「process parameter」を含む例文一覧(528)

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  • A cause of deterioration in quality of an optical signal is estimated by using a measured value of a wave deterioration parameter obtained by a process of estimation of the wave deterioration parameter and a measured value of an optical signal-to-noise ratio parameter obtained by a process of estimation of the optical signal-to-noise ratio parameter.
    波形劣化パラメータ評価工程によって得られた波形劣化パラメータの測定値と光信号対雑音比パラメータ評価工程によって得られた光信号対雑音比パラメータの測定値とを利用して光信号品質劣化要因を評価する。 - 特許庁
  • In the parameter display section 22a, a parameter indicating a probability for displaying a ready-to-win display in the process of the variable display of the patterns 23 is displayed, and in the parameter display section 22b, a parameter indicating the expectation of a win is displayed, respectively.
    パラメータ表示部２２ａでは図柄２３の変動表示の過程でリーチ表示が表示される確率を示すパラメータが表示され、パラメータ表示部２２ｂでは当たり期待度を示すパラメータがそれぞれ表示される。 - 特許庁
  • When available, process substitution is performed simultaneously with parameter and variable expansion, command substitution, and arithmetic expansion.
    利用可能であれば、プロセス置換 (process substitution) は、パラメータ展開・変数展開・コマンド置換・算術式展開と同時に行われます。 - JM
  • An additional network parameter not acting like a variable in the optimization process acts like a limiting condition in the optimum process.
    最適化プロセスにおいて変数ではない付加的ネットワークパラメータは、最適化プロセスにおける拘束条件として機能する。 - 特許庁
  • DEVICE FOR COMPENSATING FLUCTUATION OF PROCESS AND OPERATION PARAMETER IN CMOS INTEGRATED CIRCUIT
    ＣＭＯＳ集積回路におけるプロセス及び動作パラメ—タの変動を補償するための装置 - 特許庁
  • METHOD AND SYSTEM TO CREATE PROCESS PARAMETER, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR
    プロセスパラメータの作成方法、プロセスパラメータの作成システム及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • To adaptively adjust an output from a predicted model by using a measured value of a process parameter.
    プロセスパラメータの測定値を用いて予測モデルの出力を適応的に調節すること。 - 特許庁
  • To adaptively control the output of a predicted model by using the measured value of a process parameter.
    プロセスパラメータの測定値を用いて予測モデルの出力を適応的に調節すること。 - 特許庁
  • First acquisition means acquires a first parameter history associated with process automation.
    第１の取得手段は、プロセスオートメーションに関連する第１のパラメータの履歴を取得する。 - 特許庁
  • Second acquisition means acquires a second parameter history associated with process automation.
    第２の取得手段は、プロセスオートメーションに関連する第２のパラメータの履歴を取得する。 - 特許庁
  • The specific performance parameter is known to be indicative of a particular fabrication process in the fabrication.
    特定の性能パラメータが、製造の特定の製造プロセスを示すことは周知である。 - 特許庁
  • To perform an error checking process of NC-data Ni based on contents in parameter data Pi.
    ＮＣデータＮｉのエラーチェックをパラメータデータＰｉの内容に基づきチェック可能とする。 - 特許庁
  • The instance for the generation of the synchronization parameter is recorded in a process control event database.
    同期化パラメータの発生のインスタンスはプロセス制御イベントデータベースの中に記録されうる。 - 特許庁
  • a stochastic process in which the distribution of the random variables is the same for any value of the variable parameter
    可変パラメタのどんな値にも、確率変数の分配は同じである確率過程 - 日本語WordNet
  • A quantization parameter operating unit 110 divides the image frames into predetermined process units, and executes a predetermined operation for the quantization parameter of encoded data of the blocks in the predetermined process units to calculate the state of the quantization parameter in each process unit.
    量子化パラメータ演算部１１０では、画像フレームを所定の処理単位に分割し、その処理単位において前記ブロックの符号化データの量子化パラメータに対して所定の演算を実施して、各処理単位における量子化パラメータの状態を算出する。 - 特許庁
  • Numbers are allocated to the parameter in each application program process such as a parameter number 1 (Param=1) for e-mail receiving processing and a parameter number 2 (Param=2) for data downloading processing.
    このパラメータは、例えば電子メールの受信処理はパラメータ番号１（Param＝１）、データのダウンロード処理はパラメータ番号２（Param＝２）等のように、アプリケーションプログラムの処理毎に番号が割り当てられている。 - 特許庁
  • A relational expression creation process has a step for selecting a parameter from the etching apparatus log; and there is created, for every selected parameter, a relational expression indicating correlation relation between the parameter and the etching size.
