「plane pattern」を含む例文一覧(760)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16- The invention relates to a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, wherein the image map comprises values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern.
投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁 - In the multiprojection display 100 for displaying a large screen image on a translucent screen SCR_1 using projection images from a plurality of projector units PJ_A, PJ_B, PJ_C, PJ_D, the multiprojection display is characterized by providing an auxiliary illuminator L for irradiating a projection plane with illuminating light that becomes a pattern approximately opposite to "black floating patterns" in such a multiprojection display.
複数のプロジェクタユニットＰＪ_Ａ，ＰＪ_Ｂ，ＰＪ_Ｃ，ＰＪ_Ｄからの投写画像により透過型スクリーンＳＣＲ_１上に大画面画像を表示するマルチプロジェクションディスプレイ１００であって、 このマルチプロジェクションディスプレイにおける「黒浮き模様」と略反対のパターンになるような照明光を投写面に照射するための補助照明装置Ｌを備えたことを特徴とするマルチプロジェクションディスプレイ。 - 特許庁 - After an n-type AlInP clad layer 11, an active layer 12 having a multiple quantum well structure, a p-type AlInP clad layer 13, and a p-type GaAs layer 14 are grown in sequence on an n-type GaAs substrate via an n-type GaAs etching stop layer, those layers are patterned through dry etching using a resist pattern 19 having a rectangular plane shape as a mask.
ｎ型ＧａＡｓ基板上にｎ型ＧａＡｓエッチングストップ層を介してｎ型ＡｌＩｎＰクラッド層１１、多重量子井戸構造を有する活性層１２、ｐ型ＡｌＩｎＰクラッド層１３およびｐ型ＧａＡｓ層１４を順次成長させた後、長方形の平面形状を有するレジストパターン１９をマスクとしてこれらの層をドライエッチングによりパターニングする。 - 特許庁 - The method of manufacturing image sensor includes a step of forming a photo sensitive film for forming a microlens on a color filter, a step of forming a pattern having a predetermined depth from upper plane by exposing the photosensitive film, a step of forming a backup microlens by heat treating the photosensitive film, and a step of forming a microlens by etching the backup microlens.
実施例に係るイメージセンサの製造方法は、カラーフィルタ層の上にマイクロレンズ形成のための感光膜を形成するステップと、前記感光膜に露光を行って、上部面から所定深さを有するパターンを形成するステップと、前記感光膜に熱処理を行って、予備マイクロレンズを形成するステップと、前記予備マイクロレンズにエッチングを行って、マイクロレンズを形成するステップとを備える。 - 特許庁 - In an IC mount region 60 of an element substrate 10, wide light shield patterns 63 which form parallel stripes and an insulating layer 64 for short-circuit prevention which covers the surface sides of those light shield patterns 63 are formed in an area overlapping with an IC 4 in a plane, and a narrow inspection pattern 69 is formed on the surface of the insulating layer 64 for short-circuit prevention.
素子基板１０のＩＣ実装領域６０において、ＩＣ４と平面的に重なる領域には、ストライプ状に並列する幅広の遮光パターン６３と、これらの遮光パターン６３の表面側を覆う短絡防止用絶縁層６４とが形成され、短絡防止用絶縁層６４の表面には、幅の狭い検査パターン６９が形成されている。 - 特許庁 - This combination card comprises an IC chip 1 having a contact type interface and a non-contact type interface; a wiring board 2 having the IC chip 1 mounted thereon, a winding coil 4 connected to the input and output terminal of the IC chip 1 through the wiring pattern formed on the wiring board 2, and a card base 6 having a rectangular plane form for supporting each loading part.
接触式のインタフェース及び非接触式のインタフェースを有するＩＣチップ１と、当該ＩＣチップ１が実装された配線基板２と、当該配線基板２に形成された配線パターンを介してＩＣチップ１の入出力端子に接続された巻線コイル４と、これらの各搭載部品を担持する平面形状が長方形のカード基体５とをもってコンビカードを構成する。 - 特許庁 - The reflection type projection optical system which projects a pattern arranged on an object surface to an image surface through a reflection mirror is telecentric on both of the object surface side and the image surface side, and the object surface and the image surface are arranged to be inclined to a plane perpendicular to an optical axis of the reflection type projection optical system so as to satisfy the Scheimpflug condition.
本発明は、物体面に配置されたパターンを反射鏡を介して像面に投影する反射型投影光学系であって、前記物体面側と前記像面側との両方でテレセントリックであり、かつ、前記物体面と前記像面とを、シャインプルーフの条件を満たすように、前記反射型投影光学系の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾けて配置した。 - 特許庁 - The HLAC feature quantity extracting method includes: a step of mapping one dimensional signal in a time-frequency plane; a step of accumulating the HLAC by moving a two dimensional local mask pattern in a block region for each segmented block by dividing its time axis and frequency axis; and a step of extracting and combining each term from the HLAC feature quantity calculated from blocks which are lined up along the frequency axis.
１次元信号を時間−周波数平面に写像するステップ、その時間軸及び周波数軸を分割して区分けされたブロック毎に、その領域内で２次元局所マスクパターンを移動させてＨＬＡＣを累積するステップ及び周波数軸に沿って並ぶブロックから求めたＨＬＡＣ特徴量から各次数項を抜き出して結合するステップを含むＨＬＡＣ特徴量の抽出方法 - 特許庁 - The resistance layer laminated member 22 is manufactured, in which the resistor having the prescribed resistance is formed in the wiring pattern by laminating three or more layers of conductive layers 24 having an excellent conductivity and resistor layers 28 having a prescribed specific resistance, activating the respective joined faces at at least a joined plane and laminating and joining the layers in such a manner that the activated faces are butted opposing to each other.
導電性に優れた導電層２４と所定の比抵抗を有する抵抗層２８を３層以上積層し、少なくとも１つの接合面において、接合されるそれぞれの面に活性化処理を施した後、活性化処理面同士が対向するように当接して重ね合わせ積層接合を施すことによって、所要の抵抗値を有する抵抗器を配線パターン内部に形成可能とする抵抗層積層材２２を製造する。 - 特許庁 - To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.
本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁
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