays such as UV rays and has higher adhesion to a wafer, a glass substrate or an organic substrate as a substrate compared to a conventional electronic/electric insulating material, and excellent liquid repelling property.
紫外線などの活性光線の露光によりパターニングが可能で、基材となるウエーハやガラス基材、有機基板等への接着力が、従来の電子・電気絶縁材料よりも高く、かつ撥液性にも優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The printed circuit board (110) comprises a conductive layer (20), a via (10) traversing the conductive layer, and a patterned conductive material (200) having a plurality of voids (210) in the vicinity of the via of the conductive layer.
本発明の一実施例では、導電層（２０）と、前記導電層を横断するバイア（１０）と、前記導電層の前記バイアの近くに複数の空隙（２１０）を有する、あるパターンをなす導電材料（２００）とを具備する、印刷回路基板（１１０）が与えられる。 - 特許庁 - Furthermore, a metal film is formed on the semiconductor thin film 5, with an interlayer insulation film interposed in between to block the source region side and drain region side, and the metal film is patterned to make wirings 8D, 8S and 8Z so that the channel region does not become blocked.
更に、半導体薄膜５の上に層間絶縁膜を介して金属膜を成膜し、ソース領域側及びドレイン領域側を遮閉する一方、チャネル領域を遮閉しない様に金属膜をパタニングして配線８Ｄ，８Ｓ，８Ｚに加工する。 - 特許庁 - Consequently, variation in irradiation position of an electron beam based on a vibration transmitted from the outside of an apparatus, e.g., from the floor surface on which an electron beam lithography apparatus 100 is mounted, can be corrected efficiently and thereby the substrate W can be patterned precisely.
これにより、電子線描画装置１００が載置された床面など、装置の外部から伝わる振動に基づく電子線の照射位置の変動分を効率的に補正することができ、結果的に、基板Ｗに精度よくパターンを描画することが可能となる。 - 特許庁 - A rough surface 5 with pyramidal parts 3 ranging in parallel lines 6 is formed on one surface of a patterned film 1 in such a way that the lines 6 are inclined at a prescribed angle to each side 7 of the film 1.
型フィルム１の一表面には、一直線状に連なる角錐形状の凸部３の列６が平行に複数列形成された粗面５が形成され、この一直線状に連なる凸部３の列６は、型フィルム１の端辺７に対して所定角度で傾斜する。 - 特許庁 - The first fixing element 16 is arranged in a first region 19 in a frame region 11, in which at least parts of two or more conductors 14 are patterned close to each other, and covers at least parts of the two or more conductors 14.
第１の固着要素１６は、額縁領域１１のうち、少なくとも２個の導体１４の少なくとも一部分が互いに近接してパターニングされている第１領域１９に配置されて、少なくとも２個の導体１４の少なくとも一部分を被覆する。 - 特許庁 - This decorative sheet for a flooring material is provided with a picture-patterned layer and a surface protecting layer in this order on a rigid film having at least a 100-500 μm thickness, wherein the rigid film has ≥1,000 MPa tensile modulus measured according to the provision of JIS K6734.
少なくとも厚みが100〜500μmの硬質フィルム上に、絵柄模様層、及び表面保護層を順に有する床材用化粧シートであって、硬質フィルムのＪＩＳ Ｋ６７３４の規定に従って測定した引張り弾性率が1000MPa以上である床材用化粧シート。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a patterned medium type magnetic recording medium preventing deterioration of a substrate surface in a manufacturing step, suppressing variation of worked shape and a loss time until discharge is stabilized and having a stable worked pattern shape and excellent reliability.
製造工程中にある基板表面の劣化を防ぎ、加工形状のばらつきおよび放電が安定するまでのロス時間を抑制し、加工したパターン形状が安定し信頼性にすぐれたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition that can be patterned by exposure to active rays, such as, UV rays and has higher adhesion to a wafer, a glass base material or an organic substrate serving as a base material in comparison to a conventional electronic and electrical insulating material, and superior in heat resistance.
紫外線等の活性光線の露光によりパターニングが可能で、基材となるウエーハやガラス基材、有機基板等への密着性が、従来の電子・電気絶縁材料よりも優れ、かつ耐熱性にも優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - This process includes: exposing a first layer 106 to an active radiation through a patterned photomask to develop it and forming a first resist pattern 106' (Fig. 1B), heat-treating the formed resist pattern (Fig. 1C), and treating the surface of the first resist pattern with a substance effective for alkalization (Fig. 1D).
