「polymer processing」を含む例文一覧(464)

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  • By applying a polymer material of a thickness of 50-300 μm onto a silicon substrate 5 on which photodieodes 4 (4a, 4b) are formed and processing the polymer material to form optical path change mirrors 2, 3 and a polarized light separation prism 1.
    フォトダイオード4が形成されたシリコン基板5上に、厚み50〜300μmの高分子材料を塗布し、この高分子材料を加工して、光路変換ミラー2,3、偏光分離プリズム1を形成する。 - 特許庁
  • To provide a processing method of sheathing material of polymer battery and a processing device processing the length of a sheathing material within short time, with high accuracy and few scatter, preventing short circuit of electrodes caused by burr, without requiring skilled technique.
    外装材の長さを高精度に得ることができるとともに、バリによる電極のショートが防止でき、しかも、短時間で、バラツキがなく、熟練技術が必要とされないポリマーバッテリー外装材の加工方法及びそれに用いる加工装置を提供する。 - 特許庁
  • To enable reliable removal of each object and also reliable removal of polymer deposited on the processing-target substrate without eroding the processing-target substrate even when the objects to be removed on one and the other surfaces of a processing-target substrate are different.
    被処理基板の一方の面と他方の面とで除去する対象物が異なる場合であっても各対象物を確実に除去することができ、また、被処理基板を浸食することなく、被処理基板に付着したポリマーを確実に除去すること。 - 特許庁
  • To provide a flame retardant for after-processing, capable of furnishing an organic polymer material with high flame retardancy, without using a halogenated compound, to provide a flame-retardant processed product which is furnished with the flame retardancy by the flame retardant for after-processing, and to provide a processing method.
    ハロゲン化合物を用いずに、有機高分子材料に高い難燃性を付与し得る後加工用難燃剤を提供することとし、更に、その後加工用難燃剤により難燃性を付与した難燃加工品と、その加工方法を提供する。 - 特許庁
  • In the orientation processing, rubbing against an oriented film 8 is performed and the double refraction liquid crystal polymer layer 9 is printed with a division pattern on the oriented film 8 and further, thermally processed.
    配向処理時には、配向膜8をラビングし、この上に複屈折液晶ポリマー層9を分割パターンに印刷し、更に熱処理する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing method and its apparatus for removing resist and polymer layers without damaging the base film.
    下地の膜にダメージを与えることなくレジストやポリマー層等を除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
  • This leveling agent comprising a substituted (meth)acrylic copolymer is especially useful for producing ferroelectric polymer films suitable for use in a data processing device.
    置換(メタ)アクリルコポリマーレベリング剤は、特にデータ処理デバイスにおける使用に適した強誘電性ポリマーフィルムの生成において有用である。 - 特許庁
  • This method for processing fibrous materials comprises the treatment of fibrous materials by using an aqueous composition comprising a polymer having 2-oxazoline group.
    2−オキサゾリン基を有する重合体を含有する水性組成物により繊維材料を処理することを含む繊維材料の加工方法。 - 特許庁
  • A hydrophilic polymer film 10 is formed by doing graft polymerization processing to a resin surface coming into contact with the ink by a (meth)acrylate monomer.
    インクに接する樹脂表面に、(メタ)アクリル酸エステルモノマーでグラフト重合処理することにより親水性高分子膜10を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for processing a resin by which a polymer having a low fluidity can be easily processed and complicated extrusion and molding in a mold can be performed.
    流動性の低いポリマーの加工を容易にし、複雑な押し出しやモールド成形が行えるようにした樹脂の加工方法を提供する。 - 特許庁
  • PARTIALLY NEUTRALIZED (METH)ACRYLATE POLYMER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND EXCAVATED SOIL PROCESSING AGENT, OR ADDITIVE TO CATAPLASM
    部分中和(メタ)アクリル酸系重合体、部分中和(メタ)アクリル酸系重合体の製造方法、並びに、掘削土処理剤又はパップ剤用添加剤 - 特許庁
  • To provide a residue-removing method and a residue-removing device, which surely remove and selectively polymer (residue after processing) through an inexpensive process.
