「process parameter」を含む例文一覧(528)
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これにより，ハードディスクドライブの温度に敏感なパラメータ値をユーザ条件に適するように変更させるように制御することにより，ハードディスクドライブの製造工程及びユーザ条件が相異なる場合にも性能の低下が起こらないという効果が得られる。 - 特許庁 - To provide a carbon material based negative electrode active material having a physical property parameter value in which electrochemical characteristics of a secondary battery are not deteriorated even if a crimping process is conducted in order to manufacture an electrode for the secondary battery, and to provide a method of manufacturing the same or the like.
本発明は、二次電池用電極の製造のために圧着工程を行っても二次電池の電気化学的特性が劣化しない物性パラメータ値を持つ炭素材料系負極活物質とその製造方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A plurality of parameters which are necessary for step measurement are defined in advance to a wafer whose surface condition shifts one after another passing through each process, and in steps S1 and S2, for example, it is judged whether step measurement is necessary or not to a set wafer by a parameter.
各工程を経ることによりその表面状態が逐次遷移するウエハに対し、段差計測に必要な複数のパラメータを事前に定義し、例えばステップＳ１及びＳ２では、パラメータにより、セットされたウエハについて段差計測が必要か否かを判断する。 - 特許庁 - Since it is possible to judge whether a parameter in an epitaxial growth process which decides property of a semiconductor laser device is proper or not rapidly, yield can be improved effectively, thus reducing the number of rejected products and reducing production cost of a semiconductor device.
半導体レーザ装置の特性を左右するエピタキシャル成長工程のパラメータが適切であるか否かが迅速に判定できるので、良品率を効果的に向上でき、不合格品の数を少なくできて、半導体装置の生産コストが低減できる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device that is driven with a low power supply voltage, generates a stable reference voltage in response to the fluctuation of a power supply voltage, and prevents temperature coefficients of the reference voltage from being affected by a change in a parameter in a manufacturing process.
低い電源電圧で駆動でき、電源電圧の変動に対して安定な基準電圧を生成するとともに、基準電圧の温度係数が製造工程におけるパラメータの変動に影響されにくい半導体装置を提供することである。 - 特許庁 - During the treatment of the substrate W by the treatment liquid, a fluctuation is imparted to a process parameter by the control of liquid introduction valves 41-44, flow rate adjustment valves 101-104, a pure water supply source valve 51, a warm pure water supply source valve 52 and a pure water valve 5, etc.
処理液による基板Ｗの処理中に、薬液導入バルブ４１〜４４、流量調整バルブ１０１〜１０４、純水供給源バルブ５１、温純水供給源バルブ５２、純水バルブ５などの制御によって、プロセスパラメータに揺らぎが付与される。 - 特許庁 - Parameter information such as the encoding rate of convolution codes in each transmission data stream and an interleaving size is time division-multiplexed in a synchronizing signal while being spread with the same synchronization spreading code as a spreading code used for a synchronizing process of the spreading code.
同期信号には、各伝送データ系列の畳み込み符号の符号化率、及びインターリーブのサイズ等のパラメータ情報が、拡散符号の同期処理に用いられている拡散符号と同じ同期用拡散符号で拡散されて時分割多重されている。 - 特許庁 - When confirming that an execution device for a first service (process I) has been automatically set in accordance with the set workflow, a device-in-charge determining part 23 of a server 2 asks a discovery 3 about the device that best matches the requirements of a set parameter.
サーバ２の担当デバイス決定部２３は、設定されたワークフローに基づいて１番目のサービス（処理Ｉ）における実行デバイスが「自動」で設定されていることを確認すると、設定されたパラメータの条件に最も適合するデバイスをディスカバリ３に問い合わせる。 - 特許庁 - Then. on the basis of the process which repeats convolution integration or the result, the value of a parameter σ is specified (S5) under the condition that light intensity level difference is measured which becomes small enough in two or more positions of optical image Ik corresponding to two or more parts in which a resist size W.