第１の層１０６を、パターン化されたフォトマスクを通した活性化放射線に露光・現像して第１のレジストパターン１０６’を形成した（図１Ｂ）後、熱処理し（図１Ｃ）、第１のレジストパターンの表面をアルカリ性にするのに有効な物質で処理する（図１Ｄ）。 - 特許庁 - The first set of apertures (12a) surrounding and close to a normal direction to the surface to be inspected (20) is connected to fibers (42) used to collect scattered radiation useful for the detection of micro-scratches and for anomaly detection on patterned surfaces.
検査される表面（２０）に対して垂直な方向を取り囲んだ第１の組の開口（１２ａ）が、マイクロスクラッチの検出に有用な散乱照射線を集めるために使用されるファイバ（４２）に接続され、パターン化された表面上の異常を検出する。 - 特許庁 - When transparent metal films 22A, 22B disposed on both front and rear faces of a transparent substrate 21 are patterned, an opaque layer 27 which blocks exposure light is formed on at least one of the transparent metal films and then photoresist films 23A, 23B are formed.
透明基材２１の表裏両面に設けた透明金属膜２２Ａ、２２Ｂをパターンに形成する際に、透明金属膜の少なくとも一方の透明金属膜上に露光光を遮光する不透明層２７を形成し、フォトレジスト膜２３Ａ、２３Ｂを形成する。 - 特許庁 - A multilayer reflective film 2 and an absorber film 4 are formed on the obtained mask blanking substrate 1 to make the reflective mask blank 10, and the absorber film 4 in the reflective mask blank 10 is patterned to form an absorber pattern to make the reflective mask 20.
得られるマスクブランク用基板１上に多層反射膜２及び吸収体膜４を形成して反射型マスクブランク１０とし、この反射型マスクブランク１０における吸収体膜４をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク２０とする。 - 特許庁 - There is provided the foaming sugar-coated food patterned with the mottles in which a recessed part of a sugar-coating material having an uneven pattern on the surface is coated with a foaming coating composition containing a foaming component composed of a carbonate and an acid as principal components and 10-30 wt.% of a solid fat.
表面に凹凸模様を有する糖衣物の凹部に、主成分として炭酸塩と酸とからなる発泡性成分及び固形脂１０〜３０重量％を含有する発泡性コーティング組成物がコーティングされた斑模様入り発泡性糖衣食品。 - 特許庁 - The micro-electrode array includes at least first and second polymer layers 14 and 32 between which two or more patterned conductive trait sections containing a metal osculation pad 26, a metal trace 28, and a metal electrode and which can be planted and has bio-compatibility.
微小電極アレイは、金属製接触パッド２６と金属製トレース２８と金属製電極とを含む複数のパターン化した導電性特徴部を挟む、少なくとも第１と第２の植え込み可能で生体適合性のある高分子層１４、３２を含む。 - 特許庁 - The skirt area 120 and one part of a patterned feature 124 in the window 118 are formed with areas, in which materials are made thinner/thicker or formed of different materials, so that the energy can be scattered at different angles in the different areas on a mask.
スカート領域１２０と、窓１１８内のパターン化フィーチャ１２４の一部とは、材料のより厚い／より薄い領域を有して形成され、あるいは異なる材料で形成され、それによりマスクの異なる領域（図９）は、異なる角度にエネルギを散乱する。 - 特許庁 - The apparatus includes a substrate support WT constructed to support the substrate, a projection system PS configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and a frame onto which at least a part of the projection system is mounted.
本装置は、基板を支持するように組み立てられた基板支持物ＷＴ、パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムＰＳ、及び投影システムの少なくとも一部が取り付けられているフレームを含む。 - 特許庁 - In the machining system of the capacitance type touch panel, two conductive layers are individually patterned by applying the laser beam to the conductive layers inside a preliminarily sticking transparent conductive film by using an adhesive layer having an ultraviolet ray absorbing layer.
本発明の静電容量式タッチパネルの加工方式は、紫外線吸収層を有する粘着層を用いて、予め貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電層にレーザ光を照射し、二層の導電層を個別にパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the electrooptical device, a tantalum film 6 is patterned to form a first tantalum pattern 6a and a second tantalum pattern 6b having a data line 2, a lower electrode 62 for a holding capacitor, and a common electrode 63.