    安価なプロセスでポリマー(工程後の残渣)を確実に選択除去することができる残渣除去方法および残渣除去装置を提供する。 - 特許庁
  • Further, it is preferable that the cross-linking agent is isocyanate based one, that the coating method of the processing liquid is a gravure roll processing, and that the porous layer composed of the polymer elastic body is formed by a wet coagulation method.
    さらには、架橋剤がイソシアネート系であることや、処理液の塗布方法がグラビアロール処理であること、高分子弾性体からなる多孔層が、湿式凝固法によるものであることが好ましい。 - 特許庁
  • The method includes forming an assembly of the initial substrate (1) with one face (25) of a silicone polymer layer (20), this face having been treated under an ultraviolet radiation, and processing the initial substrate (1) to form the thin layer (5) on the silicone polymer layer (20).
    シリコン型ポリマー層(20)の一面(25)に前記初期基板(1)を接合させ、前記一面には紫外線処理が施されており、前記初期基板(1)を薄化することで前記シリコン型ポリマー層(20)上に薄層(5)を形成する。 - 特許庁
  • METHOD OF PROCESSING ORGANIC POLYMER ELECTRONIC MATERIAL, METHOD OF PRODUCING ORGANIC POLYMER ELECTRONIC MATERIAL, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT, ELECTROPHOTOGRAFIC ORGANIC PHOTORECEPTOR, IMAGE FORMING APPARATUS, ORGANIC SEMICONDUCTOR TRANSISTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS
    高分子有機電子材料の処理方法、高分子有機電子材料の製造方法、有機電界発光素子、電子写真用有機感光体、画像形成装置、有機半導体トランジスタ素子およびその製造方法、並びに半導体装置 - 特許庁
  • To provide a method of processing a polymer actuator element containing an ion exchange resin in a polymer electrolyte which can improve a bending rate and displacing performance and also can improve the bending rate and displacing performance of the completed actuator element.
    イオン交換樹脂を高分子電解質に含む積層状の高分子アクチュエータ素子を完成後のアクチュエータ素子に適用できる屈曲率や変位性能を向上させるための処理方法を提供することである。 - 特許庁
  • To provide a laminate capable of further enhancing the strength, gas permeability or the like of a norbornene type polymer by performing the co-extrusion processing of the norbornene type polymer excellent in heat resistance, waterproofness, strength or the like and other resin.
    耐熱性、耐水性、強度等に優れたノルボルネン系ポリマーと他の樹脂とを共押出加工などを行うことにより、ノルボルネン系ポリマーの強度やガス透過性などを更に補うことができる積層体を提供すること。 - 特許庁
  • To obtain a polymer material that is superior in heat resistance, processing, and ion conductivity and is especially useful for an ion conductive membrane by polyarylene ether introducing alkoxysulfonic acid group that is useful for a polymer electrolyte membrane.
    本発明の目的は、高分子電解質膜として有用なアルコキシスルホン酸基を導入したポリアリーレンエーテルにより、耐熱性、加工性、イオン伝導性にすぐれた、特にイオン伝導膜として有用な高分子材料を得ることにある。 - 特許庁
  • To obtain an electroconductive polymer composite, high in electroconductivity and solubility to solvents, excellent in stability and shelf life as well as molding performances and stabilized in dope and dedope behaviors after processing, and provide a method for producing the electroconductive polymer.
    溶媒可溶性を有し、成形性能に優れ、また安定性・保存性に優れ、さらに加工後のドープ・脱ドープ挙動の安定した高い導電性を有する導電性高分子複合体とその製造法を提供する。 - 特許庁
  • This water repellent composition for the foam-processing of the hydrophobic fibrous product consists of (A) a dispersion of a fluorine- containing polymer, (B) a foaming agent and (C) a penetrating agent as essential components.
    (A)含フッ素重合体の分散液、(B)起泡剤、および(C)浸透剤を必須成分とする疎水性繊維製品の泡加工用撥水剤組成物。 - 特許庁
  • To provide a separator for a solid polymer fuel cell which has high conductivity, anti-corrosiveness and low gas permeability, and is easy in machine-processing at a low cost.