このとき畳み込み積分を繰り返す過程または結果から、レジスト寸法Ｗが測定されている複数の箇所に対応した光学像Ｉｋの複数の位置で光強度レベル差が十分小さくなるパラメータσを特定する（Ｓ５）。 - 特許庁 - A feature extracting part 101 obtains the approximate polygon of the convex closure of the contour of an inputted graphic, reflexively halves an edge with the approximate polygon as the initial polygon to hierarchically polygon-approximate the inputted graphic and extracts a parameter describing the initial polygon and the generated parameter of a polygon at each hierarchy in the process of a hierarchical polygon approximation.
特徴抽出部１０１において、入力図形の輪郭の凸包の近似多角形を求め、該近似多角形を初期多角形として辺を再帰的に２分割していくことにより該入力図形を階層的に多角形近似し、該初期多角形を記述するパラメータと、該階層的な多角形近似の過程における各階層での多角形の生成パラメータをそれぞれ特徴量として抽出する。 - 特許庁 - The parameter value determination part 54 makes the comparative operation part 53 repeat the process for the updated orthogonal table while updating the orthogonal table from the selected combination, and if the maximum degree of conformance becomes saturated, a parameter relating to the length is selected, by dividing the length a new shape model is formed and the new orthogonal table is generated as the operation object.
パラメータ値決定部５４では選択された組合せを基準として直交表を更新しつつ比較演算部５３における当該処理を更新後の直交表に対して繰り返させ、最大となる適合度が飽和する場合に、長さに関する一のパラメータを選択し、当該長さを分割した新たな表面形状モデルを生成して、新たな直交表が演算対象として生成される。 - 特許庁 - Alternatively, in the Monte Carlo simulation calculating process for an ion implantation process, when scattering of a cluster-type molecular ion consisting of ten or more atoms is calculated by the Monte Carlo method, if a large angle scattering event resulting in energy loss designated by a predetermined parameter occurs, the cluster-type molecule is decomposed, and a travelling direction of decomposed individual atom is defined at random.
もしくは、イオン注入プロセスのモンテカルロシミュレーション計算過程において、１０個以上の原子からなるクラスター型分子イオンのモンテカルロ法による散乱を計算する場合に、所定のパラメータで指定したエネルギー損失になる大角度散乱イベントが起きた段階で、クラスター型分子を分解させ、かつ分解した個々の原子の進行方向をランダムに決定する。 - 特許庁 - A processing circuit 170 is configured to process an executable instruction for registering the 3D model with the fluoroscopy image in response to a discriminable parameter related to the catheter in the common reference system and both of the first and second image acquisition systems.
処理回路１７０が、共通の参照系、並びに第一及び第二の画像取得システムの両方におけるカテーテルに関連する識別可能なパラメータに応じて、３Ｄモデルとフルオロスコピィ画像とを位置揃えするための実行可能な命令を処理するように構成されている。 - 特許庁 - The parameter estimation includes a method for estimating the temperature of the electric machine, and the controller executes a temperature estimation process in response to a temperature signal from a temperature sensor connected operably with the controller and transmitting a temperature signal corresponding to the measured temperature to the controller.
そのパラメータ推定は電気機械の温度を推定するための方法を含み、コントローラに動作可能に接続され、測定された温度に対応する温度信号をコントローラに送信する温度センサを備え、コントローラは、温度センサからの温度信号に応答して温度推定プロセスを実行する。 - 特許庁 - To provide a mobile article tracking apparatus by a camera image which can simply and accurately process to detect and track a moving article as an object to be monitored by using a plurality of cameras in a required monitoring region and to provide a method and an apparatus for calibrating a camera parameter.
所要の監視領域において複数のカメラを使用して、監視対象としての移動物体の検出およびその追跡処理を簡便にかつ高精度に達成することができるカメラ画像による移動物体追跡装置およびカメラパラメータのキャリブレーション方法並びに装置を提供する。 - 特許庁 - After an inter-distance characteristic computation part 12 statistically processes distances calculated by the individual feature quantities, an inter-distance characteristic index 105 as a parameter for correction is computed and an individual feature quantity distance correction part 13 performs a correction process corresponding to statistic characteristics among the individual feature quantities.
