「patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 77 78 次へ＞- An n^- type doped GaN diode of >1 μm thickness is arranged on the n^+ type doped GaN diode, patterned into a plurality of thin and long fingers, a metal layer is arranged on n^- type doped GaN layer, and a Schottky junction is formed in between them.
１μｍを超える厚さを有するｎ−型ドープしたＧａＮダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記ｎ＋型ドープＧａＮダイオード上に配設し、金属層をｎ−型ドープＧａＮ層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a patterned medium which can efficiently fill magnetic substance deep into fine pores, even if a sputtering method is employed for filling the magnetic substance into the fine pores of a porous layer, has very few impurities and has a magnetic substance layer of a high coercive force.
多孔質層の細孔への磁性体の充填にスパッタ法を用いても細孔の奥まで効率よく磁性体を充填することができ、不純物が極めて少なく、保磁力の高い磁性体層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A correctable detailed usage statement for each service is patterned and displayed in a screen display method independent of the detailed usage statement, and thereby correction for billing fees of a plurality of contracts to be paid by a user is allowed to be registered through a one-time online operation.
サービス毎の修正可能な利用明細をパターン化し、その利用明細に依存しない画面表示方式とすることで、請求者が支払う複数契約の請求料金に対する修正を、１回のオンライン操作で登録することを可能とした。 - 特許庁 - To provide an inkjet recording head which can perform image recording of a high quality for a long period of time and is high in reliability, by using a material which has a small coefficient of linear expansion and can be highly precisely patterned as a channel forming member in the liquid ejecting head.
液体吐出ヘッドにおいて、流路形成部材として、線膨張係数が小さく、高精度のパターニングが可能な材料を用いることによって、長期にわたって高品位の画像記録が可能な信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供する。 - 特許庁 - The second AlAs layer 60 and first GaN layer 53 are patterned, a recess 53a and a projection 53b are formed, the surfaces of the first and second AlAs layers 59 and 60 are oxidized, and bottomand top-surface epitaxial masks 61 and 56 that are made of an oxide film are formed.
第２のＡｌＡｓ層６０及び第１のＧａＮ層５３をパターニングして、凹部５３ａと凸部５３ｂとを形成した後、第１，第２のＡｌＡｓ層５９，６０の表面部を酸化させて、酸化膜からなる底面，頂面エピタキシャルマスク６１，５６を形成する。 - 特許庁 - The surfaces of a bottom force 2 with a wavy-patterned uneven part formed on the surface of a mold and a roll mold 1 having an uneven part to be engaged with the former uneven part on the surface, are coated with an elastic layer 4 as a porous body.
(1) 無機繊維織布または網状体に触媒成分が塗布された触媒塗布体を加熱成形する金型を備えた板状触媒の成形装置において、前記金型の表面に可撓性の多孔体層を設けた耐摩耗性板状触媒の成形装置。 - 特許庁 - To provide a packaging material that has excellent cushioning properties and cushioning functions for preventing patterning or scratching of an object to be packaged, even without using a protective material or a cushioning material for preventing the object to be packaged, such as nonwoven fabric or a foamed cushioning material, from being patterned or scratched.
不織布や気泡クッション材のような被包装物の型入り・傷入りを防止するための保護材料やクッション材料を使用せずとも、クッション性に優れ、被包装物の型入り・傷入りを防止できるクッション機能を備えた包装材料を提供する。 - 特許庁 - An article is used which is formed in a prescribed shape of partitions by applying a material for the partitions on the full surface of the substrate, subsequently leaving only patterned parts to be the partitions thereon by using a photoresist film and further sandblasting the resulting matter as the partitions located between the substrates placed opposite to each other.
対向する基板間に位置する隔壁に、基板上に隔壁材料を全面塗布した後、その上にフォトレジストフィルムを用いて隔壁となるパターン部分のみを残し、更にサンドブラストにより所定の隔壁形状に形成されたものを用いる。 - 特許庁 - The substrate 1 is patterned by laser beam machining and then rubbed and cleaned by rotating two polyurethane-made cleaning rolls 12 so that one roll is rotated normally and the other roll is rotated inversely in the substrate conveying direction and vibrating the rolls 12 in the direction perpendicular to the substrate conveying direction to remove the residues after laser beam machining.