    導電性が高く、耐食性があり、ガス透過性が低く、機械加工が容易である低コストの固体高分子型燃料電池用セパレータを提供すること。 - 特許庁
  • To provide an ethylene polymer which is excellent in balance of a mechanical strength and an extrusion load at processing and has a good taking-up property in a high temperature range.
    機械的強度と加工時における押出し負荷のバランスに優れ、高い温度領域での引き取り性が良好なエチレン系重合体を提供すること。 - 特許庁
  • The processing film is a biaxially stretched film comprising 95-50 mass% polylactic acid polymer and 5-50 mass% aliphatic-aromatic copolyester.
    ポリ乳酸系重合体95〜50質量%と脂肪族−芳香族共重合ポリエステル5〜50質量%とを含む2軸延伸フィルムである。 - 特許庁
  • To provide a hydrogenated ring-opening metathesis polymer excellent in heat resistance, thermal decomposition resistance and light transmittance, and used as a photoresist suitable for the fine processing of a semiconductor.
    耐熱性、耐熱分解性、光透過性に優れ、半導体微細加工用フォトレジストに適した開環メタセシス重合体水素添加物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a tool for machining a fine hole for achieving high efficiency/high-quality fine hole machining, a method of producing the same, and a method of processing a polymer film.
    高能率・高品質な微細穴加工を実現するための加工用工具、その作製方法および高分子フィルムの加工方法を提供する。 - 特許庁
  • An inner layer comprises a high density polymer providing a coextrusion film having enough impact strength and shearing resistance required for its processing and treatment.
    内側層は、加工および処理に必要とされる衝撃強さおよび引裂抵抗を有する共押し出しフィルムを提供する主として高密度の高分子からなる。 - 特許庁
  • (1) The method for pretreating a recording medium employs acid and polymer containing aqueous oxazoline group for processing the surface of the recording medium before the aqueous ink for recording is discharged.
    (1)水性記録用インクの吐出前に、酸と水溶性オキサゾリン基含有ポリマーとを用いて、記録媒体表面を処理する前処理方法。 - 特許庁
  • To provide a processing aid polymer which reduces the amount of collapse in foamed polymers and the gloss of both foamed and nonfoamed PVC articles.
    発泡ポリマーにおける崩壊量を減少させ、発泡および非発泡PVC物品の両方の光沢を低下させる加工助剤ポリマーを提供する。 - 特許庁
  • The silicone rubber processing uses a coating composition comprising the silicone rubber which is usually used for coating, an acrylic polymer resin and a flame retardant.
    前記特殊シリコーンゴム加工は、通常のコーティングに用いられるシリコーン樹脂に高分子アクリル樹脂と難燃剤を併用したコーティング剤組成物を用いた。 - 特許庁
  • By the above method, a soot generated on the surface of the organic polymer film 6 in processing by the irradiation with a laser beam can be selectively etched away and removed.
    これにより、レーザ光の照射による加工の際に有機高分子膜6表面に発生した煤が、選択的にエッチングされて除去される。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a polymer alloy comprising mixing a plural kinds of resins with a high-temperature high-pressure fluid or a supercritical fluid, which gives a polymer alloy hardly suffering from destruction of an ultrafine phase separation structure thereof even when the polymer alloy is subjected to processing accompanied with heating such as heat-pressing.
    高温高圧流体または超臨界流体と共に複数種の樹脂を混合してポリマーアロイを得る製造方法であって、得られたポリマーアロイを加熱プレスなどの加熱を伴う加工に供したとしても該ポリマーアロイにおける超微小相分離構造が破壊され難いポリマーアロイを製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a separator for a solid polymer type fuel cell having superior corrosion resistance and using a metal substrate with low contact resistance, and to provide a plasma processing technology and a plasma processing device which are excellent in productivity.
