「plasma- processing」を含む例文一覧(3220)

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  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
    プラズマ処理装置および処理方法 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING PLASMA
    プラズマ処理装置及び処理方法 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC CHUCK AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    静電チャック及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • QUARTZ JIG AND PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
    石英治具およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER
    半導体ウェハのプラズマ処理方法 - 特許庁
  • To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method excellent in controllability of plasma density.
    プラズマ密度の制御性に優れたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
  • PLASMA DENSITY MEASURING PROBE, PLASMA DENSITY MEASURING DEVICE, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND PLASMA DENSITY MEASURING METHOD
    プラズマ密度測定子、プラズマ密度測定装置、プラズマ処理装置、およびプラズマ密度測定方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM
    プラズマ処理方法及び記憶媒体 - 特許庁
  • To provide a plasma processing apparatus which can detect the terminal point of the plasma processing with sufficient accuracy, and to provide a plasma processing method which can raise the quality of the plasma processing.
    プラズマ処理の終点を精度良く検出できるプラズマ処理装置と、プラズマ処理の品質を高めることができるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
  • ULTRA HIGH SPEED UNIFORM PLASMA PROCESSING SYSTEM
    超高速均一プラズマ処理装置 - 特許庁
  • MATCHING CIRCUIT AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    整合回路およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • FLAT ANTENNA, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    平面アンテナ及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • COUPLING MEMBER AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    結合部材およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS
    プラズマ処理方法とプラズマ処理装置 - 特許庁
  • To provide: a substrate mounting table for plasma processing, the table materializing uniformity of plasma processing and improvement of a yield; a plasma processing method; and a plasma processing apparatus.
    プラズマ処理の均一性と歩留まりの向上を実現可能なプラズマ処理用基板載置台、プラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
    プラズマ処理装置および処理方法 - 特許庁
  • VACUUM CONTAINER AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    真空容器およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • ENDPOINT MONITOR AND PLASMA PROCESSING METHOD
    エンドポイントモニタ及びプラズマ処理方法 - 特許庁
  • SPACER MEMBER AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    スペーサー部材およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING DEVICE AND ELECTRODE UNIT
    プラズマ処理装置及び電極ユニット - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD, PLASMA PROCESSING DEVICE AND AUTO-LEARNING PROGRAM OF MATCHING UNIT
    プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置及び整合器のオートラーニングプログラム - 特許庁
  • ELECTRODE STRUCTURE OF PLASMA PROCESSING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME
    プラズマ処理装置の電極構造およびこれを備えたプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLATE ANTENNA MEMBER, PLASMA PROCESSING DEVICE USED THEREWITH AND PLASMA PROCESSING METHOD
    平面アンテナ部材、これを用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD
    プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法ならびに電子部品製造方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND ELECTRONIC COMPONENT-MOUNTING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING METHOD
    プラズマ処理装置および電子部品実装装置、並びに、プラズマ処理方法 - 特許庁
  • To provide a microwave plasma processing apparatus which is high in plasma processing uniformity.
    プラズマ処理の均一性が高いマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, PLASMA PROCESSING METHOD, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    半導体装置の製造方法、プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD, MATCHER, AND METHOD OF OPERATING MATCHER
    プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、整合器、及び整合器の動作方法 - 特許庁
  • EMISSION SPECTROSCOPIC PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
    発光分光処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁
  • INDUCTION COUPLED PLASMA GENERATING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM
    誘導結合型プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA TREATMENT DEVICE, AND ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD
    大気圧プラズマ処理装置及び大気圧プラズマ処理方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD, AND PLASMA GENERATING METHOD
    プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及びプラズマ生成方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD THEREFOR, AND PLASMA CONTROL MEMBER
    プラズマ処理装置、プラズマ制御部材及びプラズマ処理方法 - 特許庁
  • CONTROL DEVICE OF PLASMA FORMING REGION AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    プラズマ形成領域の制御装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • MICROWAVE PLASMA PROCESSOR, PLASMA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT
    マイクロ波プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子部品 - 特許庁
  • MICROWAVE PLASMA PROCESSOR AND MICROWAVE PLASMA PROCESSING METHOD
    マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND THE PHOTODETECTION METHOD OF PLASMA TREATMENT
    プラズマ処理装置、およびプラズマ処理の光検出方法 - 特許庁
  • PLASMA GENERATING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE EQUIPPED THEREWITH
    プラズマ発生装置及びこの装置を備えたプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING SYSTEM, MEMBER FOR GENERATING AND INTRODUCING PLASMA AND DIELECTRIC
    プラズマ処理装置、プラズマ生成導入部材及び誘電体 - 特許庁
  • To provide a plasma processing apparatus which generates homogeneous plasma.
    均一なプラズマを生成するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • PLASMA GENERATING DEVICE, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND PLASMA GENERATING METHOD USING THE SAME
    プラズマ発生装置、プラズマ処理装置およびこれを用いたプラズマ発生方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM
    プラズマ処理方法および記憶媒体 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR NORMAL PRESSURE PLASMA PROCESSING
    常圧プラズマ処理方法および装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING CHAMBER AND BAFFLE PLATE ASSEMBLY
    プラズマ処理室及びバッフル板アセンブリ - 特許庁
  • PROCESSING METHOD AND PLASMA ETCHING METHOD
    処理方法およびプラズマエッチング方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PLACING TABLE
    プラズマ処理装置および基板載置台 - 特許庁
  • REDUCED PRESSURE TYPE MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS
    減圧式マイクロ波プラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING DEVICE AND DIELECTRIC WINDOW
    プラズマ処理装置及び誘電体窓 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS APPLYING SPUTTERING PROCESS
    スパッタ処理応用のプラズマ処理装置 - 特許庁
  • ELECTRODE STRUCTURE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    電極構造及びプラズマ処理装置 - 特許庁
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