レーザ加工により基板１をパターニングした後、ウレタン製の２個の洗浄用ロール１２を基板搬送方向に正逆回転させ、かつ基板搬送方向と直角方向に振動させて基板を擦り洗浄し、レーザ加工残渣を除去する。 - 特許庁 - For the tapered magnetic poles with a tapered leading edge, a magnetic material is deposited on a planarized surface, a patterned resist material is formed, and the exposed magnetic material is etched to form at least one tapered surface of the magnetic material.
テーパ付き前縁部を有するテーパ付き磁極のために、磁性材料が平坦化された表面上に堆積し、パターニングされたレジスト材料が形成され、露出した磁性材料がエッチングされて、少なくとも１つの磁性材料のテーパ面が形成される。 - 特許庁 - In addition, in a method of manufacturing a light-emitting device, the first substrate provided with the material layer which is patterned by the above method is irradiated with second light, whereby the material layer can be evaporated onto a third substrate which is a deposition target substrate.
また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 - 特許庁 - The method for forming regularly-disposed nanodots includes: a step (step S1) of supplying a substrate, a step (step S2a) of forming a thin metal film on the substrate, a step (step S3a) of forming a fine patterned grooves, and a step (step S4) of performing annealing.
規則的に配置されるナノドットを形成するナノドット形成方法は、基板を提供する過程（ステップＳ１）と、基板上に金属薄膜を形成する過程（ステップＳ２ａ）と、微細パターンの溝を形成する過程（ステップＳ３ａ）と、焼鈍する過程（ステップＳ４）とからなる。 - 特許庁 - Then, lamination films (33D, 34B and 35B) are patterned, and these are used as a mask to etch the upper conductor film 35A, the ferroelectric film 34A, and the lower conductor films (33A, 33B and 33C), thereby forming the ferroelectric capacitor 30.
次に、積層構造膜（３３Ｄ、３４Ｂ及び３５Ｂ）をパターニングし、これをマスクとして用いつつ、上部導電体膜３５Ａと強誘電体膜３４Ａと下部導電体膜（３３Ａ、３３Ｂ及び３３Ｃ）とをエッチングすることで強誘電体キャパシタ３０を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a columnar metal body and a conductive structure formed by the columnar metal body excellent in contact of metal layers, easy separation of protective metal layers, secured insulation of non- patterned section, conductivity between layers, and manufacturing cost.
金属層間の密着性、保護金属層の剥離容易性、非パターン部の絶縁性の確保、層間の導電性、製造コストなどが特に良好な柱状金属体の形成方法、及び柱状金属体を形成してなる導電構造体を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition capable of forming a pattern of ≤0.8 μm width with good perpendicularity and having no dependence on baking when a resist film of ≥3.0 μm is patterned on a stepped board and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.
３．０μｍ以上のレジスト被膜を段差基板上に、幅０．８μｍ以下のパターンを形成する際、垂直性のよく形成でき、ベーク処理に依存性がないポジ型ホトレジスト組成物と感光性膜付基板とレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁 - Through exposure/development processes, only the patterned phosphor layer material 4B and the pigment layer material 3B located directly under the same 4B are made to remain to form a laminated pattern of a pigment layer 3B' and a phosphor layer 4B'.
露光・現像工程を行うことにより、パターン形成された蛍光体層材料４Ｂと当該蛍光体層材料４Ｂの真下に位置する顔料層材料３Ｂのみを残留させて、顔料層３Ｂ’と蛍光体層４Ｂ’の積層パターンを形成する。 - 特許庁 - The lithography equipment of this invention comprises a substrate table that holds a substrate, radiation system that forms radiation projection means, pattern providing means for patternization of projection beams according to a desired pattern, and projection system that projects patterned beams to the target part of the substrate.
本発明リトグラフ装置は、基板を保持する基板テーブルと、放射投影ビームを形成する放射系と、所望のパターンに応じて投影ビームをパターン化するように働くパターン付与手段と、基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影系とを含む。 - 特許庁 - To eliminate a complication of preparing a patterning substrate when conventionally different species of cells coexisting in vivo tissue are cocultured, a culture in which cells are in a patterned state is examined so as to develop a cell function closer to that of organism.