    耐食性に優れ、かつ接触抵抗が低くい金属基板を用いた固体高分子型燃料電池用セパレータの提供、及び生産性に優れたプラズマ処理技術及プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of permeating and immobilizing a metal complex stably even in a low temperature processing in a batch processing method of a plating pretreatment which permeates the metal complex into a polymer using a high pressure carbon dioxide.
    高圧二酸化炭素を用いて金属錯体をポリマーに浸透させるメッキ前処理のバッチ処理法において、低温度の処理においても安定に金属錯体をポリマーに浸透、かつ固定化する方法を提供する。 - 特許庁
  • To minimize bubbles in the processing of a photographic element including an overcoat, one component of which is at least one water-soluble hydrophilic polymer that leaches out in a processing solution.
    本発明の目的は、オーバーコートの1種の成分が少なくとも1種の処理溶液中に浸出する水溶性親水性ポリマーであるオーバーコートを含んでなる写真要素の処理時の泡を最少化することである。 - 特許庁
  • The carbon dioxide fluid contaminated containing the nonvolatile organic residue thus extracted is then taken out from the processing chamber so that the organic residue is not deposited on the component made of a polymer material by reducing the pressure in the processing chamber.
    処理チャンバを減圧することにより、有機残渣がポリマー材料製構成部品上に堆積しないように、抽出された不揮発性有機残渣を含む汚染された二酸化炭素流体を処理チャンバから取り出す。 - 特許庁
  • To obtain a polyester film for formation and processing, having excellent forming processability and beauty, suitably useful for formation and processing of lamination especially to a simple substance, metal, paper, nonwoven fabric, polymer material.
    成形加工性、美麗性に優れており、特に単体、金属、紙、不織布、ポリマー素材との積層において成形加工する用途に好適に使用することができる成形加工用ポリエステルフィルムを提供すること。 - 特許庁
  • The resist substrate processing liquid for processing a resist substrate having a developed photoresist pattern contains a solvent which does not dissolve the developed photoresist pattern, and a polymer which is soluble in the solvent.
    現像済みフォトレジストパターンを有するレジスト基板を処理するためのレジスト基板処理液であって、現像後のフォトレジストパターンを溶解しない溶媒と、前記溶媒に溶解しえるポリマーとを含んでなるレジスト基板処理液。 - 特許庁
  • The first laser processing unit removes a part, covering a substantially half circumference of the anode lead member, of a part of a dielectric film and a conductive polymer film which covers the entire circumference of the anode lead member, and the second laser processing unit removes the remaining part of the dielectric film and conductive polymer film which covers a substantially half circumference of the anode lead member.
    第1レーザ処理部では、陽極リード部材の全周を覆う誘電体被膜および導電性高分子膜の部分のうち、約半周分を覆う部分が除去され、第2レーザ処理部では、陽極リード部材の約半周分を覆う残りの誘電体被膜および導電性高分子膜の部分が除去される。 - 特許庁
  • In the manufacturing method of the laminate for laser processing, a polymer sheet for laser processing is formed by crosslinking the polymer composition and a photopolymerizable layer composed of a photopolymerizable composition material such as an elastomer, a compound having an ethylene unsaturated group, a polymerization initiator or the like, and it is irradiated with ultraviolet rays.
    本レーザー加工用積層体の製造方法は、上記重合体組成物を架橋させてレーザー加工用重合体シートを形成し、このシート表面に光重合性組成物原料(エラストマー、エチレン性不飽和基を有する化合物、重合開始剤等)からなる光重合性層を設け、紫外線を照射する。 - 特許庁
  • The filled silicone composition is compounded by compounding a filler, a processing fluid and a silicone polymer in a first compounding apparatus to produce a first dispersed composition and simultaneously compounding a filler, a processing fluid and a silicone polymer in a second compounding apparatus that shares a common extruder shaft with the first compounding apparatus to produce a second dispersed composition.
    第一コンパウンディング装置で充填材と加工流体とシリコーンポリマーをコンパウンディングして第一分散組成物を製造し、同時に、第一コンパウンディング装置と同じ押出機シャフトを共有する第二コンパウンディング装置で充填材と加工流体とシリコーンポリマーをコンパウンディングして第二分散組成物を製造する。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the divided wavelength plate filter includes a process for printing a material layer 9 serving as a divided wavelength plate 208 with a predetermined division pattern with a double refraction liquid crystal polymer and a process for orientation-processing the double refraction liquid crystal polymer layer.