電気光学装置の製造方法において、タンタル膜６をパターニングし、非線形素子用下電極６１を備えた第１のタンタルパターン６ａと、データ線２、保持容量用下電極６２、および共通電極６３を備えた第２のタンタルパターン６ｂとを形成する。 - 特許庁 - Next, the second beams SS of different kinds of radiation are patterned into a light region 1 and a dark region 2 similar to the projection beam PB, and the light region 1' is applied to the nonexposed region 2" of the resist layer R, and the dark region 2' is applied to the exposed region 1".
次に、前記と異なる種類の放射線の第２ビームＳＢを投影ビームＰＢと同様に明領域１と暗領域２′にパターン化して、明領域１′をレジスト層Ｒの非露出領域２″に、暗領域２′を露出領域１″に当てる。 - 特許庁 - An insulating film 53 is formed on a semiconductor substrate 51, in the same process as that of the gate insulating film of an MIS transistor which is present on the semiconductor substrate 51, and a gate electrode material layer 54 of the MIS transistor is formed on this insulating film, and patterned.
半導体基板５１上に、この基板上に存在するＭＩＳ型トランジスタのゲート絶縁膜と同一工程で絶縁膜５３を形成し、この絶縁膜上に上記ＭＩＳ型トランジスタのゲート電極材料層５４を形成してパターニングする。 - 特許庁 - A method for manufacturing a substrate with a Cu pattern is provided, in which the substrate with the Cu pattern is formed by treating a resin substrate with a strong alkaline aqueous solution, applying or printing a conductor ink containing copper element-containing particles to the treated resin substrate, and heating the patterned resin substrate to a temperature of 120°C or more in a gas atmosphere containing formic acid.
樹脂基板を強アルカリ水溶液で処理した後、銅元素含有粒子を含む導体インクを塗布あるいは印刷により成形した後、ギ酸を含むガス雰囲気中で１２０℃以上に加熱するＣｕパターン付基板の製造方法。 - 特許庁 - The pressure-sensitive transfer tape 8 for ornament is constituted by forming the metal deposit layer 2 on the base material 1 via the demolding layer and further forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 so as to pattern the patterned characters, the signals, the pictures, the patterns, the halftone dots, the figures and the others on the same by printing.
装飾用感圧転写テープ８は基材１上に離型層を介して金属蒸着層２が形成され、さらにその上に感圧接着層３が印刷によって、パターン化された文字、記号、絵柄、模様、網点、図形等を型取るよう形成されている。 - 特許庁 - First, when a front end part 12A is formed, a precursor main magnetic pole layer (the prearrangement layer of the main magnetic pole layer 12) is patterned with the buffer layer 15 as a mask, and accordingly the front end part 12A is highly precisely formed so that it may have a microwidth W1 to be targeted.
第１に、先端部１２Ａを形成する際、バッファ層１５をマスクとして前駆主磁極層（主磁極層１２の前準備層）がパターニングされるため、目標通りの微小幅Ｗ１となるように先端部１２Ａが高精度に形成される。 - 特許庁 - An optically activated device configured so as to guide radiation beam or patterned radiation beam M and a support structure 12, configured so as to support optically activated devices M1 to M6 are provided; and further, a gas supplier 14 for supplying a background gas 16 to a system is also provided.
放射ビームまたはパターン化された放射ビームBを導くように構成された光活性デバイスと、光活性デバイスM1〜M6を支持するように構成された支持構造１２とを備え、さらに、バックグラウンドガス１６をシステムに提供するためのガスサプライ１４を備えている。 - 特許庁 - To obtain a flexible printed wiring board which is free from the occurrence of a crack or a breakage on a metal foil that forms a patterned circuit even when subjected to repeated bending, of which the adhesive layer on the side of a base film or the side of a cover lay film has a high adhesive power and is free from peeling.
繰り返し屈曲を受けてもパターン回路を構成する金属箔にクラック、断線が生じることがなく、しかもベースフィルム側あるいはカバーレイフィルム側の接着剤層の接着力が高く、これらが剥離することがないフレキシブルプリント基板を得る。 - 特許庁 - To provide a method for fabricating a mask ROM in which a buried layer can be patterned easily in the boundary at the end of a segment select region and a memory cell array region while enhancing uniformity of polishing in a polishing process at the time of forming an isolation film.