従来、生体組織において共存する異種の細胞を共培養する場合、より生体に近い細胞の機能を発現させるために細胞をパターニングした状態での培養が検討されているが、そのパターニング基材の作製の煩雑さを解消することにある。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition, a film of which after curing ensures physical properties comparable to those of a film cured at a high temperature and which inhibits corrosion of copper and copper alloy of metal wiring, a metal layer, etc., a method for producing a patterned curing film, and to provide electronic components.
硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られ、かつ金属配線や金属層などの銅及び銅合金の腐食を抑制する感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁 - Before forming a delivery chamber 14, the vibration plate laminated film in the part working as the individual ink supply hole 24 is patterned, and is protected by the silicon oxide films 5 and 7 with high ink-resistance, and thus, the vibration plate material with low ink-resistance can be protected from ink.
吐出室１４の形成前に個別インク供給孔２４となる部分の振動板積層膜をパターニングし、インク耐性の高いシリコン酸化膜５及び７で保護しておくことで、インク耐性の低い振動板材料をインクから保護することができる。 - 特許庁 - To provide a photo-curable resin composition which is excellent in transparency, chemical resistance, alkali resistance, heat resistance and water resistance, and also has a high compressive strength, thus gives a patterned transparent film and is excellent in process margin, photographic sensitivity and developability.
透明性、耐薬品性、耐アルカリ性、耐熱性、耐水性に優れ、かつ高い圧縮強度を併せ持ち、表示素子に用いられるパターン化された透明膜を与える、プロセスマージン、感度、現像性に優れた光硬化性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁 - To form a solder resist film using a thermosetting powder coating in a method for forming the solder resist film in a region other than a land 3 of a circuit conductor 2 of a circuit board 1 where the patterned circuit conductor 2 is provided at least on one surface.
パターニングされた回路導体部２が少なくとも一方面上に設けられた回路基板１の回路導体部２のランド部３以外の領域にソルダーレジスト膜を形成する方法において、熱硬化型粉体塗料を用いてソルダーレジスト膜を形成する。 - 特許庁 - To prevent a cross sectional shape of an upper patterned layer film from being tapered, even when the number of processings is increased, in the case that a laminated film having a lower layer film mainly comprising silicon and an upper layer film mainly comprising tungsten or tungsten compound is etched.
シリコンを主成分とする下層膜と、タングステン又はタングステン化合物を主成分とする上層膜とを有する積層膜に対してエッチングする場合に、処理数が増加しても、パターン化された上層膜の断面形状がテーパ状にならないようにする。 - 特許庁 - An organic compound containing insulating layer 12 is covered with a double layer which is composed of a resist hard mask layer 13 formed on the organic compound containing insulating layer 12 and a resist layer 14 formed on the resist hard mask layer 13, and the double layer is patterned.
有機化合物含有絶縁層１２を、この有機化合物含有絶縁層１２上に形成されたレジストハードマスク層１３とこのレジストハードマスク層１３上に形成されたレジスト層１４からなる２重層で覆い、次に、この２重層をパターニングする。 - 特許庁 - Black matrix (BM) material is deposited on a glass substrate 111 and patterned to form a plurality of wells 130, and hydrophobic layers 140 is formed on the top surfaces 125 of walls 120 that define an array of the wells 130 to form a BM glass 110.
ガラス基板１１１上にＢＭ（ブラックマトリクス）層を形成し、更に複数個のウェル１３０が形成されるようその層をパターニングし、ウェル１３０間を仕切る壁１２０の頂面１２５上に疎水層１４０を形成することにより、ＢＭガラス１１０を形成する。 - 特許庁 - External environment is patterned on the basis of a different in air temperature between spring or summer and winter or a difference in solar radiation quantity between rainy weather and fine weather and a relationship between a target blow temperature and a damper position in an air blow port is stored to be one-to-one.