    分割波長板208となる材料層9を複屈折液晶ポリマーによって所定の分割パターンに印刷する工程と、この複屈折液晶ポリマー層を配向処理する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。 - 特許庁
  • In the method of processing a semiconductor wafer using an adhesive tape for semiconductor processing, an adhesive caused by the semiconductor processing adhesive tape can be prevented from remaining by protecting a circuit formed on the semiconductor wafer with a protective layer made of water-soluble polymer.
    半導体加工用粘着テープを用いた半導体ウエハの加工方法であって、水溶性ポリマーからなる保護層により前記半導体ウエハ上に形成された回路を保護することにより、半導体加工用粘着テープに起因する粘着剤の糊残りを防止する半導体ウエハの加工方法。 - 特許庁
  • For the optical alignment film, a polymer graft thin film is obtained by fixing a polymer including a radical polymerizable group and an ionic group on a substrate through the radical polymerizable group, the polymer graft thin film is brought into contact with an azobenzene derivative having a functional group to interact with the ionic group, the azobenzene derivative is fixed to the polymer graft thin film, and optical alignment processing is executed by light irradiation.
    ラジカル重合性基とイオン性基とを有するポリマーを、前記ラジカル重合性基を介して基板上に固定化して高分子グラフト薄膜を得て、前記高分子グラフト薄膜を前記イオン性基と相互作用する官能基を有するアゾベンゼン誘導体と接触させ、前記アゾベンゼン誘導体を前記高分子グラフト薄膜に固定化させ、光照射により光配向処理が施された光配向膜。 - 特許庁
  • To provide a plasma processing device and a plasma processing method wherein, when a resist pattern is removed by an ashing process of a low temperature RIE system, it is possible to remove a polymer in a side wall around a substrate and a bevel with a simple configuration.
    レジストパターンを低温RIE方式のアッシング処理で除去する際、基板周辺の側壁部やベベル部のポリマーの除去を、簡単な構成により可能にするプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a polymer optical waveguide, which method can shorten processing time, and permitting low costs and stable mass production.
    加工時間の短縮を図ることができるとともに、低コストであり、安定して大量生産することを可能とした高分子光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for thermally stabilizing a polymer composition normally susceptible to heat-induced deterioration during extrusion, injection molding and other processing of the composition at an elevated temperature.
    押出成形、射出成形および他の組成物の高温での加工中に通常、熱による劣化を受けやすいポリマー組成物の熱安定化方法の提供。 - 特許庁
  • To provide a degradation recovery processing method capable of recovering the degradated power generation performance attributable to the adhesion of metal ions to a high-polymer film.
    高分子膜に金属イオンが付着することに起因した発電性能の劣化を回復することができる燃料電池の劣化回復処理方法を提供する。 - 特許庁
  • The fluoropolymer composition having the melt processing properties comprises a little amount of the fluoropolymer resin with a functional group and a liquid crystal polymer resin, and a great amount of the fluoropolymer resin without a functional group.
    少量の官能基のあるフルオロポリマー樹脂および液晶ポリマー樹脂と、大量の官能基のないフルオロポリマー樹脂とを含む溶融加工性フルオロポリマー組成物。 - 特許庁
  • To provide a polymeric composition for crosslinking containing a co-crosslinking agent which does not cause any processing trouble such as dripping when crosslinking a crosslinkable polymer.
    架橋性高分子を架橋させる際、液だれの様な加工性の問題を生じることのない共架橋剤を含有する架橋用高分子組成物を提供する。 - 特許庁
  • To achieve a unidirectionally rotating four-shaft screw extruder in a simple structure, which is used in a field such as polymer work and food processing.
    本発明は、ポリマー加工や食品加工等の分野において用いられる同方向回転四軸スクリュ押出機を簡単な構造で実現することを目的とする。 - 特許庁
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