個別特徴量ごとに算出された距離を距離間特性計算部１２により統計処理した上で補正のためのパラメータである距離間特性指標１０５を算出し、個々の特徴量間の統計特性に応じた補正処理を個別特徴量間距離補正部１３で実行する。 - 特許庁 - A patch application procedure suited to a computer to be applied is automatically generated based on detail information for an application patch from a patch providing vender (including an application procedure) and information for current patch list/installed product list/process start state/parameter and the like, which is extracted from the computer to be applied.
パッチ提供ベンダからの適用パッチの詳細情報（適用手順を含む）と、適用するコンピュータから抽出した、現在適用済のパッチ一覧／インストール製品一覧／プロセス起動状態／パラメータ等の情報をもとに、適用するコンピュータに合わせたパッチ適用手順を自動的に生成する。 - 特許庁 - As for a claim of a chemical product which cannot be clearly characterized merely by features of structure and/or composition, it is permitted to further use physical /chemical parameter(s)and/or the manufacturing process to characterize the claim.
構造及び/又は組成の特徴のみで明確に表現できない化学製品の請求項 構造及び/又は組成の特徴のみでは明瞭に特徴づけることのできない化学製品クレームについて、さらに物理・化学的パラメータ及び/又は製法を用いて特徴付けることが許される。 - 特許庁 - In the paying-off process of a parameter, BGW(2) authenticates identity at the user level of the remote terminal, thus specifying the user on the remote terminal, and acquiring the IP address and configuration data in the closed IP network of the remote terminal from a configuration data management server.
上記のパラメータの払い出し過程において、ＢＧＷ（２）はリモート端末のユーザレベルでの本人性認証を行うことによって、リモート端末上のユーザを特定し、コンフィグデータ取得通信にて、リモート端末の閉域ＩＰ網内のＩＰアドレス及びコンフィグデータをコンフィグデータ管理サーバから取得する。 - 特許庁 - To solve a problem that it is not rare that a user obtains only an unexpected output result different from an assumption during photographing because a workflow, which is a work process leading to a final output medium, can be complicatedly affected by control parameter values of the apparatus, characteristics of the medium, and so on.
最終的な出力媒体に至る作業工程であるワークフローは、機器の制御パラメータ値、媒体の特性等の影響を複雑に受け得るので、ユーザにとっては、撮影時の想定とは異なる思いがけない出力結果しか得られないことも珍しくない。 - 特許庁 - A related device can quickly and accurately detect the working material, or can perform the precise punching-out or the rivet- connection at a constant prescribed depth, regardless of the change of the quality of a material or the other parameter causing the deformation of the reaction structural body 9 during punching-out process.
関連した装置は、加工物の速く正確な検知を可能にし、また、孔打ち抜き工程中に反力構造体９の変形をもたらす、材料の品質又は他のパラメータの変化にかかわらない一定の所定の深さでの正確な孔打ち抜きまたはリベット締結を可能にする。 - 特許庁 - The HMD positioning attitude is compensated using the viewing transformation matrix and the compensation matrix ΔMc that are created by each process above (S606), and an image of a virtual object is created based on an external parameter showing the HMD positioning attitude compensated and then a composite reality image is created (S607).
以上の各処理により生成したビューイング変換行列、及び補正行列ΔＭｃを用いてＨＭＤの位置姿勢を補正し（Ｓ６０６）、補正したＨＭＤの位置姿勢を示す外部パラメータに基づいて仮想物体の映像を生成し、複合現実感映像を生成する（Ｓ６０７）。 - 特許庁 - As for a claim of a chemical product which cannot be clearly characterized merely by features of structure and/or composition, it is permitted to further use physical /chemical parameter(s)and/or the manufacturing process to characterize the claim.
構造及び/又は組成の特徴のみで明確に表現できない化学製品の請求項構造及び/又は組成の特徴のみでは明瞭に特徴づけることのできない化学製品クレームについて、さらに物理・化学的パラメータ及び/又は製法を用いて特徴付けることが許される。 - 特許庁 - The market price presenting processor 21 automatically transfers requests which are received by this system but are not set so that the system itself should process them (for example, those which have parameters within an extended range outside the prescribed parameter range) to another financial transaction system (mother organization) 11 or 12.