春夏や冬といった気温の差または雨や快晴等といった日射量の差を条件として外部環境をパターン分けし、各パターン毎に目標吹出し温度と空気吹出口のダンパ位置との関係を一対一に対応させて記憶させておく。 - 特許庁 - To provide a graphene structure in which graphene is patterned with high precision so that an electronic device element and an electronic device can be fabricated precisely by using the graphene and the production costs of the electronic device element and the electronic device can be reduced remarkably and to provide a method for producing the graphene structure.
グラフェンを高精度でパターニングすることができ、これにより、グラフェンを用いた電子デバイス要素及び電子デバイスの精細加工が可能であり、製造コストを格段に低減することが可能なグラフェン構造体及びその製造方法等を提供する。 - 特許庁 - The patterned paper is produced by mixing an aqueous solution and/or a dispersion of a fluorescent agent with a mucilaginous agent to thicken the liquid, adding the resultant liquid onto a wet paper on wires of a paper machine by any one method selected from dropping, transportation and spraying, and diffusing the added liquid by regulating the shaking action of the paper machine.
蛍光剤の水溶液および／または分散液と粘剤を混合して増粘させ、これを抄紙機のワイヤー上の湿紙に滴下、流送、スプレーの内の一つ以上の方法で添加し、抄紙機のシェーキング作用を調整することにより拡散させる。 - 特許庁 - Next, the silicon substrate 3 is coated with a photoresist and an aligner is used to perform the patterning of the coated silicon substrate 3 through a photomask and the patterned silicon substrate is exposed and developed to be subjected to dry etching to form a minute flow channel groove 8 high in accuracy and having a cross section high in aspect ratio.
次に、シリコン基板３にフォトレジストをコーティングし、アライナーを使用してフォトマスクでパターンニングをし、露光・現像して、その後、シリコン基板３をドライエッチングすることにより、微小で精度の高い、高アスペクト比の断面を有する流路溝８を作製する。 - 特許庁 - A metal catalyst is provided on a substrate by patterning, using a carbon compound as a carbon source in a reaction atmosphere, from the metal catalyst, a plurality of single-walled carbon nanotubes are formed, so as to produce a single-walled carbon nanotube bulk structure which has been patterned.
金属触媒を基板上にパターニングして設け、前記金属触媒から反応雰囲気ガス中で炭素源として炭素化合物を用いて、複数本の単層カーボンナノチューブを生成することにより、パターニングされた単層カーボンナノチューブ・バルク構造体を製造する。 - 特許庁 - Subsequently the cholesteric film 13 is patterned by irradiating the cholesteric film 13 with a laser beam 20 with a wavelength outside the selective reflection wavelength band of the cholesteric film 13 and removing a part of the cholesteric film 13 by partial evaporation.
次に、コレステリック膜１３に対して当該コレステリック膜１３の選択反射波長帯域外の波長を有するレーザ光２０を照射し、当該コレステリック膜１３の一部を部分的に蒸散させて取り除くことにより、コレステリック膜１３のパターニングを行う。 - 特許庁 - Since the catalyst layer absorbs the light ray of specific wavelength which cures the plating resist, the light ray hitting the plating resist does not cause halation at the interface with the catalyst layer and the plating resist is patterned into an accurate shape capable of forming a metal pattern into an accurate shape.
メッキレジストを硬化させる特定波長の光線を触媒層が吸収するので、メッキレジストを露光する光線が触媒層との界面でハレーションを発生せず、メッキレジストを正確な形状にパターニングできるので金属パターンも正確な形状に形成できる。 - 特許庁 - A method includes a step of laminating a thin layer which includes silicon and carbon and may include oxygen and/or nitrogen by request on a film to process a patterned low dielectric constant film obtained after removing a photoresist from the film.
一態様において、方法は、シリコンと、炭素とを含み、所望により酸素及び/又は窒素を含んでもよい薄層を膜上に堆積させることによりフォトレジストが膜から除去された後のパターン形成された低誘電率膜を処理するステップを含む。 - 特許庁 - A nickel plating 3 is applied entirely to one side of a copper foil 1 (main conductor layer), and a patterned nickel thicker plating 2 is applied to the opposite side.