    関係式作成工程は、エッチング装置ログからパラメータを選択して、選択されたパラメータ毎に、当該パラメータとエッチング寸法との相関関係を示す関係式を作る。 - 特許庁
  • The GUI process 11 uses the user identifier and GUI process name as a retrieval key in picture setting parameter retrieving processing 111, retrieves the picture setting parameter information of a picture coordinate, size and input value form a picture setting parameter data base 21 and display a picture according to that picture setting parameter.
    ＧＵＩプロセス１１は、画面設定パラメータ検索処理１１１から、ユーザ識別子とＧＵＩプロセス名を検索キーとし、サーバ２の画面設定パラメータデータベース２１から画面座標、サイズ、入力値の画面設定パラメータ情報を検索し、その画面設定パラメータより画面を表示する。 - 特許庁
  • METHOD OF CALCULATING PROPER FILM THICKNESS FOR PS, AND PROCESS PARAMETER AUTOMATIC CORRECTION SYSTEM FOR RESIST APPLICATION MEANS
    ＰＳの適正膜厚算出方法及びレジスト塗布手段のプロセスパラメータ自動補正システム - 特許庁
  • The feature parameter is a DC component value that is calculated in the process of JPEG conversion, for example.
    特徴的パラメータは、例えばＪＰＥＧ変換の過程で算出されるＤＣ成分値である。 - 特許庁
  • The control parameter and the process model are down-loaded to a control block, and the control block is completed.
    該制御パラメータ及びプロセスモデルは制御ブロックにダウンロードされ、制御ブロックを完成させる。 - 特許庁
  • Moreover, one data segment is processed and its parameter is updated to process the following data segment.
    そして、一つのデータセグメントが処理され、次のデータセグメントの処理のためにそのパラメータを更新する。 - 特許庁
  • Thereby, a feedback process of the pressure parameter in syringe replacement can be easily performed.
    これにより、シリンジ交換時における圧力パラメータのフィードバック処理を簡便に行うことができる。 - 特許庁
  • The value of the dispersion is created using the value of at least one process parameter and a dispersion function.
    分散の値は、少なくとも1つのプロセスパラメータの値及び分散関数を用いて生成される。 - 特許庁
  • To provide a lithography system in which an optimum process parameter can be set and a method for its operation.
    最適な工程パラメータ設定が可能なリソグラフィーシステム及びその運用方法を提供する。 - 特許庁
  • To perform a parameter compensation process so as to suppress deterioration of subjective quality in predictive quantization.
    予測量子化において主観品質の劣化を抑えるようにパラメータの補償処理を行うこと。 - 特許庁
  • To provide a sewage treatment process simulator capable of automatically setting a parameter necessary for modeling.
    モデル化に必要なパラメータ設定が自動的にできる下水処理プロセスシミュレータを提供する。 - 特許庁
  • To adaptively adjust the control parameter of a PI control unit for a process whose non-linearity is strong.
    非線形性の強いプロセスに対して、PI制御器の制御パラメータを適応的に調整すること。 - 特許庁
  • a statistical process involving a number of random variables depending on a variable parameter (which is usually time)
    可変的パラメータ（通常は時間）に依存するいくつかの確率変数を含む統計プロセス - 日本語WordNet
  • To determine which nodes of a wireless cellular communication network are involved in a parameter optimization process.
    無線セルラー通信ネットワークのいずれのノードがパラメータ最適化プロセスに関わるかを決定する。 - 特許庁
  • When the GUI process 11 is finished, a picture setting parameter preserving processing 112 preserves the picture setting parameter information of the coordinate, size and input value in the picture setting parameter data base 21 of a server 2 while utilizing the user identifier and GUI process name as the retrieval key.
    ＧＵＩプロセス１１の終了時に画面設定パラメータ保存処理１１２は、座標、サイズ、入力値の画面設定パラメータ情報をユーザ識別子とＧＵＩプロセス名を検索キーとし、サーバ２の画面設定パラメータデータベース２１に保存する。 - 特許庁
  • To provide a process model identification method and a system of creating parametric process model within a permitted range even in situations in which process model parameter convergence cannot be obtained.
    プロセスモデル・パラメーター収束が得られなかった状況においても許容範囲内のパラメトリック・プロセスモデルの生成を可能にするプロセスモデル同定方法及びシステムを提供する。 - 特許庁
  • In the starting process of the spindle motor 125, a parameter setting unit acquires a sense time corresponding to a power source voltage value acquired from an ADC from a parameter table.
    スピンドル・モータ１２５の起動処理において、パラメータ設定部は、ＡＤＣから取得した電源電圧値に対応するセンス・タイムを、パラメータ・テーブルから取得する。 - 特許庁
  • A parameter file (140) includes a common syntax for the application definition and a mapping module (150) decides mapping from a process to application by using the parameter file.