当該システムが受けるが、そのシステム自体が処理するよう設定されていない（例えば、所定のパラメータ範囲外で拡張範囲内である）リクエストについては、相場提示プロセッサ２１がこれらのリクエストを自動的にさらなる金融取引システム１１又は１２（マザー組織）に転送する。 - 特許庁 - An information inputting part 11 receives the input of a parameter regulating the reading time of each process constituting the supply chain, an inventory point drawing reception of an order, an order receiving quantity and a storing quantity with respect to the order receiving quantity to each inventory point with respect to a period until the inventory point drawing the reception of order.
情報入力部１１は、サプライチェーンを構成する各プロセスのリードタイムと、受注を引き当てる在庫ポイントと、受注量と、各在庫ポイントへの受注量に対する入庫量を、受注を引き当てる在庫ポイントまでの時間に対して規定するパラメータの入力を受け付ける。 - 特許庁 - When a photographing process of a subject to be examined is carried out and a photographed image of the subject is obtained based on information on an inspection request received from outside by way of a means for communications 122, a means for discrimination 116 discriminates whether or not a photographing parameter included in the information on such inspection request is adequate.
通信手段１２２を介して外部から受信した検査依頼情報に基づいて、被写体の撮影処理を実行し、当該被写体の撮影画像を取得する際に、判別手段１１６は、検査依頼情報に含まれる撮影パラメータが適切であるか否かを判別する。 - 特許庁 - A setting of the exposure parameter in every exposure process is adjusted according to deviations in optical proximity effects of respective areas in a semiconductor substrate, whereby a deviation in the optical proximity effect of an exposure area is compensated for, resulting in a fixed and uniform optical proximity effect.
半導体基板におけるそれぞれの露光エリアの光学近接効果の偏差に応じて、毎度の露光プロセスの露光パラメータ設定を調整することによって、露光エリアの光学近接効果の偏差を補償し、固定で均一な光学近接効果の結果を得られる。 - 特許庁 - In one embodiment, a tandem (MS/MS) mass spectrometric analytical method includes selection for a collision induction dissociation (CID) voltage amplitude and a q parameter value as to a quadrupole ion trap, so as to optimize a daughter ion fragmentation process with respect to a prescribed parent ion mass-to-charge (m/z) ratio.
ある実施形態において、タンデム（ＭＳ／ＭＳ）質量分析方法は、所与の親イオン質量対電荷（ｍ／ｚ）比に対して娘イオン断片化プロセスを最適化するように、四重極イオントラップに関する衝突誘発解離（ＣＩＤ）電圧振幅およびｑパラメータ値を選択することを含む。 - 特許庁 - A target speed profile for controlling the feed motor 11, properly compares acceleration data which are speed parameters, initial speed data, reducing speed data, final speed data and constant speed data, and changing the result of the comparison, makes the speed parameter of the motor in the process from the initial speed value to the final speed value of a trapezoidal speed profile.
フィードモータ１１の制御を行う目標速度プロファイルは、速度パラメータである加速データ、初速データ、減速データ、終速データ、定速データを適宜比較し、その結果を切り換えて初速値から終速値に至る過程でのモータの速度パラメータを台形状の速度プロファイルとする。 - 特許庁 - The catalyst solution for producing polyalkylene glycol comprises a basic iminophosphazenium salt and a solvent containing at least one protonic organic solvent having a solubility parameter of not less than 10 (cal/cm^3)^1/2 and the process for producing polyalkylene glycol uses the same.
塩基性イミノホスファゼニウム塩及び溶解度パラメータ１０（ｃａｌ／ｃｍ^３）^１／２以上であるプロトン性有機溶媒を少なくとも１種類以上含有する溶媒からなるポリアルキレングリコール製造用触媒溶液及びそれを用いてなるポリアルキレングリコールの製造方法。 - 特許庁 - When a lubricant layer smoothing event is generated, the CPU generates a current to be supplied to the voice coil motor by referring to the parameter table 84 and performs a smoothing process of the lubricant layer while the magnetic head is being sought between the outermost peripheral track and the innermost peripheral track of the magnetic disk.
