「patterning process」を含む例文一覧(515)
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パターン形成方法 - 特許庁 - DOUBLE PATTERNING PROCESS
ダブルパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST PATTERNING PROCESS
レジストパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION
パターン形成方法及びレジスト材料 - 特許庁 - RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERNING PROCESS
半導体装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM TO BE USED FOR PATTERNING PROCESS
パターン形成方法及びこれに用いるケイ素含有膜形成用組成物 - 特許庁 - ENHANCED LITHOGRAPHY PATTERNING PROCESS AND SYSTEM
強化リソグラフィパターニング方法およびシステム - 特許庁 - The multiple patterning lithographic process includes a first patterning step and at least a second patterning step.
多重パターニングリソグラフプロセスは、第１パターニングステップと、少なくとも第２パターニングステップとを含む。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - The manufacturing process of the glass substrate comprises a patterning process on the substrate and a heat treatment process.
ガラス基板上にパターニングを行う工程と熱処理工程とがある。 - 特許庁 - RESIST UNDERCOAT-FORMING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST PROTECTIVE COATING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - This system and process is a double patterning system and process using a carbon-based hard mask.
炭素系ハードマスクを用いた二重パターニングシステムおよびプロセス。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - INTEGRAL PATTERNING OF LARGE FEATURE PORTION AND ARRAY USING SPACER MASK PATTERNING PROCESS FLOW
スペーサマスクパターニングプロセスフローを用いた大きい特徴部と配列との一体パターニング - 特許庁 - RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, SUBSTRATE AND PATTERNING PROCESS
反射防止膜材料、基板、及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST PATTERNING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK
レジストパターン形成方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST UNDERCOAT-FORMING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
フォトレジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING SAME
レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - INTEGRATION OF LITHOGRAPHY APPARATUS AND MASK OPTIMIZATION PROCESS INCLUDING MULTIPLE PATTERNING PROCESS
リソグラフィ装置と多重パターニングプロセスを含むマスク最適化プロセスとの統合 - 特許庁 - LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND PATTERNING DEVICE FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROCESS
リソグラフィ装置、及びリソグラフィ工程で使用するパターニングデバイス - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING SAME
ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND PROCESS FOR MANUFACTURING INK JET RECORDING HEAD
パターン形成方法及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND LITHOGRAPHIC METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFERS AND SEMICONDUCTOR WAFER PATTERNING APPARATUS
半導体ウェハのパターニングプロセス、半導体ウェハのリソグラフィ方法、および半導体ウェハのパターニング装置 - 特許庁 - The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.
前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁 - CHEMICALLY-AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS THEREOF
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND PATTERN SURFACE COATING MATERIAL FOR USE IN SAME
パターン形成方法及びこれに用いるパターン表面コート材 - 特許庁 - POLYMER, RESIST PROTECTIVE COATING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
高分子化合物、レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERNING PROCESS
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - FINE PATTERNING METHOD AND FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE
微細パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A semiconductor wafer is positioned using a double patterning process.
ダブルパターニングプロセスを使用して半導体ウェーハが位置合わせされる。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING ROLL-FILM BODY IN AUTOMATED PRODUCTION PROCESS
自動化製造過程におけるロール状フィルム体のパターン化方法 - 特許庁 - PROCESS FOR MANUFACTURING LIQUID DROP EJECTION HEAD AND PATTERNING METHOD
液滴吐出ヘッドの製造方法およびパターン形成方法 - 特許庁 - MULTILAYER STRUCTURE OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND FINE PATTERNING PROCESS
感光性材料の積層構造および微細パターン形成方法 - 特許庁 - A process for joining the patterning device and the support and a process for applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device are included.
パターニングデバイスと支持体を接合する工程と、パターニングデバイスと支持体との間に実質上静的力を加えてパターニングデバイスを保持する工程とを含む。 - 特許庁 - To provide a process capable of further simplifying a dual-damascene patterning process.
デュアルダマシンパターンを形成する過程をより単純化することができる方法を提供する。 - 特許庁 - COMPOSITION AND METHOD FOR REMOVING RESIDUE AND PATTERNING PROCESS
残留物除去のための組成物と方法及びパターン画定方法 - 特許庁 - To execute patterning of high precision with less process steps.
少ない工程数で高精度なパターンニングを行うようにすること。 - 特許庁
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