銅箔１（主導体層）の片面全面にニッケルめっき３を施すとともにその反対面にパターン付きのニッケルめっき２をより厚く施し、ニッケルめっき２の表面上に金めっき４を施し、ニッケルめっき３の表面に銅めっき５（基層導体層）を形成する。 - 特許庁 - A thermally crosslinked positive photosensitive material layer (first positive photosensitive material layer) and a second positive photosensitive material layer are formed on a substrate and then the second positive photosensitive material layer is patterned followed by patterning of the first positive photosensitive material layer.
基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層（第１のポジ型感光材料層）と第２のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第２のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第１のポジ型感光性材料層にパターンを形成する。 - 特許庁 - A multilayer reflective film 2 and an absorber film 4 are formed on the mask blanking substrate 1 to make the reflective mask blank 10, and the absorber film 4 in the reflective mask blank 10 is patterned to form an absorber pattern to make the reflective mask 20.
このマスクブランク用基板１上に多層反射膜２及び吸収体膜４を形成して反射型マスクブランク１０とし、この反射型マスクブランク１０における吸収体膜４をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク２０とする。 - 特許庁 - A polysilicon film is deposited on a dielectric film 57 with a CVD technique, and is patterned to form polysilicon counter electrodes 58A and 58B that face openings 55D and 55E, respectively.
基板上に、自己整合マスクとして作用する側壁絶縁膜を担持した複数のゲート電極を埋めるように層間絶縁膜を堆積し、前記側壁絶縁膜を自己整合マスクとして複数の自己整合コンタクトホールを実質的に同一のアスペクト比で形成する。 - 特許庁 - Furthermore, the lithographic apparatus has: a substrate support for supporting a substrate; a machine frame for supporting the substrate support; a projection system for projecting a patterned beam onto a target part of the substrate; and a substrate support drive for moving the substrate support at least in one direction.
リソグラフィ装置は、さらに、基板を支持する基板サポートと、基板サポートを支持するマシン・フレームと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、基板サポートを少なくとも１つの方向に移動させる基板サポート・ドライブとを有している。 - 特許庁 - To provide an ink set for inkjet printing and an inkjet printing method, capable of obtaining discharge print-toned printed matters superior in all of clearness, color thickness, and discharging properties in a patterned part, at the time of applying an inkjet printing to a ground-dyed cellulosic fiber cloth.
地染めされたセルロース系繊維布帛にインクジェット捺染を適用するに際し、柄部における鮮明性、濃色性、抜色性の全てに優れた抜染調捺染物を得ることが可能なインクジェット捺染用インクセットおよびインクジェット捺染方法を提供する。 - 特許庁 - A photoresist film 80 is formed on semiconductor substrates 10, 20 and patterned, in order to expose a source line region 85 in a flash memory array region 90 and a polysilicon film region 40 in CMOS circuit regions 100, 110.
半導体基板１０、２０上にホトレジスト膜８０を形成し、フラッシュ・メモリ・アレイ領域９０内のソース線領域８５及びＣＭＯＳ回路領域１００、１１０内の多結晶シリコン膜領域４０を露出するためにホトレジスト層８０にパターニングを施す。 - 特許庁 - The conductor layer 51 is patterned to form mounting pads 51a on the solder bumps 31a, the Si wafer 11 is subjected to dicing process, mounting solder bumps 61 are further formed on the mounting pads 51a of a wafer level CSP100 to form a wafer level CSP100a.
導体層５１をパターニング処理し、はんだバンプ３１ａ上に実装パッド５１ａを形成し、Ｓｉウエハー１１をダイシング加工し、ウエハーレベルＣＳＰ１００を、さらに、実装パッド５１ａ上に実装はんだバンプ６１を形成してウエハーレベルＣＳＰ１００ａを形成する。 - 特許庁 - At least an electrode, a dielectric body and a rib forming material patterned to a predetermined shape are provided on a glass substrate, and an exhaust hole is formed after baking the rib forming material in a manufacturing method, and the exhaust hole is formed by a method using a drill, or a method using laser.
本発明は、ガラス基板上に少なくとも電極、誘電体および所定形状にパタ−ン化したリブ形成材料を設け、リブ形成材料の焼成後に、排気孔を開ける製造方法で、ドリルによる方法とレ−ザによる方法が用いられる。 - 特許庁 - The conductive film 71' has a light shielding property like a metal film such as Al and becomes a lower electrode 71 in an image display region and a light shielding film 71a in a peripheral region by being patterned into a predetermined shape in subsequent steps.