ＣＰＵは、潤滑層平滑化イベントが発生したとき、パラメータ・テーブル８４を参照してボイス・コイル・モータに供給する電流を生成し、磁気ヘッドを磁気ディスクの最外周トラックと最内周トラックとの間でシークさせて潤滑層の平滑化処理を実行する。 - 特許庁 - The parameter is selected from a group comprising a foam heat insulation material, shock resistance, cut resistance, energy management, alert sensors, process control, weather resistance, water resistance, mold resistance, loss of business, loss of property, loss to the environment, avionics, injury to persons, and security.
パラメータは、フォーム断熱材と、衝撃耐性と、切断耐性と、エネルギ調整と、警報センサと、プロセス・コントロールと、気象耐性と、水耐性と、モールド耐性と、ビジネス損失と、財産損失と、環境への損失と、エビオニクスと、人への傷害と、セキュリティとからなるグループから選択される。 - 特許庁 - The database stores various kinds of information such as history data on the previous change of the process control system, which is related to the decision of a step for changing event data, warning data, the notice of scheduled maintenance and an operation parameter and a step for analyzing or correcting the source of the problem detected in the process control system and the detected problem.
データベースは、事象データおよび警報データ、スケジュールされた保守の通知および動作パラメータに対する変更、プロセス制御システムで検出された問題の源と検出された問題をさらに解析するかまたは補正するのに必要なステップの両方を決定するのに関連する、プロセス制御システムに対する前の変更に関する履歴的データのような様々な種類の情報を記憶する。 - 特許庁 - This expression method of the light field data comprises: a process for acquiring a set of images of at least one object by a passive method on a virtual surface where a center of projection of an image acquisition device for acquiring the set of images exists; and a process for generating representative of the acquired set of images by using statistical analysis conversion based on parameter display including the virtual surface.
本発明は、画像の集合を取得する画像取得装置の投射の中心が存在する仮想表面において受動的な方法で少なくとも１のオブジェクトの画像の集合を取得する過程と、前記仮想表面を含むパラメータ表示に基づいた統計的解析変換を用いて前記取得された画像の集合の代表を生成する過程とを有するライトフィールドデータの表現方法を提供する。 - 特許庁 - To easily set and change the image processing conditions of a plurality of radioation image recording media cassettes in an image processing parameter management system provided with the cassettes which read radioation images recorded on radioation image recording media recording radioation images obtained by applying radioation rays to an object as electrical image signals and process the image signals and an image processing parameter management device which stores the image processing parameters used for processing the image signals.
放射線の照射により放射線画像を記録する放射線画像記録媒体に記録された放射線画像を電気的な画像信号として読み取り、画像信号に画像処理を施す複数の放射線画像記録媒体カセッテと、その画像処理の画像処理パラメータを記憶する画像処理パラメータ管理装置とを備えた画像処理パラメータ管理システムにおいて、容易に各放射線画像記録媒体カセッテの画像処理条件を設定、変更する。 - 特許庁 - The method for producing the carbon fiber bundle involves measuring the ultrasonic modulus of the produced carbon fiber bundle, and feeding back the ultrasonic modulus to a production condition as a process control parameter to produce the carbon fiber bundle while keeping the modulus quality of the carbon fiber bundle within a prescribed range.
製造された炭素繊維束の超音波弾性率を測定し、該超音波弾性率を工程管理パラメータとして製造条件にフィードバックして、該炭素繊維束の弾性率品質を所定範囲内に維持させつつ該炭素繊維束を製造することを特徴とする炭素繊維束の製造方法とする。 - 特許庁 - The manufacturing method of high-strength coke comprises dry-distilling a blended coal, where blending conditions of the blended coal are decided based on the pore-growing parameter R, which is a ratio of the pressure ΔP to the viscosity η of a softening and melting layer of coal in the heating process, represented by formula (2): R=ΔP/η (2).