素子分離膜形成の際、進行される研磨工程での研磨均一度を向上させながらセグメントセレクト領域とメモリセルアレイ領域の末端の境界部で埋没層を容易にパターニングすることのできるマスクＲＯＭ製造方法を提供する。 - 特許庁 - A paper image obtained by reading paper with an image reader is combined with image data of a bitmap method to be printed so as to display the print preview screen, so as to make it possible to anticipate a print result prior to actual printing on colored or patterned paper.
画像読取装置で用紙を読み込んで得られた用紙画像と、印刷するビットマップ形式の画像データを合成して印刷プレビュー画面を表示することで、色や模様の付いた用紙に実際に印刷する前に印刷結果を予想できるようにする。 - 特許庁 - A resin layer to be microlenses is formed on a semiconductor substrate, and after a photoresist layer is formed on the resin layer, the photoresist layer is patterned by photolithography to form a large number of photoresist patterns mutually closely arranged in a matrix shape each rectangular-shaped in plan view.
半導体基板上にマイクロレンズとするための樹脂層を形成し、樹脂層の上にフォトレジスト層を形成した後、同フォトレジスト層をフォトリソグラフィーによってパターンニングして、マトリクス状に相互に近接配置された平面視矩形の多数のフォトレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a conductive base substrate for plating capable of being easily manufactured and a manufacturing method thereof, with and by which a substrate with a conductor pattern patterned so as to have conductivity and light transmitting property can be manufactured at high productivity by using a transfer method.
導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材及びその製造法を提供する。 - 特許庁 - The radiation patterned coating material can have a high contrast with respect to material properties, such that development of a latent image can be successful to form lines with very low line-width roughness and adjacent structures with a very small pitch.
この放射状パターン形成されたコーティング材が材料特性に関して高いコントラストを有し得ることによって、潜像の現像にきわめて低いライン幅粗さを有するラインおよびきわめて小さなピッチを有する隣接構造体をうまく形成し得る。 - 特許庁 - A surface channel layer 5, a gate oxide film 6, a gate electrode 7, etc. are sequentially formed, thereafter they are patterned by dry etching, and contact holes for connecting the n+ type source regions 4 to a source electrode are formed simultaneously with the patterning of the gate electrode 7.
さらに、表面チャネル層５、ゲート酸化膜６、ゲート電極７等を順に形成したのち、これらをドライエッチングによってパターニングし、ゲート電極７のパターニングと同時にｎ+型ソース領域４とソース電極との接続を行うためのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - The patterned perpendicular magnetic recording medium that has spaced-apart pillars 230 with the magnetic material on their ends and the nonmagnetic trenches 232 between the pillars 230 is made with a method that allows use of a pre-etched substrate 212.
磁性材料をそれらの端部２３１上に有する離間した柱２３０を有し、柱２３０の間に非磁性のトレンチ２３２を備えたタイプのパターン化垂直磁気記録媒体が、プリエッチングされた基板２１２の使用を可能にする方法を用いて作成される。 - 特許庁 - A polisilicon film 7 and an insulating film 8 are patterned on a semiconductor substrate 1 including an element isolation region 2, and then lower electrodes 11a and 11b of the polisilicon film 7 and a dummy pattern 12 between the lower electrodes 11a and 11b are formed.
素子分離領域２を含む半導体基板１上に多結晶シリコン膜７と絶縁膜８を形成してパターニングし、多結晶シリコン膜７かならる下部電極１１ａ，１１ｂおよび下部電極１１ａ，１１ｂ間のダミーパターン１２を形成する。 - 特許庁 - After forming an element isolation region 105 that uses a silicon nitride film 102 for forming a field, the silicon nitride film 102 and a semiconductor substrate 100 are patterned to form a gate trench, which reaches the semiconductor substrate 100 in an active region 106.
フィールド形成用のシリコン窒化膜１０２を用いて素子分離領域１０５を形成した後、このシリコン窒化膜１０２及び半導体基板１００をパターニングすることにより、半導体基板１００に達するゲートトレンチを活性領域１０６に形成する。 - 特許庁 - To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern.
一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁 - An n- doped GaN diode is provided on the n+ doped GaN diode patterned in a plurality of slender fingers, a metal layer is provided on the n- doped GaN layer to form Schottky junction between the n- GaN layer and the metal layer.