導電膜７１´は、Ａｌ等の金属膜のように遮光性を有する導電膜であり、後の工程で所定の形状にパターニングされることによって、画像表示領域では下部電極７１となり、周辺領域では遮光膜７１ａになる。 - 特許庁 - A mask 11 having an aperture part patterned equally to a pattern of a hole transport layer is arranged on a substrate 1 upper face, and from the upper face of the mask 11, a solution or a dispersion liquid of a material constituting the hole transport layer is sprayed and dried up for forming the hole transport layer.
正孔輸送層のパターンと同一パターンの開口部を有するマスク１１を基板１上面に配置し、マスク１１上面より正孔輸送層を構成する材料の溶液または分散液を噴霧し、乾燥して前記正孔輸送層を形成する。 - 特許庁 - Furthermore, after a surface channel layer 5, a gate oxide film 6, a gate electrode 7, etc., are formed in order, these are patterned by dry etching a contact hole for connecting the region 4 and a source electrode is formed simultaneously with patterning of the electrode 7.
さらに、表面チャネル層５、ゲート酸化膜６、ゲート電極７等を順に形成したのち、これらをドライエッチングによってパターニングし、ゲート電極７のパターニングと同時にｎ^+型ソース領域４とソース電極との接続を行うためのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - On an insulative flexible substrate, the wiring part body 42a electrically connected to an inspection circuit for inspecting a circuit to be inspected and a plurality of wiring parts 42 containing an area enlarging part 42b formed in a patterned indented shape on one part of the surface of the wiring part body 42a are disposed with a distance.
絶縁性を有するフレキシブル基板上に、被検査回路を検査する検査回路と電気的に接続する配線部本体42a、および、配線部本体42aの表面の一部に凹凸状に形成した面積拡大部42bを備えた複数の配線部42を、互いに離間して配設する。 - 特許庁 - To provide an embroidery frame so designed that an applique is provided with any embroidery pattern using one frame, and a specified position of a cloth 5 is superposed with the applique thus patterned using the above frame and another frame to sew the applique on the cloth so as to ensure the backside threads of the embroidery pattern not to come out on the reverse face of the cloth.
一つの張枠でアップリケ６に任意の刺繍模様７を施し、その張枠と他の張枠とで生地５の所定場所に、刺繍模様７が施されているアップリケ６を重合して、刺繍模様７の裏糸が生地裏にでないように縫付けできるようにする。 - 特許庁 - To synchronize a recording/reproducing frequency accurately to a medium even when a recording head and a reproducing head are positioned at different zones in the vicinity of a zone partitioning position in a magnetic recording/reproducing apparatus mounting a patterned medium on which a recording bit pattern is formed and having a zone format.
記録ビットパターンが形成されたパターンド媒体を搭載し、ゾーンフォーマットを有する磁気記録再生装置において、ゾーン分割位置付近で記録ヘッドと再生ヘッドが異なるゾーンに位置する場合でも記録再生周波数を高精度に媒体に同期させることを目的とする。 - 特許庁 - With the anode base material 10 made by forming a metal film 13 on a support body 11 equipped with a patterned organic film 12 formed by a light imprinting method, the battery having high output voltage and high energy density, and excellent charge and discharge cycle characteristics can be provided.
光インプリント法により成形されたパターン化有機膜１２を備えた支持体１１に金属膜１３を形成してなることを特徴とする負極基材１０によれば、高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池を提供できる。 - 特許庁 - To provide a method for simultaneously realizing a patterning technique capable of forming a large area pattern at a low cost and a fine patterning technique capable of forming a small feature pattern as a method for forming a patterned thin film layer for IC that can be utilized in manufacture of a large area electronic device.
大面積の電子装置の製造に利用できるパターニングされたIC用薄膜層の形成方法として、安価に大面積のパターンを形成できるパターニング技術と、小さな特徴パターンを形成できる微細パターニング技術と、を同時に実現する方法を提供する。 - 特許庁
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