配合炭を乾留してコークスを製造する方法において、前記配合炭の配合条件を、加熱過程における石炭軟化溶融層の圧力ΔＰと粘度ηとの比で示される下記式（２）の気孔成長パラメータＲに基いて決定することを特徴とする高強度コークスの製造方法。 - 特許庁 - Pattern data acquired from pattern design data 111 are decomposed into fundamental patterns (121), and each detection output of the fundamental patterns is calculated, by adding process condition data 112, material constant data 113 and a device parameter 115 (122), and each detection output of the fundamental patterns is integrated to generate an estimation image (124).
パターン設計データ１１１から得られるパターンデータを基本パターンに分解（１２１）し、プロセス条件データ１１２、材料定数データ１１３、装置パラメータ１１５を加味して基本パターンの検出出力の計算を行い（１２２）、基本パターンの検出出力を統合して推定画像を作成する（１２４）。 - 特許庁 - At an intra-prediction command 14; the frequency of intra-prediction within a specified time, and a prediction mode are determined and outputted based on the inter-prediction time, a constant time used for the intra-prediction and inter-prediction set by a parameter setting part 13, and the process time required for one intra-prediction.
イントラ予測指示部１４は、そのインター予測時間と、パラメータ設定部１３により設定されたインター予測とイントラ予測とに費やすことが可能な一定時間と、一回当たりイントラ予測にかかる処理時間とに基づいて、一定時間におけるイントラ予測の回数と予測モードとを決定して出力する。 - 特許庁 - This method for purifying the resin used for the purification of the semiconductor lithographic resin is characterized by comprising a process (i) of washing the resin (A1') containing a constituting unit (a2') having a lactone-containing ring type group with an organic solvent (S1') having 17.0 to 20.5 (J/cm^3)^1/2 range solubility parameter (SP value).
半導体リソグラフィー用樹脂の精製に用いられるものである、ラクトン含有環式基を有する構成単位（ａ２’）を含有する樹脂（Ａ１’）を、溶解度パラメータ（ＳＰ値）が１７．０〜２０．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にある有機溶剤（Ｓ１’）で洗浄する工程（ｉ）を有することを特徴とする樹脂の精製方法。 - 特許庁 - After a distance distribution state computation part 12 statistically processes distances calculated by the individual feature quantities, a distance distribution index 105 as a parameter for normalization is computed and an individual feature quantity distance normalization part 13 performs a normalization process corresponding to statistic characteristics of the individual feature quantities.
個別特徴量ごとに算出された距離を距離分布状況計算部１２により統計処理した上で正規化のためのパラメータである距離分布指標１０５を算出し、個々の特徴量の統計特性に応じた正規化処理を個別特徴量間距離正規化部１３で実行する。 - 特許庁 - A load determination/parameter change section 308 reduces the texture determination criterion value to increase the textures when the number of edges counted by the edge number measurement section 307 is larger than the number of maximum edges for which this image processing apparatus can complete a resolution enhancement process per frame within a target processing time.
そして、負荷判定・パラメータ変更部３０８は、エッジ数計測部３０７によって計数されたエッジの数が、情報処理装置が目標処理時間内に１フレーム分の高解像度化処理を完了可能な最大エッジ数よりも多い場合、テクスチャを増加させるべくテクスチャ判定基準値を減少する。 - 特許庁 - In a regeneration completion process, delay parameter DEL relating to discharge delay of sulfur component due to re-collection of the sulfur component desorbed once is set (S13) and sulfur component desorbed quantity ΔS_SUB of the NOx elimination catalyst is calculated based on an operation state of the engine and the like (S15).
再生終了処理では、一旦脱離した硫黄成分が再び捕捉されることによる硫黄成分の放出遅れに関するディレイパラメータＤＥＬを設定し（Ｓ１３）、エンジンの運転状態などに基づいてＮＯｘ浄化触媒における硫黄成分の脱離量ΔＳ＿ＳＵＢを算出する（Ｓ１５）。 - 特許庁 - The cooling elements can be controlled to bring a time fluctuation cooling profile in a prescribed sequence, can be controlled to bring a spatial cooling profile in a selected pattern, can be regulated to maintain a constant process parameter, or can be controlled to bring a combination thereof.