１μｍを超える厚さを有するｎ−型ドープしたＧａＮダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記ｎ＋型ドープＧａＮダイオード上に配設し、金属層をｎ−型ドープＧａＮ層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁 - With respect to an etching process in which a polycrystalline silicon layer 12 formed on a semiconductor silicon wafer 10 is patterned in accordance with a resist pattern 13, plasma of a mixed gas containing SF_6 for isotropic etching and HBr for anisotropic etching is utilized for an etching gas species.
半導体シリコンウェハ１０上の多結晶シリコン層１２をレジストパターン１３に従ってパターニングするエッチング工程に関し、エッチング用のガス種に、等方性エッチング用としてのＳＦ_6と、異方性エッチング用としてのＨＢｒとを含む混合ガスのプラズマを利用する。 - 特許庁 - A step of extracting transducer position information from bit patterned magnetic media includes a step of providing a magnetic storage medium having at least one data array with multiple discrete and separated recording bits and a step of providing the transducer adjacent to the data array.
ビットパターン化された磁気媒体からトランスデューサ位置情報を抽出するステップは、複数の離散的かつ別個の記録ビットを備えた少なくとも１つのデータアレイを有する磁気記憶媒体を設けるステップと、データアレイに近接してトランスデューサを設けるステップとを含む。 - 特許庁 - The coating composition can provide enhanced resolution of a patterned overcoated photoresist layer and includes the use of a low-activation temperature thermal acid generator, as well as, multiple thermal treatment to process a layer of the underlying coating composition.
本発明の好ましいコーティング組成物および方法は、パターン化されたオーバーコートしたフォトレジスト層の解像度の向上を提供することができ、下地のコーティング組成物の層を処理するため、多重の熱処理と共に低活性化温度熱酸発生剤の使用を含む。 - 特許庁 - Further, by cutting off the resin film only in the specific area necessitating etching after the whole surface of the planar display panel is completely covered with the resin film at first, the area necessitating etching can be easily patterned and its positioning can be easily made.
また、最初に、平面型表示パネルの表面全体を樹脂フィルムで完全に覆った後で、エッチングの必要な特定領域のみ樹脂フィルムを切り取ることにより、容易にエッチング必要箇所のパターニングが可能となり、その位置決めも容易に行える。 - 特許庁 - An electrodeposition resist layer 107 is formed by electro-depositing an electrodeposition resist on the surface of the metallic film 106, the electrodeposition resist layer 107 is patterned by a photolithography, thus an electrodeposition resist pattern 171 is formed in the region facing the metallic pattern 141 of a mirror part 131.
金属膜１０６の表面に電着レジストを電着することで、電着レジスト層１０７を形成し、電着レジスト層１０７をフォトリソグラフィーによりパターニングし、ミラー部１３１の金属パターン１４１と対向する領域に、電着レジストパターン１７１を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a matrix substrate for a liquid crystal with which a liquid repellent layer with a property to repel a conductive material to form a conductive film is patterned without using lifting-off and to provide the matrix substrate for the liquid crystal manufactured with the method.
導電膜を形成する導電材料を弾く性質を有する撥液層を、リフトオフを利用することなくパターニングすることができる液晶用マトリクス基板の製造方法およびそれによって製造される液晶用マトリクス基板を提供する。 - 特許庁 - In a liquid crystal cell, electrodes 3 and 5 are patterned with small scale non-conducting gaps so as to efficiently control the number, size and location of liquid crystal domains, within which the liquid crystal exhibits an azimuthal orientation with predominantly the same sign D and direction in an electric field-impressed condition.
液晶セルにおいて、電極（３，５）は小さな寸法の非導電性ギャップでパターニングされ、液晶ドメインの数、サイズ、位置を効率的に制御し、このドメイン内において、電場印加状態で実質的に同一符号（Ｄ）と方向とを有する配向を示す。 - 特許庁 - In the exposure of subfield rows (electrical stripes) on a reticle 10, a variation in line width due to the effect of a non-patterned charged particle beam dose (fogging) on a wafer 23 is made uniform by varying the shot time through control of a blanking opening 7 while sustaining a constant shot cycle.
レチクル１０のサブフィールド列（エレクトリカルストライプ）の露光において、ショットサイクルは一定に保ったまま、ブランキング開口７をコントロールしてショットタイムを変化させて、ウェハ２３上への非パターン化荷電粒子線ドーズ（かぶり）の影響による線幅変動を均一化する。 - 特許庁
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