    パラメータファイル(140)は、アプリケーション定義のための共通の構文を含み、マッピングモジュール(150)は、該パラメータファイルを使用してプロセスからアプリケーションへのマッピングを決定する。 - 特許庁
  • The multi-function machine 10, when one parameter is selected following the selection of a filter process of one kind, displays the generated thumbnail according to the parameter.
    多機能機１０は、１種類のフィルタ処理の選択に続いて１つのパラメータが選択された場合に、そのパラメータに従って生成済みのサムネイルを表示する。 - 特許庁
  • The calculated PID parameter of the control model is finely adjusted in response to a request of a process, and can be set as a control parameter of a controller 13.
    算出した制御モデルのＰＩＤパラメータを、プロセスの要求に合わせて微調整し、制御器１３の制御パラメータとして設定することができる。 - 特許庁
  • To provide an inverting buffer circuit which controls an output operation point independently of a parameter of a transistor, even if the parameter varies according to a usage environment and a manufacturing process.
    使用環境や製造工程によりトランジスタのパラメータがばらついても、それに無関係に出力動作点を制御する反転バッファ回路の提供。 - 特許庁
  • The lithographic process of a device (152) is characterized by focus conditions, a set of selectable lithographic processing system parameter values and selectable reticle parameter values.
    デバイス（１５２）のリソグラフプロセスは、合焦条件および、選択可能なリソグラフプロセスシステムパラメータ値と選択可能なレチクルパラメータ値のセットによって特徴付けられる。 - 特許庁
  • The first bounded range has performance parameter fluctuation within a single production process, and the second bounded range has performance parameter fluctuation in different device design.
    第１の有界範囲は、単一の製造プロセス内のパフォーマンス・パラメータ変動を有し、第２の有界範囲は、異なるデバイス設計のパフォーマンス・パラメータ変動を有する。 - 特許庁
  • A parameter calculating unit 48 calculates a parameter value at each time through an interpolation process based on a parameter value at a telediastole stored in a telediastole memory 42 and a parameter value at a telesystole stored in a telesystole memory 44.
    パラメータ演算部４８は、拡張末期用メモリ４２に格納された拡張末期におけるパラメータ値と、収縮末期用メモリ４４に格納された収縮末期におけるパラメータ値に基づいて、各時刻のパラメータ値を補間処理により算出する。 - 特許庁
  • This measuring method of the viscera function parameter includes following processes: [1] A process for collecting gingival crevice liquid from mammal; [2] A process for determining biologically the numerical value of the viscera function parameter in the gingival crevice liquid collected in the process [1].
    下記［１］及び［２］に記載の工程を含む内臓機能パラメータの測定方法； ［１］哺乳動物より歯肉溝液を採取する工程： ［２］［１］で採取された歯肉溝液中の内臓機能パラメータの数値を生化学的に決定する工程。 - 特許庁
  • MEASUREMENT DEVICE FOR MEASURING PARAMETER OF BLADE ROTOR AND MEASUREMENT PROCESS FOR MEASURING WITH THE DEVICE
    ブレードロータのパラメータを測定するための測定機器とかかる機器により測定するための測定プロセス - 特許庁
  • To provide a device for compensating the fluctuation of a process and of an operation parameter in a CMOS integrated circuit.
    ＣＭＯＳ集積回路におけるプロセス及び動作パラメータの変動を補償するための装置の提供。 - 特許庁
  • The effectiveness of the germicidal process is determined from the parameter and the initial number of spores in the biological indicator.
    滅菌処理の効果は、このパラメータと、生物学的インジケータ内の胞子の初期数から測定される。 - 特許庁
  • To generate a tool parameter about a tool for manufacturing a sheet metal molding component by a molding process.
    成形プロセスによりシートメタル成形部品を製造するための工具についての工具パラメータを生成する。 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR PROCESS PARAMETER DETERMINATION METHOD, SYSTEM, AND PROGRAM THEREOF
    半導体プロセスパラメータ決定方法、半導体プロセスパラメータ決定システム、及び半導体プロセスパラメータ決定プログラム - 特許庁
  • Through the process ST1 in the figure (b), a conversion parameter master table (conversion PMT) is generated on an HDD.
    予め図２(b) の処理ＳＴ１でＨＤＤ２４に変換パラメータマスターテーブル（変換ＰＭＴ）を作成する。 - 特許庁
  • This parameter has no effect when you attach the debugger to an already running process.
    すでに実行しているプロセスに対してデバッガを割り当てる場合には、このパラメータは何の働きもしません。 - NetBeans
  • To facilitate setting and propriety confirmation of a parameter used for a recognition process of a three-dimensional object recognition device.
    三次元物体認識装置の認識処理に用いるパラメータの可否確認および設定を容易化する。 - 特許庁
  • METHOD OF DETERMINING PROCESS PARAMETER FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
    半導体装置のプロセスパラメータの決定方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
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