「plasma- processing」を含む例文一覧(3220)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 64 65 次へ＞- METHOD FOR PLASMA MONITORING AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマモニタリング方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA GENERATION ANTENNA
プラズマ処理装置及びプラズマ発生用アンテナ - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD FOR ATMOSPHERIC PRESSURE PULSE
常圧パルスプラズマ処理方法 - 特許庁 - GLOW DISCHARGE PLASMA PROCESSING DEVICE
グロー放電プラズマ処理装置 - 特許庁 - SUSCEPTOR FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER
プラズマ処理チャンバ用のサセプタ - 特許庁 - SUSCEPTOR AND PLASMA PROCESSING DEVICE
サセプタ及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - ELECTRODE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマ処理装置用電極 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND POWER FEEDING METHOD FOR THE PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の給電方法 - 特許庁 - SUBSTRATE-MOUNTING STAND FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマ処理装置用基板載置台及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING METHOD OF SUBJECT TO BE PROCESSED
プラズマ処理装置及び被処理体のプラズマ処理方法 - 特許庁 - METHOD FOR CLEANING PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
プラズマ処理装置のクリーニング方法及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び有機電子デバイス - 特許庁 - POWER SUPPLY CONTROLLER, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING METHOD
電源制御装置、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF PLASMA PROCESSING USING IT
プラズマ処理装置およびそれを用いたプラズマ処理方法 - 特許庁 - GAS DIFFUSION BOARD FOR PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ処理装置用ガス拡散板及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - ELECTRODE FOR PLASMA PROCESSING AND PLASMA ARC CUTTING MACHINE
プラズマ加工用の電極及びプラズマ加工機 - 特許庁 - ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD
常圧プラズマ処理装置及び処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSOR, PLASMA OXIDATION PROCESSOR AND PLASMA PROCESSING METHOD
プラズマ処理装置、プラズマ酸化処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
プラズマ処理装置及び方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS
プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - PLASMA DISPLAY PANEL PROCESSING FACILITY
プラズマディスプレイパネルの処理設備 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD
プラズマ処理装置及び方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND EQUIPMENT
プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - PROCESSING DEVICE AND PLASMA DEVICE
処理装置およびプラズマ装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE
プラズマ加工方法及び装置 - 特許庁 - APPARATUS TO MONITOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理を監視する装置 - 特許庁 - INDUCTIVE COUPLING PLASMA PROCESSING DEVICE
誘導結合プラズマ処理装置 - 特許庁 - FREQUENCY-MEASURING DEVICE, PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
周波数測定装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理装置及び方法 - 特許庁 - INDUCTION COUPLING PLASMA PROCESSING APPARATUS
誘導結合プラズマ処理装置 - 特許庁 - SUBSTRATE PEDESTAL AND PLASMA PROCESSING APPRATUS
載置台及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
プラズマ処理装置および方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS
プラズマ処理方法および装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING PLASMA
プラズマ処理装置及び方法 - 特許庁 - METHOD OF HIGH-FREQUENCY PLASMA PROCESSING AND APPARATUS OF HIGH-FREQUENCY PLASMA PROCESSING
高周波プラズマ処理方法及び高周波プラズマ処理装置 - 特許庁 - STAND AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
載置台およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - BATCH-TYPE REMOTE PLASMA PROCESSING APPARATUS
バッチ式リモートプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF PRODUCT
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び製品の製造方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF FORMING STAGE OF PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置のステージ製造方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE
プラズマ処理方法および装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR FEEDING POWER TO THE PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置への給電方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - To provide a plasma processing method which has a high plasma processing capability.
プラズマ処理能力が高いプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MAGNETIC FIELD PRODUCING DEVICE
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置及び磁場発生装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND SYSTEM
プラズマ処理方法および装置 - 特許庁 - MAGNETRON ELECTRODE FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理用マグネトロン電極 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE, ANTENNA, AND USAGE METHOD FOR PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ処理装置、アンテナおよびプラズマ処理装置の使用方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING SYSTEM AND ELECTRODE
プラズマ処理装置及び電極 - 特許庁 - HIGH FREQUENCY POWER SUPPLY, PLASMA PROCESSING APPARATUS, INSPECTION METHOD OF PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
高周波電源、プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の検査方法及びプラズマ処理方法 - 特許庁
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