冷却要素は、所定の順序で時間変動冷却プロフィールをもたらすように制御することができ、選択パターンで空間冷却プロフィールをもたらすように制御することができ、又は一定の処理パラメータを維持するように調節することができ、又はこれらの組合せをもたらすように制御することができる。 - 特許庁 - The axiomatic service design method includes: a stage of dividing service design into the design areas of an organization domain, a role domain and a resource domain and transferring parameters between the continuous domains along a design process; and a stage of extracting design restrictions using a design matrix and a design parameter vector.
サービス設計を組織ドメイン、役割ドメイン、リソースドメインの設計領域に分け、設計過程に沿って連続するドメイン間においてパラメータの転写行う段階と、設計行列および設計パラメータベクトルを用いて設計制約を抽出する段階と、から成る公理的サービス設計方法を提供する。 - 特許庁 - In the map retrieval process, the tan(ANG) of angle ANG being 0°≤ANG≤45° is made the absolute value |TAN| for parameter TAN for searching, the prescribed map representing the corresponding relation between the angle ANG and absolute value |TAN|, the map search corresponding to the absolute value |TAN| is performed and the angle ANG is calculated (S06).
マップ検索処理では、０°≦ＡＮＧ≦４５°の角度ＡＮＧの正接ｔａｎ（ＡＮＧ）を検索用パラメータＴＡＮの絶対値｜ＴＡＮ｜とし、角度ＡＮＧと、絶対値｜ＴＡＮ｜との対応関係を示す所定マップに対して、絶対値｜ＴＡＮ｜に応じたマップ検索を行い、角度ＡＮＧを算出する。 - 特許庁 - After the temperature distribution in a single crystal 14 growing from a melt 12 is determined while considering the convection of the melt 12 under the single crystal production conditions of parameter P_1, the temperature distribution in the single crystal in a cooling process is determined to predict the concentration distribution and size distribution of voids and high-temperature oxygen precipitates in the single crystal.
先ずパラメータＰ_１の単結晶製造条件で融液１２の対流を考慮して融液から成長する単結晶１４内の温度分布を求め、冷却過程における単結晶内の温度分布を求めることにより、単結晶内のボイド及び高酸素析出物の濃度分布及びサイズ分布を予測する。 - 特許庁 - A process for producing a functional film having a functional layer on the surface of a cellulose acylate film is provided wherein the cellulose acylate has a substitution degree satisfying specific conditions and an organic solvent used in a coating solution for the functional layer has a solubility parameter of not more than 18 MPa^1/2 or not less than 21 MPa^1/2.
セルロースアシレートフィルムの表面に、機能性層を有する機能性フィルムの製造方法において、セルロースアシレートの置換度が特定の条件を満足し、且つ機能性層塗工溶液の有機溶媒の溶解性パラメータが１８ＭＰａ^1/2以下であるか、又は２１ＭＰａ^1/2以上である機能性フィルムの製造方法。 - 特許庁 - An actual performance data analyzing means 21 receives actual performance data in a production line from an input device 1, and calculates its operation time from information of an operation start date and time and operation end date and time in the received operation actual performance data in accordance with property information of an operation process of a parameter storing part 31.
実績データ解析手段２１は入力装置１から製造ライン内の作業実績データを受取り、その受取った作業実績データ内の作業開始日時の情報と作業終了日時の情報とから、パラメータ記憶部３１の作業工程の特徴情報にしたがって作業時間を算出する。 - 特許庁 - The network equipment corresponds to the IPsec communication, and comprises a means for retaining a setting parameter required for IPsec connection set by the user, a means for maintaining an error information output level set by the user, and a means for notifying the user of error information occurring in the process of the IPsec communication.
ＩＰｓｅｃ通信対応のネットワーク機器であって、使用者により設定されるＩＰｓｅｃ接続に必要な設定パラメータを保持する手段と、使用者により設定されるエラー情報出力レベルを保持する手段と、ＩＰｓｅｃ通信の過程で発生したエラー情報を使用者に通知する手段とを備える。 - 特許庁
